公开(公告)号：US07754027B2

公开(公告)日：2010-07-13

申请号：US11892755

申请日：2007-08-27

申请人： Rong-Zhi Chen ,  Jye-Long Lee ,  In-Ting Hong ,  Jui-Tung Chang ,  Pa-Tsui Sze

发明人： Rong-Zhi Chen ,  Jye-Long Lee ,  In-Ting Hong ,  Jui-Tung Chang ,  Pa-Tsui Sze

IPC分类号： H01F1/01

CPC分类号： B22D27/06 ,  C21D8/0226 ,  C21D8/0273 ,  C22F1/10 ,  C23C14/3414

摘要： A method for manufacturing a sputtering target includes the steps of: providing a highly pure matrix material containing a magnetic metal, and a highly pure precious metal ingot material; cleaning the surfaces of the matrix material and the precious metal ingot; vacuum melting the matrix material and the precious metal ingot to obtain a molten alloy; pouring the molten alloy in a mold having a cooling system while maintaining a surface of the molten alloy at a molten state by arc heating until the pouring is finished, thereby forming the molten alloy into a cast blank; hot working the cast blank; and annealing the cast blank after the hot working.

摘要翻译： 制造溅射靶的方法包括以下步骤：提供含有磁性金属和高纯贵金属锭材料的高纯度基质材料; 清理基体材料和贵金属锭的表面; 真空熔化基体材料和贵金属锭，得到熔融合金; 将熔融合金倾倒在具有冷却系统的模具中，同时通过电弧加热将熔融合金的表面保持在熔融状态，直到浇注完成，从而将熔融合金形成铸坯; 热工作铸坯; 并在热加工后退火铸坯。

公开(公告)号：US20090056840A1

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：US11892755

申请日：2007-08-27

申请人： Rong-Zhi Chen ,  Jye-Long Lee ,  In-Ting Hong ,  Jui-Tung Chang ,  Pa-Tsui Sze

发明人： Rong-Zhi Chen ,  Jye-Long Lee ,  In-Ting Hong ,  Jui-Tung Chang ,  Pa-Tsui Sze

IPC分类号： C21D1/26 ,  B22D23/00 ,  B22D7/00

CPC分类号： B22D27/06 ,  C21D8/0226 ,  C21D8/0273 ,  C22F1/10 ,  C23C14/3414

摘要： A method for manufacturing a sputtering target includes the steps of: providing a highly pure matrix material containing a magnetic metal, and a highly pure precious metal ingot material; cleaning the surfaces of the matrix material and the precious metal ingot; vacuum melting the matrix material and the precious metal ingot to obtain a molten alloy; pouring the molten alloy in a mold having a cooling system while maintaining a surface of the molten alloy at a molten state by arc heating until the pouring is finished, thereby forming the molten alloy into a cast blank; hot working the cast blank; and annealing the cast blank after the hot working.

摘要翻译： 制造溅射靶的方法包括以下步骤：提供含有磁性金属和高纯贵金属锭材料的高纯度基质材料; 清理基体材料和贵金属锭的表面; 真空熔化基体材料和贵金属锭，得到熔融合金; 将熔融合金倾倒在具有冷却系统的模具中，同时通过电弧加热将熔融合金的表面保持在熔融状态，直到浇注完成，从而将熔融合金形成铸坯; 热工作铸坯; 并在热加工后退火铸坯。

公开(公告)号：US08440111B2

公开(公告)日：2013-05-14

申请号：US13109525

申请日：2011-05-17

申请人： Rong-Zhi Chen ,  Hung-Shuo Chung ,  Chin-Lin Huang ,  Jye-Long Lee ,  Shu-Hua Chen ,  Jui-Tung Chang

发明人： Rong-Zhi Chen ,  Hung-Shuo Chung ,  Chin-Lin Huang ,  Jye-Long Lee ,  Shu-Hua Chen ,  Jui-Tung Chang

IPC分类号： H01B1/16 ,  H01B1/22

CPC分类号： H01B1/22

摘要： A lead-free conductive paste composition includes silumin powder, lead-free glass frits, an organic binder, stearic acid zinc, and aluminum powder.

摘要翻译： 无铅导电糊组合物包括硅铝粉，无铅玻璃料，有机粘合剂，硬脂酸锌和铝粉。

公开(公告)号：US20080159121A1

公开(公告)日：2008-07-03

申请号：US11834208

申请日：2007-08-06

申请人： Huan-Chien TUNG ,  Liu-Wen Chang ,  Yeong-Tsuen Pan ,  Jui-Tung Chang ,  Jye-Long Lee

发明人： Huan-Chien TUNG ,  Liu-Wen Chang ,  Yeong-Tsuen Pan ,  Jui-Tung Chang ,  Jye-Long Lee

IPC分类号： G11B3/70

CPC分类号： G11B7/259 ,  G11B7/2433 ,  G11B7/2585 ,  G11B2007/24312 ,  G11B2007/24314

摘要： A write-once optical recording medium includes a substrate, and a recordable film formed on the substrate. The recordable film includes a recording layer containing a component selected from germanium (Ge), antimony (Sb), silicon (Si), and mixtures thereof, and a reflective layer containing a component selected from aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), and mixtures thereof.

摘要翻译： 一次写入光记录介质包括基板和形成在基板上的可记录膜。 可记录膜包括含有选自锗（Ge），锑（Sb），硅（Si）及其混合物的组分的记录层，以及含有选自铝（Al），铜（Cu）， 银（Ag），金（Au）及其混合物。

公开(公告)号：US08366994B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12939174

申请日：2010-11-04

申请人： Rong-Zhi Chen ,  Chun-Hao Chiu ,  Jui-Tung Chang ,  Deng-Far Hsu ,  Chih-Huang Lai

发明人： Rong-Zhi Chen ,  Chun-Hao Chiu ,  Jui-Tung Chang ,  Deng-Far Hsu ,  Chih-Huang Lai

IPC分类号： C22C32/00

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F3/14 ,  C22C1/0433 ,  C22C1/05

摘要： A method for manufacturing a cobalt (Co) alloy-based ceramic composite sputtering target is provided. A cobalt ingot and a chromium (Cr) ingot are melted in vacuum and then nebulized to form a cobalt-chromium (CoCr) alloy powder. Additionally, a ceramic powder and a platinum powder are wetly mixed to form a platinum-ceramic (Pt-ceramic) slurry, in which the ceramic powder is applied onto the platinum powder's surface uniformly. Next, the CoCr alloy powder and the Pt-ceramic slurry are wetly mixed to form a CoCrPt-ceramic slurry. Thereafter, the CoCrPt-ceramic slurry is dried, molded and compressed to form the cobalt alloy-based ceramic composite sputtering target. The resulted cobalt alloy-based ceramic composite sputtering target, which has a fine and dense structure, uniform composition and lower magnetic permeability, is beneficial to a magnetron sputter deposition process, as well as a film sputtering process used in the magnetic recording industry.

摘要翻译： 提供了一种制造钴（Co）合金系陶瓷复合溅射靶的方法。 钴锭和铬（Cr）锭在真空中熔化，然后喷雾形成钴 - 铬（CoCr）合金粉末。 另外，将陶瓷粉末和铂粉末湿式混合以形成铂 - 陶瓷（Pt-陶瓷）浆料，其中将陶瓷粉末均匀地涂覆在铂粉末的表面上。 接着，将CoCr合金粉末和Pt-陶瓷浆料湿混，形成CoCrPt陶瓷浆料。 然后，将CoCrPt陶瓷浆料干燥，成型并压缩，形成钴合金系陶瓷复合溅射靶。 得到的钴合金系陶瓷复合溅射靶具有精细且致密的结构，组成均匀性和较低的磁导率，有利于磁控溅射沉积工艺以及在磁记录工业中使用的薄膜溅射工艺。