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    Resin and photoresist composition comprising the same
    2.
    发明授权
    Resin and photoresist composition comprising the same 有权
    树脂和包含其的光致抗蚀剂组合物

    公开(公告)号：US08481243B2

    公开(公告)日：2013-07-09

    申请号：US13345941

    申请日：2012-01-09

    申请人： Hyungjoo Kim ,  Akira Kamabuchi ,  Koji Ichikawa

    发明人： Hyungjoo Kim ,  Akira Kamabuchi ,  Koji Ichikawa

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

    CPC分类号： C08F20/38 ,  C07D327/04 ,  C08F228/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    摘要： The present invention provides a resin comprising a structural unit represented by the formula (aa): wherein R1 represents a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a hydrogen atom or a halogen atom, T1 represents a C4-C34 sultone ring group optionally having one or more substituents, Z1 represents a C1-C6 alkanediyl group optionally having one or more substituents, or a group represented by the formula (a-1): -A10X10-A11sX11-A12-  (a-1) wherein X10 and X11 each independently represents —O—, —NH—, —CO—, —CO—O—, —O—CO—, —CO—NH— or —NH—CO—, A10, A11 and A12 each independently represent a C1-C5 divalent aliphatic hydrocarbon group optionally having one or more substituents, and s represents 0 or 1, and Z2 represents a single bond or —CO—.

    摘要翻译： 本发明提供一种树脂，其包含由式（aa）表示的结构单元：其中R 1表示任选具有一个或多个卤素原子，氢原子或卤素原子的C 1 -C 6烷基，T 1表示C 4 -C 34磺内酯 任选具有一个或多个取代基的环基，Z1表示任选具有一个或多个取代基的C1-C6烷二基或由式（a-1）表示的基团：-A10X10-A11sX11-A12-（a-1）其中 X10和X11各自独立地表示-O-，-NH-，-CO-，-CO-O-，-O-CO-，-CO-NH-或-NH-CO-，A10，A11和A12各自独立地表示 任选具有一个或多个取代基的C 1 -C 5二价脂族烃基，s表示0或1，Z 2表示单键或-CO-。

    Resin and photoresist composition comprising the same
    3.
    发明授权
    Resin and photoresist composition comprising the same 有权
    树脂和包含其的光致抗蚀剂组合物

    公开(公告)号：US09360754B2

    公开(公告)日：2016-06-07

    申请号：US13290618

    申请日：2011-11-07

    申请人： Koji Ichikawa ,  Masahiko Shimada ,  Takashi Nishimura ,  Akira Kamabuchi ,  Hyungjoo Kim ,  Mitsuyoshi Ochiai

    发明人： Koji Ichikawa ,  Masahiko Shimada ,  Takashi Nishimura ,  Akira Kamabuchi ,  Hyungjoo Kim ,  Mitsuyoshi Ochiai

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F28/06 ,  C08F20/58 ,  C07D327/04 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D327/04 ,  C08F20/58 ,  C08F28/06 ,  G03F7/2041

    摘要： The present invention provides a resin comprising a structural unit represented by the formula (aa): wherein T1 represents a C4-C34 sultone ring group optionally having one or more substituents, X2 represents —O— or —N(Rc)—, Rc represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group, when X2 is —O—, Z1 represents *—X1—, *—X3—CO—O—X1—, *—X3—CO—N(Rc)—X1—, *—X3—O—CO—X1— or *—X3—N(Rc)—CO—X1—, when X2 is —N(Rc)—, Z1 represents *—X1—, *—X1—O—X3—, *—X1—CO—, *—X1—X4—CO—X3—, *—X1—CO—X4—X3—, *—X1—X4—CO—X3—CO— or *—X1—CO—X4—X3—CO—, X1 and X3 independently each represent a C1-C6 divalent aliphatic hydrocarbon group, X4 represents —O— or —N(Rc)—, * represents a binding position to X2, and R1 represents a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a hydrogen atom or a halogen atom.

    摘要翻译： 本发明提供一种树脂，其包含由式（aa）表示的结构单元：其中T1表示任选具有一个或多个取代基的C 4 -C 34磺内酯环基团，X 2表示-O-或-N（R c） - ，R c表示 氢原子或C1-C6烷基，当X2为-O-时，Z1为* -X1-，* -X3-CO-O-X1-，* -X3-CO-N（Rc）-X1-， * -X3-O-CO-X1-或* -X3-N（Rc）-CO-X1-，当X2为-N（Rc）时，Z1表示* -X1-，* -X1-O-X3- ，* -X1-CO-，* -X1-X4-CO-X3-，* -X1-CO-X4-X3-，* -X1-X4-CO-X3-CO-或* -X1-CO-X4 -X3-CO-，X1和X3各自独立地表示C1-C6二价脂族烃基，X4表示-O-或-N（Rc） - ，*表示与X2的结合位置，R1表示C1-C6烷基 具有一个或多个卤素原子的基团，氢原子或卤素原子。

    Resist composition and method for producing resist pattern
    4.
    发明授权
    Resist composition and method for producing resist pattern 有权
    抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案的制造方法

    公开(公告)号：US08685618B2

    公开(公告)日：2014-04-01

    申请号：US13552044

    申请日：2012-07-18

    申请人： Koji Ichikawa ,  Akira Kamabuchi

    发明人： Koji Ichikawa ,  Akira Kamabuchi

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

    CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A resist composition having; (A1) a resin having a structural unit represented by the formula (I), (A2) a resin having a structural unit represented by the formula (II) and being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid and not including the structural unit represented by the formula (I) and (B) an acid generator. wherein R1, A1, A13, X12, A14, R3 and ring X1 are defined in the specification.

    摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，具有： （A1）具有由式（I）表示的结构单元的树脂，（A2）具有由式（II）表示的结构单元并且在碱性水溶液中不溶或难溶，但变得可溶于碱的树脂 通过酸的作用而不包括由式（I）表示的结构单元和（B）酸产生剂的水溶液。 其中R1，A1，A13，X12，A14，R3和X1定义在本说明书中。

    Resin, resist composition and method for producing resist pattern
    6.
    发明授权
    Resin, resist composition and method for producing resist pattern 有权
    树脂，抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案的制造方法

    公开(公告)号：US08592129B2

    公开(公告)日：2013-11-26

    申请号：US12872817

    申请日：2010-08-31

    申请人： Koji Ichikawa ,  Akira Kamabuchi ,  Yuichi Mukai

    发明人： Koji Ichikawa ,  Akira Kamabuchi ,  Yuichi Mukai

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F26/06

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F220/60 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041

    摘要： A resin comprises a structural unit derived from a compound represented by the formula (I); wherein R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group that optionally has one or more halogen atoms; X1 represents a C2 to C36 heterocyclic group, one or more hydrogen atoms contained in the heterocyclic group may be replaced by a halogen atom, a hydroxy group, a C1 to C24 hydrocarbon group, a C1 to C12 alkoxyl group, a C2 to C4 acyl group, or a C2 to C4 acyloxy group, and one or more —CH2— contained in the heterocyclic group may be replaced by —CO— or —O—.

    摘要翻译： 树脂包含衍生自由式（I）表示的化合物的结构单元; 其中R1表示任选具有一个或多个卤素原子的氢原子，卤素原子或C1-C6烷基; X1表示C2〜C36杂环基，杂环基中含有的一个或多个氢原子可以被卤素原子，羟基，C1〜C24烃基，C1〜C12烷氧基，C2〜C4酰基 基团或C2〜C4酰氧基，杂环基中所含的一个或多个-CH 2可以被-CO-或-O-代替。

    RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
    7.
    发明申请
    RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN 有权
    树脂，耐蚀组合物和生产耐火图案的方法

    公开(公告)号：US20110053082A1

    公开(公告)日：2011-03-03

    申请号：US12872817

    申请日：2010-08-31

    申请人： Koji Ichikawa ,  Akira Kamabuchi ,  Yuichi Mukai

    发明人： Koji Ichikawa ,  Akira Kamabuchi ,  Yuichi Mukai

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F26/06 ,  C08F20/28 ,  C08F28/06 ,  C08F24/00

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F220/60 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041

    摘要： A resin comprises a structural unit derived from a compound represented by the formula (I); wherein R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group that optionally has one or more halogen atoms; X1 represents a C2 to C36 heterocyclic group, one or more hydrogen atoms contained in the heterocyclic group may be replaced by a halogen atom, a hydroxy group, a C1 to C24 hydrocarbon group, a C1 to C12 alkoxyl group, a C2 to C4 acyl group, or a C2 to C4 acyloxy group, and one or more —CH2— contained in the heterocyclic group may be replaced by —CO— or —O—.

    摘要翻译： 树脂包含衍生自由式（I）表示的化合物的结构单元; 其中R1表示任选具有一个或多个卤素原子的氢原子，卤素原子或C1-C6烷基; X1表示C2〜C36杂环基，杂环基中含有的一个或多个氢原子可以被卤素原子，羟基，C1〜C24烃基，C1〜C12烷氧基，C2〜C4酰基 基团或C2〜C4酰氧基，杂环基中所含的一个或多个-CH 2可以被-CO-或-O-代替。

    CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION
    8.
    发明申请
    CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION 有权
    化学放大正电阻组合物

    公开(公告)号：US20100010129A1

    公开(公告)日：2010-01-14

    申请号：US12490828

    申请日：2009-06-24

    申请人： Junji Shigematsu ,  Kunishige Edamatsu ,  Takayuki Miyagawa ,  Akira Kamabuchi

    发明人： Junji Shigematsu ,  Kunishige Edamatsu ,  Takayuki Miyagawa ,  Akira Kamabuchi

    IPC分类号： C08K5/42 ,  C08L37/00 ,  C08L55/00

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046

    摘要： The present invention provides a chemically amplified resist composition comprising: a resin (A) which itself is insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becomes soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid and which comprises a structural unit having an acid-labile group in a side chain and a structural unit represented by the formula (I): wherein R1 represents a hydrogen atom or a methyl group, ring X1 represents an unsubstituted or substituted C3-C30 cyclic hydrocarbon group having —COO— and k represents an integer of 1 to 4, a resin (B) which comprises a structural unit represented by the formula (II): wherein R2 represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group, and an acid generator.

    摘要翻译： 本发明提供了一种化学放大抗蚀剂组合物，其包含：本身在碱性水溶液中不溶或难溶于但在酸性溶液中溶于碱溶液的树脂（A），其包含具有 侧链中的酸不稳定基团和由式（I）表示的结构单元：其中R1表示氢原子或甲基，环X1表示未取代或取代的具有-COO-和C3的C 3 -C 30环烃基 表示1〜4的整数，由式（II）表示的结构单元构成的树脂（B）：其中R2表示氢原子，甲基或三氟甲基，酸产生剂。

    Succinimide derivative, process for production and use thereof
    9.
    发明授权
    Succinimide derivative, process for production and use thereof 失效
    琥珀酰亚胺衍生物，其制备方法和用途

    公开(公告)号：US5965748A

    公开(公告)日：1999-10-12

    申请号：US54476

    申请日：1998-04-03

    申请人： Akira Kamabuchi ,  Naoki Takeyama ,  Jun Tomioka ,  Haruyoshi Osaki

    发明人： Akira Kamabuchi ,  Naoki Takeyama ,  Jun Tomioka ,  Haruyoshi Osaki

    IPC分类号： C07D207/46

    CPC分类号： C07D207/46 ,  Y02P20/55

    摘要： N-(10-camphorsulfonyloxy)-succinimide represented by the formula (I): ##STR1## is provided, which can be produced by reacting N-hydroxysuccinimide with 10-camphorsulfonic acid, a salt thereof or a halide thereof. Using the compound as an acid generating agent, a resist composition can be obtained by including an alkali-soluble resin having a protective group removable by the action of an acid; and the resist composition is excellent in heat resistance, ratio of residual film thickness after developing, uniformity of film thickness, profile, photospeed and resolution and is improved in the time delay effect and attachment of pattern.

    摘要翻译： 提供由式（I）表示的N-（10-樟脑磺酰氧基） - 琥珀酰亚胺，其可以通过N-羟基琥珀酰亚胺与10-樟脑磺酸，其盐或其卤化物反应制备。 使用该化合物作为酸发生剂，可以通过包括具有通过酸的作用除去的保护基的碱溶性树脂来获得抗蚀剂组合物; 并且抗蚀剂组合物具有优异的耐热性，显影后的残留膜厚度的比例，膜厚度的均匀性，轮廓，感光度和分辨率，并且在时间延迟效应和图案的附着方面得到改善。

    Compound, resin and photoresist composition
    10.
    发明授权
    Compound, resin and photoresist composition 有权
    化合物，树脂和光致抗蚀剂组合物

    公开(公告)号：US08697882B2

    公开(公告)日：2014-04-15

    申请号：US13175072

    申请日：2011-07-01

    申请人： Hyungjoo Kim ,  Akira Kamabuchi ,  Yuichi Mukai

    发明人： Hyungjoo Kim ,  Akira Kamabuchi ,  Yuichi Mukai

    IPC分类号： C07D291/00 ,  C07D275/02 ,  C07D275/04 ,  C07D275/06 ,  C07C317/30 ,  C07D291/02

    CPC分类号： C07D291/02 ,  C07C317/30 ,  C07D275/02 ,  C07D275/04 ,  C07D275/06 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

    摘要： The present invention provides a compound represented by the formula (I): wherein R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group which may have one or more halogen atoms, A1 represents a divalent connecting group, X1 represents a C2-C36 heterocyclic group and one or more —CH2— in the C2-C36 heterocyclic group can be replaced by —CO— or —O—, R2 is independently in each occurrence a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C24 hydrocarbon group, a C1-C12 alkoxy group, a C2-C4 acyl group or a C2-C4 acyloxy group, and m represents an integer of 0 to 10.

    摘要翻译： 本发明提供由式（I）表示的化合物：其中R1表示氢原子，卤素原子或可具有一个或多个卤素原子的C1-C6烷基，A1表示二价连接基团，X1表示 C2-C36杂环基和C2-C36杂环基中的一个或多个-CH2-可以被-CO-或-O-替代，R2在每次出现时独立地为卤素原子，羟基，C1-C24烃 基团，C 1 -C 12烷氧基，C 2 -C 4酰基或C 2 -C 4酰氧基，m表示0〜10的整数。