公开(公告)号：US09625828B2

公开(公告)日：2017-04-18

申请号：US13022319

申请日：2011-02-07

申请人： Michel Riepen ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Sandra Van Der Graaf ,  Rogier Hendrikus Magdalena Cortie ,  Takeshi Kaneko ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven ,  Fabrizio Evangelista ,  David Bessems ,  Cornelius Maria Rops ,  Adrianus Marinus Verdonck ,  Nicolaas Ten Kate

发明人： Michel Riepen ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Sandra Van Der Graaf ,  Rogier Hendrikus Magdalena Cortie ,  Takeshi Kaneko ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven ,  Fabrizio Evangelista ,  David Bessems ,  Cornelius Maria Rops ,  Adrianus Marinus Verdonck ,  Nicolaas Ten Kate

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A fluid handling structure for a lithographic apparatus, the fluid handling structure successively having, at a boundary from a space configured to comprise immersion fluid to a region external to the fluid handling structure: an extractor having at least one opening arranged in a first line that, in use, is directed towards a substrate and/or a table; and a liquid manipulator on a surface that, in use, faces the substrate and/or table to reduce the chance of droplets on the surface from coalescing.

公开(公告)号：US20110194084A1

公开(公告)日：2011-08-11

申请号：US13022319

申请日：2011-02-07

申请人： Michel RIEPEN ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Sandra Van Der Graaf ,  Rogier Hendrikus Magdalena Cortie ,  Takeshi Kaneko ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven ,  Fabrizio Evangelista ,  David Bessems ,  Cornelius Maria Rops ,  Adrianus Marinus Verdonck ,  Nicolaas Ten Kate

发明人： Michel RIEPEN ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Sandra Van Der Graaf ,  Rogier Hendrikus Magdalena Cortie ,  Takeshi Kaneko ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven ,  Fabrizio Evangelista ,  David Bessems ,  Cornelius Maria Rops ,  Adrianus Marinus Verdonck ,  Nicolaas Ten Kate

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A fluid handling structure for a lithographic apparatus, the fluid handling structure successively having, at a boundary from a space configured to comprise immersion fluid to a region external to the fluid handling structure: an extractor having at least one opening arranged in a first line that, in use, is directed towards a substrate and/or a table; and a liquid manipulator on a surface that, in use, faces the substrate and/or table to reduce the chance of droplets on the surface from coalescing.

摘要翻译： 一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构在从被构造成包括浸没流体到所述流体处理结构外部的区域的空间的边界处连续地具有：提取器，其具有布置在第一行中的至少一个开口， 在使用中指向基底和/或桌子; 以及在使用中面向基板和/或表的表面上的液体操纵器，以减少表面上的液滴的聚结机会。

公开(公告)号：US20110096305A1

公开(公告)日：2011-04-28

申请号：US12879852

申请日：2010-09-10

申请人： Takeshi KANEKO ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Matthias Kruizinga

发明人： Takeshi KANEKO ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Matthias Kruizinga

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70733

摘要： An immersion lithographic apparatus that includes a substrate table, a fluid handling structure and a swap table. The substrate table is configured to support a substrate. The fluid handling structure is configured to supply and confine immersion liquid to a space defined between a projection system and the substrate table, the substrate, or both. The swap table has a shutter surface configured to be under the fluid handling structure during, for example, swap of the substrate on the substrate table. In use, a transfer surface between a surface of the substrate table and a surface of the swap table is moved under the fluid handling structure to help stop escaping immersion liquid. A shutter member and a method are also disclosed.

摘要翻译： 一种浸没式光刻设备，包括基板台，流体处理结构和互换台。 衬底台被配置为支撑衬底。 流体处理结构被配置为将浸没液体供应并限制在在投影系统和衬底台，衬底或两者之间限定的空间中。 交换台具有构造成在例如衬底台上的衬底的交换处于流体处理结构之下的快门表面。 在使用中，在基板台的表面和交换台的表面之间的转印面在流体处理结构下方移动以帮助停止逸出的浸没液。 还公开了一种快门构件和方法。

公开(公告)号：US08599356B2

公开(公告)日：2013-12-03

申请号：US12879852

申请日：2010-09-10

申请人： Takeshi Kaneko ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Matthias Kruizinga

发明人： Takeshi Kaneko ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Matthias Kruizinga

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70733

摘要： An immersion lithographic apparatus that includes a substrate table, a fluid handling structure and a swap table. The substrate table is configured to support a substrate. The fluid handling structure is configured to supply and confine immersion liquid to a space defined between a projection system and the substrate table, the substrate, or both. The swap table has a shutter surface configured to be under the fluid handling structure during, for example, swap of the substrate on the substrate table. In use, a transfer surface between a surface of the substrate table and a surface of the swap table is moved under the fluid handling structure to help stop escaping immersion liquid. A shutter member and a method are also disclosed.

摘要翻译： 一种浸没式光刻设备，包括基板台，流体处理结构和互换台。 衬底台被配置为支撑衬底。 流体处理结构被配置为将浸没液体供应并限制在在投影系统和衬底台，衬底或两者之间限定的空间中。 交换台具有构造成在例如衬底台上的衬底的交换处于流体处理结构之下的快门表面。 在使用中，在基板台的表面和交换台的表面之间的转印面在流体处理结构下方移动以帮助停止逸出的浸没液。 还公开了一种快门构件和方法。

公开(公告)号：US08891053B2

公开(公告)日：2014-11-18

申请号：US12555301

申请日：2009-09-08

申请人： Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Nicolaas Ten Kate ,  Sandra Van Der Graaf ,  Henricus Jozef Castelijns

发明人： Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Nicolaas Ten Kate ,  Sandra Van Der Graaf ,  Henricus Jozef Castelijns

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/20 ,  C23C16/455

CPC分类号： G03B27/52 ,  C23C16/45555 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/7095

摘要： A lithographic apparatus is disclosed in which a specific coating is applied to a specific surface. The coating is made from at least 99 wt % of at least one of the following: a transition metal oxide; a poor metal oxide, sulfide or selenide; a compound with the formula ATiOn where A is an element from Group 2 of the Periodic Table; or TiO2 doped with a metal from Group 3, 5 or 7 of the Periodic Table, wherein the coating is less than or equal to 49 nm thick.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备，其中将特定涂层施加到特定表面。 涂层由至少99wt％的以下至少一种制成：过渡金属氧化物; 不良金属氧化物，硫化物或硒化物; 具有式ATiOn的化合物，其中A是元素周期表第2族的元素; 或掺杂有周期表第3,5或7族金属的TiO 2，其中涂层小于或等于49nm厚。

公开(公告)号：US08395772B2

公开(公告)日：2013-03-12

申请号：US12818358

申请日：2010-06-18

申请人： Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Vitaliy Prosyentsov ,  Sandra Van Der Graaf ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

发明人： Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Vitaliy Prosyentsov ,  Sandra Van Der Graaf ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70616

摘要： A sensor for an immersion system is disclosed. The sensor comprises: a sensing device, a transparent layer and an opaque patterning layer. The sensing device is configured to sense a property of a beam of radiation. The transparent layer is configured to allow the passage of a beam of radiation therethrough. The transparent layer covers the sensing device. The opaque patterning layer is configured to impart a pattern to the beam of radiation. In the patterning layer is an opening in which is located an infilling material. The infilling material is transparent to the beam of radiation and has a similar refractive index to that of the transparent layer.

摘要翻译： 公开了一种用于浸没系统的传感器。 传感器包括：感测装置，透明层和不透明图案层。 感测装置被配置为感测辐射束的特性。 透明层构造成允许辐射束通过其中。 透明层覆盖感测装置。 不透明图案层被配置为赋予辐射束图案。 在图形层中是位于填充材料的开口。 填充材料对辐射束是透明的，并且具有与透明层相似的折射率。

公开(公告)号：US20100321695A1

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：US12818358

申请日：2010-06-18

申请人： Henricus Wilhelmus Maria VAN BUEL ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Vitaliy Prosyentsov ,  Sandra Van Der Graaf ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

发明人： Henricus Wilhelmus Maria VAN BUEL ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Vitaliy Prosyentsov ,  Sandra Van Der Graaf ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70616

摘要： A sensor for an immersion system is disclosed. The sensor comprises: a sensing device, a transparent layer and an opaque patterning layer. The sensing device is configured to sense a property of a beam of radiation. The transparent layer is configured to allow the passage of a beam of radiation therethrough. The transparent layer covers the sensing device. The opaque patterning layer is configured to impart a pattern to the beam of radiation. In the patterning layer is an opening in which is located an infilling material. The infilling material is transparent to the beam of radiation and has a similar refractive index to that of the transparent layer.

摘要翻译： 公开了一种用于浸没系统的传感器。 传感器包括：感测装置，透明层和不透明图案层。 感测装置被配置为感测辐射束的特性。 透明层构造成允许辐射束通过其中。 透明层覆盖感测装置。 不透明图案层被配置为赋予辐射束图案。 在图形层中是位于填充材料的开口。 填充材料对辐射束是透明的，并且具有与透明层相似的折射率。

公开(公告)号：US09423699B2

公开(公告)日：2016-08-23

申请号：US13323520

申请日：2011-12-12

申请人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Yogesh Pramod Karade

发明人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Yogesh Pramod Karade

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70716 ,  C23C16/44 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70975 ,  H01L21/6875 ,  Y10T29/49

摘要： A substrate holder for a lithographic apparatus has a planarization layer provided on a surface thereof. The planarization layer provides a smooth surface for the formation of an electronic component such as a thin film electronic component. The planarization layer may be provided in multiple sub layers. The planarization layer may smooth over roughness caused by removal of material from a blank to form burls on the substrate holder.

摘要翻译： 用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。 平坦化层提供用于形成诸如薄膜电子部件的电子部件的光滑表面。 平坦化层可以设置在多个子层中。 平坦化层可以平滑超过由坯料去除材料而形成的粗糙度，以在衬底保持器上形成毛刺。

公开(公告)号：US20150029485A1

公开(公告)日：2015-01-29

申请号：US14373291

申请日：2013-01-17

申请人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Yogesh Pramod Karade ,  Elisabeth Corinne Rodenburg

发明人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Yogesh Pramod Karade ,  Elisabeth Corinne Rodenburg

IPC分类号： G03F7/20 ,  B05D3/06 ,  B05D5/00 ,  B23K26/34 ,  B23K26/00

CPC分类号： B22F7/062 ,  B05D3/06 ,  B05D5/00 ,  B22F3/1055 ,  B23K26/342 ,  B23K26/354 ,  B23Q3/18 ,  B33Y10/00 ,  B33Y80/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70416 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70708 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/708

摘要： An object holder (100) for a lithographic apparatus has a main body (400) having a surface (400a). A plurality of burls (406) to support an object are formed on the surface or in apertures of a thin-film stack (410, 440, 450). At least one of the burls is formed by laser-sintering. At least one of the burls formed by laser-sintering may be a repair of a damaged burl previously formed by laser-sintering or another method.

摘要翻译： 用于光刻设备的物体保持器（100）具有具有表面（400a）的主体（400）。 在薄膜堆叠（410,440,450）的表面上或孔中形成有用于支撑物体的多个毛刺（406）。 通过激光烧结形成至少一个毛刺。 通过激光烧结形成的毛刺中的至少一个可以是先前通过激光烧结形成的损伤的隆起的修复或其他方法。

公开(公告)号：US09256139B2

公开(公告)日：2016-02-09

申请号：US13398582

申请日：2012-02-16

申请人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Yogesh Pramod Karade ,  Siegfried Alexander Tromp ,  Jacobus Josephus Leijssen ,  Elisabeth Corinne Rodenburg ,  Maurice Wilhelmus Leonardus Hendricus Feijts ,  Hendrik Huisman

发明人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Yogesh Pramod Karade ,  Siegfried Alexander Tromp ,  Jacobus Josephus Leijssen ,  Elisabeth Corinne Rodenburg ,  Maurice Wilhelmus Leonardus Hendricus Feijts ,  Hendrik Huisman

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/20 ,  G01J5/20 ,  G01J5/02

CPC分类号： G03F7/70716 ,  B05D3/02 ,  G01J5/0285 ,  G01J5/20 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70708

摘要： A substrate holder for a lithographic apparatus has a planarization layer provided on a surface thereof. The planarization layer provides a smooth surface for the formation of a thin film stack forming an electronic component. The thin film stack comprises an (optional) isolation layer, a metal layer forming an electrode, a sensor, a heater, a transistor or a logic device, and a top isolation layer.

摘要翻译： 用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。 平坦化层为形成电子部件的薄膜叠层的形成提供光滑的表面。 薄膜堆叠包括（可选）隔离层，形成电极的金属层，传感器，加热器，晶体管或逻辑器件以及顶部隔离层。