利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

28 条记录 (耗时 0.02 秒)

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    4.
    发明授权
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US07265813B2

    公开(公告)日：2007-09-04

    申请号：US11022950

    申请日：2004-12-28

    申请人： Martijn Houkes ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox

    发明人： Martijn Houkes ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox

    IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58

    CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70725

    摘要： A lithographic apparatus includes a first movable element (such as an immersion liquid supply system), which is in operation in contact with a surface of a second movable element (such as a substrate table). Further, the lithographic apparatus includes a second element controller (such as a substrate table controller) to control a position quantity of the second movable element. Disturbance forces caused by, e.g., movements of the first and second movable elements with respect to each other, due to capillary forces disturb a position of the first and second movable elements. To at least partly correct a position of the second movable element due to such disturbance forces, the lithographic apparatus includes a feedforward control path to provide a disturbance force feedforward signal to the second element controller, the feedforward control path including a disturbance force estimator to estimate a disturbance force from a position quantity of the first movable element.

    摘要翻译： 光刻设备包括与第二可移动元件（例如基板台）的表面接触的第一可移动元件（例如浸没液体供应系统）。 此外，光刻设备包括用于控制第二可移动元件的位置量的第二元件控制器（诸如基板台控制器）。 由于毛细作用力引起的第一和第二可移动元件相对于彼此的运动引起的干扰力会扰乱第一和第二可移动元件的位置。 为了由于这种干扰力至少部分地校正第二可移动元件的位置，光刻设备包括前馈控制路径以向第二元件控制器提供干扰力前馈信号，前馈控制路径包括扰动力估计器以估计 来自第一可移动元件的位置量的扰动力。