公开(公告)号：US6136498A

公开(公告)日：2000-10-24

申请号：US672804

申请日：1996-06-28

申请人： Premlatha Jagannathan ,  Leo L. Linehan ,  Wayne M. Moreau ,  Randolph J. Smith

发明人： Premlatha Jagannathan ,  Leo L. Linehan ,  Wayne M. Moreau ,  Randolph J. Smith

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/116 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/127 ,  Y10S430/128

摘要： A photoresist composition for use in lithographic processes in the fabrication of semiconductor devices such as integrated circuit structures is disclosed. The photoresist composition includes a monomeric sensitizer bounding to a base-soluble long chain polymer.

公开(公告)号：US06383712B1

公开(公告)日：2002-05-07

申请号：US09092596

申请日：1998-06-05

申请人： Premlatha Jagannathan ,  Leo L. Linehan ,  Wayne M. Moreau ,  Randolph J. Smith

发明人： Premlatha Jagannathan ,  Leo L. Linehan ,  Wayne M. Moreau ,  Randolph J. Smith

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A photoresist composition for use in lithographic processes in the fabrication of semiconductor devices such as integrated circuit structures is disclosed. The photoresist composition includes a monomeric sensitizer bounding to a base-soluble long chain polymer.

摘要翻译： 公开了用于制造半导体器件如集成电路结构的光刻工艺中的光致抗蚀剂组合物。 光致抗蚀剂组合物包括与碱溶性长链聚合物结合的单体敏化剂。

公开(公告)号：US6074800A

公开(公告)日：2000-06-13

申请号：US64955

申请日：1998-04-23

申请人： Gregory Breyta ,  Phillip J. Brock ,  Daniel J. Dawson ,  Ronald A. DellaGuardia ,  Charlotte R. DeWan ,  Andrew R. Eckert ,  Hiroshi Ito ,  Premlatha Jagannathan ,  Leo L. Linehan ,  Kathleen H. Martinek ,  Wayne M. Moreau ,  Randolph J. Smith

发明人： Gregory Breyta ,  Phillip J. Brock ,  Daniel J. Dawson ,  Ronald A. DellaGuardia ,  Charlotte R. DeWan ,  Andrew R. Eckert ,  Hiroshi Ito ,  Premlatha Jagannathan ,  Leo L. Linehan ,  Kathleen H. Martinek ,  Wayne M. Moreau ,  Randolph J. Smith

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/115

摘要： Several mid UV photo acid generators (PAGs), a chemically amplified photo resist (CAMP), and method for improving nested to isolated line bias are provided. Similarly, photo speed may also be improved. Unlike conventional mid UV PAGs, the present invention's PAG compounds, resist composition, and method do not require a mid UV sensitizer. Specifically, PAGs are provided that bear a chromophore capable of receiving mid UV radiation, particularly I-line, and that are suitable for use in a chemically amplified photo resist having a photo speed of 500 mJ/cm.sup.2 or less, but preferrably 200 mJ/cm.sup.2 or less. For example, the PAGs can be a sulfonium or iodonium salt, such as anthryl, butyl, methyl sulfonium triflate and bis(4-t-butylphenyl)iodonium 9,10-dimethoxyanthracene sulfonate. The chromophore forming a part of the PAGs can be selected from polyaromatic hydrocarbons, for example, chrysenes, pyrenes, fluoranthenes, anthrones, benzophenones, thioxanthones, anthracenes, and phenanthrenes, but preferably anthracenes.

摘要翻译： 提供了几个中等紫外光酸产生剂（PAG），化学放大光抗蚀剂（CAMP）和改进嵌套到隔离线偏压的方法。 类似地，也可以提高照相速度。 与传统的中等紫外线PAG不同，本发明的PAG化合物，抗蚀剂组合物和方法不需要中等紫外线敏化剂。 具体地说，提供了能够承受中等紫外线辐射，特别是I线的发色团的PAG，并且适合用于光速为500mJ / cm 2以下但优选为200mJ / cm 2的化学放大型光致抗蚀剂的PAG， cm2以下。 例如，PAG可以是锍或碘鎓盐，例如蒽基，丁基，甲基锍三氟甲磺酸酯和双（4-叔丁基苯基）碘9,10-二甲氧基蒽磺酸盐。 形成PAG的一部分的发色团可以选自多芳族烃，例如氯仿，芘，荧蒽，蒽，二苯甲酮，噻吨酮，蒽和菲，但优选为蒽。

公开(公告)号：US5296332A

公开(公告)日：1994-03-22

申请号：US796155

申请日：1991-11-22

申请人： Harbans S. Sachdev ,  Willard E. Conley ,  Premlatha Jagannathan ,  Ahmad D. Katnani ,  Ranee W. Kwong ,  Leo L. Linehan ,  Steve S. Muira ,  Randolph J. Smith

发明人： Harbans S. Sachdev ,  Willard E. Conley ,  Premlatha Jagannathan ,  Ahmad D. Katnani ,  Ranee W. Kwong ,  Leo L. Linehan ,  Steve S. Muira ,  Randolph J. Smith

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03C5/56 ,  G03C1/73 ,  G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038

摘要： High sensitivity, high contrast, heat-stable resist compositions for use in deep UV, i-line e-beam and x-ray lithography. These compositions comprise a film-forming polymer having aromatic rings activated for electrophilic substitution, an acid catalyzable crosslinking agent which forms a hydroxy-stabilized carbonium ion, and a photoacid generator. The compositions are aqueous base developable.

摘要翻译： 用于深UV，i线电子束和x射线光刻的高灵敏度，高对比度，热稳定抗蚀剂组合物。 这些组合物包括具有用于亲电取代活化的芳环的成膜聚合物，形成羟基稳定的碳鎓离子的酸催化交联剂和光酸产生剂。 组合物是可显影的水性基质。

公开(公告)号：US5561194A

公开(公告)日：1996-10-01

申请号：US412806

申请日：1995-03-29

申请人： Kathleen M. Cornett ,  Judy B. Dorn ,  Margaret C. Lawson ,  Leo L. Linehan ,  Wayne M. Moreau ,  Randolph J. Smith ,  Gary T. Spinillo

发明人： Kathleen M. Cornett ,  Judy B. Dorn ,  Margaret C. Lawson ,  Leo L. Linehan ,  Wayne M. Moreau ,  Randolph J. Smith ,  Gary T. Spinillo

IPC分类号： G03F7/023 ,  C08L61/10 ,  C08L25/04 ,  C08L33/12

CPC分类号： G03F7/0233

摘要： A polyalkylmethacrylate co-polymer of polyhydroxystyrene has been found to be an ideal blending partner in a novolak photoresist composition. The preferred co-polymer is poly(p-hydroxystyrene)-co-(methyl methacrylate). The co-polymer is fully miscible with novolaks and has a high thermal stability (>150.degree. C.).

摘要翻译： 已经发现聚羟基苯乙烯的聚烷基甲基丙烯酸酯共聚物在酚醛清漆光致抗蚀剂组合物中是理想的掺合配合物。 优选的共聚物是聚（对羟基苯乙烯） - 共 - （甲基丙烯酸甲酯）。 共聚物与酚醛清漆完全混溶，具有高热稳定性（> 150℃）。

公开(公告)号：US5607824A

公开(公告)日：1997-03-04

申请号：US281398

申请日：1994-07-27

申请人： James T. Fahey ,  Brian W. Herbst ,  Leo L. Linehan ,  Wayne M. Moreau ,  Gary T. Spinillo ,  Kevin M. Welsh ,  Robert L. Wood

发明人： James T. Fahey ,  Brian W. Herbst ,  Leo L. Linehan ,  Wayne M. Moreau ,  Gary T. Spinillo ,  Kevin M. Welsh ,  Robert L. Wood

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08G65/40 ,  C08G67/00 ,  C09D171/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  G03C1/825

CPC分类号： C08G65/4012 ,  C09D171/00 ,  G03F7/091 ,  C08G2650/64

摘要： A co-polymer of benzophenone and bisphenol A has been shown to have DUV absorption properties. Therefore, the co-polymer has particular utility as an antireflective coating in microlithography applications. Incorporating anthracene into the co-polymer backbone enhances absorption at 248 nm. The endcapper used for the co-polymer can vary widely depending on the needs of the user and can be selected to promote adhesion, stability, and absorption of different wavelengths.

摘要翻译： 已经显示二苯甲酮和双酚A的共聚物具有DUV吸收性质。 因此，共聚物在微光刻应用中作为抗反射涂层具有特殊的用途。 将蒽掺入共聚物主链增强了在248nm的吸收。 用于共聚物的端塞可以根据用户的需要而广泛变化，并且可以选择以促进不同波长的粘附，稳定性和吸收。

公开(公告)号：US06907432B1

公开(公告)日：2005-06-14

申请号：US09723746

申请日：2000-11-28

申请人： Charles R. Szmanda ,  Peter Trefonas, III ,  Richard C. Hemond ,  Mark S. Thirsk ,  Leo L. Linehan ,  Anthony Zampini

发明人： Charles R. Szmanda ,  Peter Trefonas, III ,  Richard C. Hemond ,  Mark S. Thirsk ,  Leo L. Linehan ,  Anthony Zampini

IPC分类号： G06F17/30 ,  G06Q10/00

CPC分类号： G06Q10/06 ,  Y10S707/99945 ,  Y10S707/99948

摘要： A system and method is provided for recycling raw materials from a plurality waste streams generated by waste stream providers and includes a waste stream monitoring module for monitoring the plurality of waste streams and determining an amount of reusable raw materials contained in each of the plurality of waste streams. Also included is a reusable materials database for storing the amount of each of the raw materials contained in any of the plurality of waste streams. A user operating an access device communications with the reusable materials database for viewing the amount of each of said raw materials.

摘要翻译： 提供了一种用于从废物流提供者产生的多个废物流中回收原材料的系统和方法，并且包括用于监测多个废物流的废物流监测模块，并且确定包含在多个废物中的每一个中的可重复使用的原料的量 流。 还包括用于存储包含在多个废物流中的任何一个中的每个原料的量的可重复使用的材料数据库。 用户操作访问设备与可重用材料数据库的通信，用于查看每个所述原材料的量。

公开(公告)号：US06610609B2

公开(公告)日：2003-08-26

申请号：US09847741

申请日：2001-05-02

申请人： Edward W. Rutter, Jr. ,  Leo L. Linehan

发明人： Edward W. Rutter, Jr. ,  Leo L. Linehan

IPC分类号： H01L21302

CPC分类号： H01L21/0274 ,  H01L21/0332 ,  H01L27/14683

摘要： Disclosed are compositions and methods for improving compatibility of imaging layers with dielectric layers. Also disclosed are methods of reducing or eliminating poisoning of photoresists during electronic device manufacture.

摘要翻译： 公开了用于提高成像层与电介质层的相容性的组合物和方法。 还公开了在电子设备制造期间减少或消除光致抗蚀剂中毒的方法。

公开(公告)号：US5115090A

公开(公告)日：1992-05-19

申请号：US503401

申请日：1990-03-30

申请人： Krishna G. Sachdev ,  John P. Hummel ,  Ranee W. Kwong ,  Robert N. Lang ,  Leo L. Linehan ,  Harbans S. Sachdev

发明人： Krishna G. Sachdev ,  John P. Hummel ,  Ranee W. Kwong ,  Robert N. Lang ,  Leo L. Linehan ,  Harbans S. Sachdev

IPC分类号： C08G73/10 ,  C08L79/08 ,  H01L21/312 ,  H01L23/29 ,  H01L23/498 ,  H01L23/532 ,  H05K1/00

CPC分类号： H01L23/5329 ,  C08G73/1014 ,  H01L23/293 ,  H01L23/49894 ,  H01L2924/0002 ,  H05K3/4676

摘要： Viscosity stable, essentially gel-free linear polyamic acids are provided by a process utilizing offset stoichiometry. Polyimides formed from such polyamic acids have low TCE and low dielectric constants.Methods for improved adhesion of polyimides are also disclosed.

公开(公告)号：US06803171B2

公开(公告)日：2004-10-12

申请号：US10140761

申请日：2002-05-08

申请人： Dana A. Gronbeck ,  George G. Barclay ,  Leo L. Linehan ,  Kao Xiong ,  Subbareddy Kanagasabapathy

发明人： Dana A. Gronbeck ,  George G. Barclay ,  Leo L. Linehan ,  Kao Xiong ,  Subbareddy Kanagasabapathy

IPC分类号： G03C173

CPC分类号： G03F7/0005 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： Disclosed are photoimageable compositions containing silsesquioxane binder polymers and photoactive compounds, methods of forming relief images using such compositions and methods of manufacturing electronic devices using such compositions. Such compositions are useful as photoresists and in the manufacture of optoelectronic devices.

摘要翻译： 公开了含有倍半硅氧烷粘合剂聚合物和光活性化合物的可光成像组合物，使用这种组合物形成浮雕图像的方法和使用这种组合物制造电子器件的方法。 这样的组合物可用作光致抗蚀剂和制造光电器件。