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    Method for Producing an Organic Electronic Component, and Organic Electronic Component
    1.
    发明申请
    Method for Producing an Organic Electronic Component, and Organic Electronic Component 审中-公开
    有机电子元件的制造方法和有机电子元件

    公开(公告)号：US20110070456A1

    公开(公告)日：2011-03-24

    申请号：US12922833

    申请日：2009-06-17

    申请人： Marc Philippens ,  Richard Scheicher ,  Andreas Lovich ,  Ansgar Fischer ,  Martin Muller ,  Karsten Heuser ,  Ralph Paetzold

    发明人： Marc Philippens ,  Richard Scheicher ,  Andreas Lovich ,  Ansgar Fischer ,  Martin Muller ,  Karsten Heuser ,  Ralph Paetzold

    IPC分类号： B32B37/14 ,  B32B27/32

    CPC分类号： H01L51/0097 ,  H01L51/524 ,  H01L51/5268 ,  H01L2251/5338 ,  H01L2251/5361 ,  H01L2251/566 ,  Y02E10/549 ,  Y02P70/521 ,  Y10T428/31938

    摘要： A method for producing an organic electronic component comprises, in particular, the following steps: A) producing at least one functional layer stack (10) with the following substeps: A1) providing a flexible first substrate (1), A2) applying at least one organic layer (2) in large-area fashion on the first substrate (1) by means of a coil coating plant (90), and A3) singulating the first substrate (1) with the at least one organic layer (2) into a plurality of functional layer stacks (10); B) providing a second substrate (5), which has a lower flexibility and a higher impermeability with respect to moisture and oxygen than the first substrate (1); and C) applying the at least one of the plurality of the functional layer stacks (10) with a surface (11) of the first substrate (1) remote from the organic layer (2) on the second substrate (5).

    摘要翻译： 一种制造有机电子部件的方法特别包括以下步骤：A）产生具有以下子步骤的至少一个功能层堆叠（10）：A1）提供柔性第一基板（1），A2）至少施加 一个有机层（2）以大面积方式通过线圈涂覆设备（90）在第一基底（1）上，以及A3）将具有至少一个有机层（2）的第一基底（1）分成 多个功能层堆叠（10）; B）提供第二衬底（5），其具有比第一衬底（1）更低的柔性和相对于水分和氧气的更高的不渗透性; 以及C）将所述多个所述功能层堆叠（10）中的所述至少一个与所述第一基板（1）的远离所述有机层（2）的表面（11）施加在所述第二基板（5）上。

    Arrangement for Holding a Substrate in a Material Deposition Apparatus
    3.
    发明申请
    Arrangement for Holding a Substrate in a Material Deposition Apparatus 有权
    用于在材料沉积装置中保持基板的布置

    公开(公告)号：US20120178190A1

    公开(公告)日：2012-07-12

    申请号：US13262776

    申请日：2010-03-29

    申请人： Johannes Krijne ,  Erwin Eiling ,  Karl-Heinz Hohaus ,  Wolfgang Goergen ,  Andreas Lovich ,  Marc Philippens ,  Richard Scheicher ,  Ansgar Fischer ,  Martin Mueller

    发明人： Johannes Krijne ,  Erwin Eiling ,  Karl-Heinz Hohaus ,  Wolfgang Goergen ,  Andreas Lovich ,  Marc Philippens ,  Richard Scheicher ,  Ansgar Fischer ,  Martin Mueller

    IPC分类号： H01L51/56 ,  B05D3/12 ,  B05C13/02

    CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50

    摘要： An arrangement (1) for holding a substrate (10) in a material deposition apparatus, which substrate (10) has a deposition side (10a) upon which material (M) is to be deposited, and which arrangement (1) comprises: a shadow mask (20) comprising a number of deposition openings (Di); a support structure (30) comprising a number of surround openings (Si); and a support structure holding means (6) for holding the support mask (30) and/or a substrate holding means (5) for holding the substrate (10), such that the support structure (30) is on the same side as the deposition side (10a) of the substrate (10), and the shadow mask (20) is positioned between the substrate (10) and the support structure (30) such that at least one deposition opening (Di) of the shadow mask (10) lies within a corresponding surround opening (Si) of the support structure (30).

    摘要翻译： 一种用于将材料（10）保持在材料沉积装置中的装置（1），所述衬底（10）具有要沉积材料（M）的沉积侧（10a），并且所述装置（1）包括： 包括多个沉积开口（Di）的荫罩（20）; 包括多个环绕开口（Si）的支撑结构（30）; 以及用于保持支撑掩模（30）的支撑结构保持装置（6）和/或用于保持基板（10）的基板保持装置（5），使得支撑结构（30）位于与 所述基板（10）的沉积侧（10a）和所述荫罩（20）位于所述基板（10）和所述支撑结构（30）之间，使得所述荫罩（10）的至少一个沉积开口（Di） ）位于支撑结构（30）的相应环绕开口（Si）内。

    Arrangement for holding a substrate in a material deposition apparatus
    4.
    发明授权
    Arrangement for holding a substrate in a material deposition apparatus 有权
    用于将材料保持在材料沉积设备中的布置

    公开(公告)号：US08808402B2

    公开(公告)日：2014-08-19

    申请号：US13262776

    申请日：2010-03-29

    申请人： Johannes Krijne ,  Erwin Eiling ,  Karl-Heinz Hohaus ,  Wolfgang Goergen ,  Andreas Lovich ,  Marc Philippens ,  Richard Scheicher ,  Ansgar Fischer ,  Martin Mueller

    发明人： Johannes Krijne ,  Erwin Eiling ,  Karl-Heinz Hohaus ,  Wolfgang Goergen ,  Andreas Lovich ,  Marc Philippens ,  Richard Scheicher ,  Ansgar Fischer ,  Martin Mueller

    IPC分类号： H01L51/40

    CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50

    摘要： An arrangement (1) for holding a substrate (10) in a material deposition apparatus, which substrate (10) has a deposition side (10a) upon which material (M) is to be deposited, and which arrangement (1) comprises: a shadow mask (20) comprising a number of deposition openings (Di); a support structure (30) comprising a number of surround openings (Si); and a support structure holding means (6) for holding the support mask (30) and/or a substrate holding means (5) for holding the substrate (10), such that the support structure (30) is on the same side as the deposition side (10a) of the substrate (10), and the shadow mask (20) is positioned between the substrate (10) and the support structure (30) such that at least one deposition opening (Di) of the shadow mask (10) lies within a corresponding surround opening (Si) of the support structure (30).

    摘要翻译： 一种用于将材料（10）保持在材料沉积装置中的装置（1），所述衬底（10）具有要沉积材料（M）的沉积侧（10a），并且所述装置（1）包括： 包括多个沉积开口（Di）的荫罩（20）; 包括多个环绕开口（Si）的支撑结构（30）; 以及用于保持支撑掩模（30）的支撑结构保持装置（6）和/或用于保持基板（10）的基板保持装置（5），使得支撑结构（30）位于与 所述基板（10）的沉积侧（10a）和所述荫罩（20）位于所述基板（10）和所述支撑结构（30）之间，使得所述荫罩（10）的至少一个沉积开口（Di） ）位于支撑结构（30）的相应环绕开口（Si）内。