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    Nanowire interconnection and nano-scale device applications
    1.
    发明授权
    Nanowire interconnection and nano-scale device applications 失效
    纳米线互连和纳米级器件应用

    公开(公告)号：US07307271B2

    公开(公告)日：2007-12-11

    申请号：US10982051

    申请日：2004-11-05

    申请人： M. Saif Islam ,  Philip J. Kuekes ,  Shih-Yuan Wang ,  Duncan R. Stewart ,  Shashank Sharma

    发明人： M. Saif Islam ,  Philip J. Kuekes ,  Shih-Yuan Wang ,  Duncan R. Stewart ,  Shashank Sharma

    IPC分类号： H01L29/06 ,  H01L31/036

    CPC分类号： H01L29/0665 ,  B82Y10/00 ,  B82Y20/00 ,  H01L29/0673 ,  H01L29/0676 ,  H01L29/068 ,  H01S5/0261 ,  H01S5/041 ,  H01S5/183 ,  H01S5/341 ,  H01S5/3412 ,  H01S5/3428 ,  Y10S977/762 ,  Y10S977/763 ,  Y10S977/764 ,  Y10S977/938

    摘要： A nano-colonnade structure-and methods of fabrication and interconnection thereof utilize a nanowire column grown nearly vertically from a (111) horizontal surface of a semiconductor layer to another horizontal surface of another layer to connect the layers. The nano-colonnade structure includes a first layer having the (111) horizontal surface; a second layer having the other horizontal surface; an insulator support between the first layer and the second layer that separates the first layer from the second layer. A portion of the second layer overhangs the insulator support, such that the horizontal surface of the overhanging portion is spaced from and faces the (111) horizontal surface of the first layer. The structure further includes a nanowire column extending nearly vertically from the (111) horizontal surface to the facing horizontal surface, such that the nanowire column connects the first layer to the second layer.

    摘要翻译： 纳米柱廊结构及其制造和互连方法利用从半导体层的（111）水平表面几乎垂直地生长到另一层的另一水平表面的纳米线柱，以连接这些层。 纳米柱廊结构包括具有（111）水平表面的第一层; 具有另一水平表面的第二层; 第一层和第二层之间的绝缘体支撑，其将第一层与第二层分离。 第二层的一部分突出于绝缘体支撑件上，使得伸出部分的水平表面与第一层的（111）水平表面间隔开并面对第一层的（111）水平表面。 该结构还包括从（111）水平表面几乎垂直延伸到相对的水平表面的纳米线列，使得纳米线列将第一层连接到第二层。

    Nanoscale latch-array processing engines
    5.
    发明授权
    Nanoscale latch-array processing engines 有权
    纳米级闩锁阵列处理引擎

    公开(公告)号：US07227379B1

    公开(公告)日：2007-06-05

    申请号：US11192197

    申请日：2005-07-27

    申请人： Gregory S. Snider ,  Philip J. Kuekes ,  Duncan R. Stewart

    发明人： Gregory S. Snider ,  Philip J. Kuekes ,  Duncan R. Stewart

    IPC分类号： H03K19/173 ,  G06F7/38

    CPC分类号： B82Y10/00 ,  G06N99/007 ,  H01L27/101

    摘要： One embodiment of the present invention is an array of nanoscale latches interconnected by a nanowire bus to form a latch array. Each nanoscale latch in the nanoscale-latch array serves as a nanoscale register, and is driven by a nanoscale control line. Primitive operations for the latch array can be defined as sequences of one or more inputs to one or more of the nanowire data bus and nanoscale control lines. In various latch-array embodiments of the present invention, information can be transferred from one nanoscale latch to another nanoscale latch in a controlled fashion, and sequences of information-transfer operations can be devised to implement arbitrary Boolean logic operations and operators, including NOT, AND, OR, XOR, NOR, NAND, and other such Boolean logic operators and operations, as well as input and output functions. Nanoscale-latch arrays can be combined and interconnected in an almost limitless number of different ways to construct arbitrarily complex, sequential, parallel, or both parallel and sequential computing engines that represent additional embodiments of the present invention.

    摘要翻译： 本发明的一个实施例是通过纳米线总线互连以形成锁存阵列的纳米级锁存器的阵列。 纳米尺度锁存阵列中的每个纳米级锁存器用作纳米尺度寄存器，并由纳米尺度控制线驱动。 锁存阵列的原始操作可以被定义为一个或多个输入到纳米线数据总线和纳米尺度控制线中的一个或多个的序列。 在本发明的各种锁存阵列实施例中，可以以受控的方式将信息从一个纳米级锁存器传送到另一个纳米级锁存器，并且可以设计信息传输操作的序列以实现任意的布尔逻辑运算，并且运算符包括NOT， AND，OR，XOR，NOR，NAND和其他这样的布尔逻辑运算符和操作，以及输入和输出功能。 纳秒级锁存器阵列可以以几乎无限数量的不同方式组合和互连，以构造代表本发明附加实施例的任意复杂，顺序，并行或并行和顺序的计算引擎。

    Contact lithography apparatus and method
    6.
    发明授权
    Contact lithography apparatus and method 失效
    接触光刻设备和方法

    公开(公告)号：US07768628B2

    公开(公告)日：2010-08-03

    申请号：US11548823

    申请日：2006-10-12

    申请人： Wei Wu ,  Shih-Yuan Wang ,  Duncan R. Stewart ,  R. Stanley Williams ,  Zhaoning Yu ,  Inkyu Park

    发明人： Wei Wu ,  Shih-Yuan Wang ,  Duncan R. Stewart ,  R. Stanley Williams ,  Zhaoning Yu ,  Inkyu Park

    IPC分类号： G03B27/02 ,  G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/20 ,  G03B27/22 ,  H01L21/00

    CPC分类号： G03F7/7035

    摘要： A contact lithography apparatus and a method use one or both of spacers and a mesa to facilitate pattern transfer. The apparatus and the method include one or both of a spacer that provides a spaced apart orientation of lithographic elements, such as a patterning tool and a substrate, when in mutual contact with the spacer and a mesa between the patterning tool and the substrate. The mesa supports a contact surface of one or both of the mold and the substrate. One or both of the spacers and the mesa may be non-uniform. One or more of the patterning tool, the substrate and the spacer is deformable, such that deformation thereof facilitates the pattern transfer.

    摘要翻译： 接触式光刻设备和方法使用间隔物和台面中的一个或两个以便于图案转印。 该装置和方法包括当与间隔物相互接触并且在图案形成工具和衬底之间的台面时提供间隔开的光刻元件取向的间隔物中的一个或两个，诸如图案形成工具和衬底。 台面支撑模具和基板之一或两者的接触表面。 间隔物和台面中的一个或两个可能是不均匀的。 图案形成工具，衬底和间隔件中的一个或多个可变形，使得其变形有利于图案转印。

    Contact lithography apparatus and method
    7.
    发明申请
    Contact lithography apparatus and method 失效
    接触光刻设备和方法

    公开(公告)号：US20080087636A1

    公开(公告)日：2008-04-17

    申请号：US11548823

    申请日：2006-10-12

    申请人： Wei Wu ,  Shih-Yuan Wang ,  Duncan R. Stewart ,  R. Stanley Williams ,  Zhaoning Yu ,  Inkyu Park

    发明人： Wei Wu ,  Shih-Yuan Wang ,  Duncan R. Stewart ,  R. Stanley Williams ,  Zhaoning Yu ,  Inkyu Park

    IPC分类号： B44C1/22 ,  B29D11/00

    CPC分类号： G03F7/7035

    摘要： A contact lithography apparatus and a method use one or both of spacers and a mesa to facilitate pattern transfer. The apparatus and the method include one or both of a spacer that provides a spaced apart orientation of lithographic elements, such as a patterning tool and a substrate, when in mutual contact with the spacer and a mesa between the patterning tool and the substrate. The mesa supports a contact surface of one or both of the mold and the substrate. One or both of the spacers and the mesa may be non-uniform. One or more of the patterning tool, the substrate and the spacer is deformable, such that deformation thereof facilitates the pattern transfer.

    摘要翻译： 接触式光刻设备和方法使用间隔物和台面中的一个或两个以便于图案转印。 该装置和方法包括当与间隔物相互接触并且在图案形成工具和衬底之间的台面时提供间隔开的光刻元件取向的间隔物中的一个或两个，诸如图案形成工具和衬底。 台面支撑模具和基板之一或两者的接触表面。 间隔物和台面中的一个或两个可能是不均匀的。 图案形成工具，衬底和间隔件中的一个或多个可变形，使得其变形有利于图案转印。

    Controllable surface enhanced Raman spectroscopy
    8.
    发明授权
    Controllable surface enhanced Raman spectroscopy 有权
    可控表面增强拉曼光谱

    公开(公告)号：US07528948B2

    公开(公告)日：2009-05-05

    申请号：US11493477

    申请日：2006-07-25

    申请人： Alexandre Bratkovski ,  Duncan R. Stewart

    发明人： Alexandre Bratkovski ,  Duncan R. Stewart

    IPC分类号： G01J3/44 ,  G01N21/65

    CPC分类号： G01N21/658

    摘要： An apparatus and related methods for facilitating surface-enhanced Raman spectroscopy (SERS) is described. The apparatus comprises a SERS-active structure near which a plurality of analyte molecules are disposed and an actuation device in actuable communication with the SERS-active structure to deform the SERS-active structure while the analyte molecules are disposed therenear. The deformation of the SERS-active structure varies an intensity of radiation Raman-scattered from the analyte molecules.

    摘要翻译： 描述了用于促进表面增强拉曼光谱（SERS）的装置和相关方法。 该装置包括SERS-活性结构，多个分析物分子被设置在该SERS-活性结构下，以及致动装置，其与SERS-活性结构致动连接，以使SERS活性结构变形，同时分析物分子在其周围设置。 SERS活性结构的变形改变了从分析物分子散射的辐射强度。

    Controllable surface enhanced Raman spectroscopy
    9.
    发明申请
    Controllable surface enhanced Raman spectroscopy 有权
    可控表面增强拉曼光谱

    公开(公告)号：US20080024776A1

    公开(公告)日：2008-01-31

    申请号：US11493477

    申请日：2006-07-25

    申请人： Alexandre Bratkovski ,  Duncan R. Stewart

    发明人： Alexandre Bratkovski ,  Duncan R. Stewart

    IPC分类号： G01J3/44 ,  G01N21/65

    CPC分类号： G01N21/658

    摘要： An apparatus and related methods for facilitating surface-enhanced Raman spectroscopy (SERS) is described. The apparatus comprises a SERS-active structure near which a plurality of analyte molecules are disposed and an actuation device in actuable communication with the SERS-active structure to deform the SERS-active structure while the analyte molecules are disposed therenear. The deformation of the SERS-active structure varies an intensity of radiation Raman-scattered from the analyte molecules.

    摘要翻译： 描述了用于促进表面增强拉曼光谱（SERS）的装置和相关方法。 该装置包括SERS-活性结构，多个分析物分子被设置在该SERS-活性结构下，以及致动装置，其与SERS-活性结构致动连接，以使SERS活性结构变形，同时分析物分子在其周围设置。 SERS活性结构的变形改变了从分析物分子散射的辐射强度。