公开(公告)号：US5529888A

公开(公告)日：1996-06-25

申请号：US531328

申请日：1995-09-20

申请人： Satoshi Watanabe ,  Toshinobu Ishihara ,  Yoshihumi Takeda ,  Katsuyuki Oikawa

发明人： Satoshi Watanabe ,  Toshinobu Ishihara ,  Yoshihumi Takeda ,  Katsuyuki Oikawa

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/091

摘要： A water-soluble composition comprising a water-soluble N-vinylpyrrolidone copolymer and a fluorinated organic acid in a weight ratio of from 20:80 to 70:30 is useful in forming a water-soluble overlying film on a chemically amplified resist layer. The overlying film functions as both an anti-reflective film and a protective film during resist pattern formation by photolithography.

摘要翻译： 包含重量比为20:80至70:30的水溶性N-乙烯基吡咯烷酮共聚物和氟化有机酸的水溶性组合物可用于在化学放大抗蚀剂层上形成水溶性覆盖膜。 在通过光刻的抗蚀剂图案形成期间，上覆膜既用作抗反射膜，又用作保护膜。

公开(公告)号：US5772925A

公开(公告)日：1998-06-30

申请号：US891000

申请日：1997-07-10

申请人： Satoshi Watanabe ,  Toshinobu Ishihara ,  Ichiro Kaneko ,  Katsuyuki Oikawa ,  Yoshihumi Takeda

发明人： Satoshi Watanabe ,  Toshinobu Ishihara ,  Ichiro Kaneko ,  Katsuyuki Oikawa ,  Yoshihumi Takeda

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08G73/10 ,  C08L79/08 ,  C09D179/08 ,  H01L21/027 ,  F21V9/00 ,  B05B5/00 ,  B05D5/06

CPC分类号： C08G73/105 ,  C08G73/101 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1064 ,  C08G73/1067 ,  C08G73/1082 ,  C09D179/08 ,  G02B1/111

摘要： An anti-reflective coating composition comprising a polyimide dissolved in an organic solvent is used to form an anti-reflective coating beneath a chemical amplification type resist layer. The composition allows a fine resist pattern to be formed with high accuracy in a convenient, efficient, reproducible manner.

摘要翻译： 使用包含溶解在有机溶剂中的聚酰亚胺的抗反射涂层组合物在化学放大型抗蚀剂层下方形成抗反射涂层。 该组合物允许以方便，有效，可再现的方式以高精度形成精细的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US06312869B1

公开(公告)日：2001-11-06

申请号：US09592419

申请日：2000-06-12

申请人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

发明人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  C08F2810/20 ,  C08F2810/30 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  C08F112/14

摘要： A chemically amplified positive resist composition contains (A) an organic solvent, (B) a base resin in the form of a polymer having at least one acid labile group and crosslinked within a molecule and/or between molecules with a crosslinking group having a C—O—C linkage, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000, (C) a photoacid generator, (D) a basic compound, and (E) an aromatic compound having a group ≡C—COOH in a molecule. The composition has a high alkali dissolution contrast, high sensitivity and high resolution.

摘要翻译： 化学放大正性抗蚀剂组合物包含（A）有机溶剂，（B）具有至少一个酸不稳定基团的聚合物形式的基础树脂，并且在分子内和/或具有交联基团的分子之间具有COC 连接，重均分子量为1,000〜500,000的聚合物，（C）光酸产生剂，（D）碱性化合物和（E）分子中具有= C-COOH基团的芳族化合物。 该组合物具有高碱溶性对比度，高灵敏度和高分辨率。

公开(公告)号：US5942367A

公开(公告)日：1999-08-24

申请号：US839107

申请日：1997-04-23

申请人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

发明人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

IPC分类号： C08F8/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  G03F7/0045 ,  C08F2810/20 ,  C08F2810/30 ,  Y10S430/106

摘要： A chemically amplified positive resist composition contains (A) an organic solvent, (B) a base resin in the form of a polymer having at least one acid labile group and crosslinked within a molecule and/or between molecules with a crosslinking group having a C--O--C linkage, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000, (C) a photoacid generator, (D) a basic compound, and (E) an aromatic compound having a group .tbd.C--COOH in a molecule. The composition has a high alkali dissolution contrast, high sensitivity and high resolution.

公开(公告)号：US06335141B1

公开(公告)日：2002-01-01

申请号：US09592423

申请日：2000-06-12

申请人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

发明人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  C08F2810/20 ,  C08F2810/30 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  C08F112/14

摘要： A chemically amplified positive resist composition contains (A) an organic solvent, (B) a base resin in the form of a polymer having at least one acid labile group and crosslinked within a molecule and/or between molecules with a crosslinking group having a C—O—C linkage, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000, (C) a photoacid generator, (D) a basic compound, and (E) an aromatic compound having a group ≡C—COOH in a molecule. The composition has a high alkali dissolution contrast, high sensitivity and high resolution.

摘要翻译： 化学放大正性抗蚀剂组合物包含（A）有机溶剂，（B）具有至少一个酸不稳定基团的聚合物形式的基础树脂，并且在分子内和/或具有交联基团的分子之间具有COC 连接，重均分子量为1,000〜500,000的聚合物，（C）光酸产生剂，（D）碱性化合物和（E）分子中具有= C-COOH基团的芳族化合物。 该组合物具有高碱溶性对比度，高灵敏度和高分辨率。

公开(公告)号：US6114462A

公开(公告)日：2000-09-05

申请号：US302304

申请日：1999-04-30

申请人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

发明人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

IPC分类号： C08F8/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F261/06

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  G03F7/0045 ,  C08F2810/20 ,  C08F2810/30 ,  Y10S430/106

摘要： A chemically amplified positive resist composition contains (A) an organic solvent, (B) a base resin in the form of a polymer having at least one acid labile group and crosslinked within a molecule and/or between molecules with a crosslinking group having a C--O--C linkage, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000, (C) a photoacid generator, (D) a basic compound, and (E) an aromatic compound having a group .tbd.C--COOH in a molecule. The composition has a high alkali dissolution contrast, high sensitivity and high resolution.

摘要翻译： 化学放大正性抗蚀剂组合物包含（A）有机溶剂，（B）具有至少一个酸不稳定基团的聚合物形式的基础树脂，并且在分子内和/或具有交联基团的分子之间具有COC 连接，重均分子量为1,000〜500,000的聚合物，（C）光酸产生剂，（D）碱性化合物和（E）分子中具有第3BOND C-COOH基团的芳族化合物。 该组合物具有高碱溶性对比度，高灵敏度和高分辨率。

公开(公告)号：US5691112A

公开(公告)日：1997-11-25

申请号：US762861

申请日：1996-12-10

申请人： Satoshi Watanabe ,  Youichi Ohsawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Junji Shimada ,  Fujio Yagihashi ,  Katsuya Takemura

发明人： Satoshi Watanabe ,  Youichi Ohsawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Junji Shimada ,  Fujio Yagihashi ,  Katsuya Takemura

IPC分类号： C07C317/22 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C317/22 ,  C07C381/12

摘要： Trifluoromethanesulfonic and p-toluenesulfonic acid bis- or tris(p-tert-butoxyphenyl)sulfonium salts are novel. They are prepared from bis(p-tert-butoxyphenyl)sulfoxide which is also novel. A chemically amplified positive resist composition which contains the sulfonium salt as a photo-acid generator is highly sensitive to deep-UV rays, electron beams and X-rays, can be developed with alkaline aqueous solution to form a pattern, and is thus suitable for use in a fine patterning technique.

摘要翻译： 三氟甲磺酸和对甲苯磺酸双或三（对叔丁氧基苯基）锍盐是新颖的。 它们由双（对叔丁氧基苯基）亚砜制备，也是新的。 含有锍盐作为光酸发生剂的化学增幅正性抗蚀剂组合物对深紫外线，电子束和X射线高度敏感，可以用碱性水溶液显影形成图案，因此适用于 使用精细图案化技术。

公开(公告)号：US5633409A

公开(公告)日：1997-05-27

申请号：US379986

申请日：1995-01-27

申请人： Satoshi Watanabe ,  Youichi Ohsawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Junji Shimada ,  Fujio Yagihashi ,  Katsuya Takemura

发明人： Satoshi Watanabe ,  Youichi Ohsawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Junji Shimada ,  Fujio Yagihashi ,  Katsuya Takemura

IPC分类号： C07C317/22 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  C07C319/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C317/22 ,  C07C381/12

摘要： Trifluoromethanesulfonic and p-toluenesulfonic acid bis- or tris(p-tert-butoxyphenyl)sulfonium salts are novel. They are prepared from bis(p-tert-butoxyphenyl)sulfoxide which is also novel. A chemically amplified positive resist composition which contains the sulfonium salt as a photo-acid generator is highly sensitive to deep-UV rays, electron beams and X-rays, can be developed with alkaline aqueous solution to form a pattern, and is thus suitable for use in a fine patterning technique.

摘要翻译： 三氟甲磺酸和对甲苯磺酸双或三（对叔丁氧基苯基）锍盐是新颖的。 它们由双（对叔丁氧基苯基）亚砜制备，也是新的。 含有锍盐作为光酸发生剂的化学增幅正性抗蚀剂组合物对深紫外线，电子束和X射线高度敏感，可以用碱性水溶液显影形成图案，因此适用于 使用精细图案化技术。

公开(公告)号：US5624787A

公开(公告)日：1997-04-29

申请号：US466690

申请日：1995-06-06

申请人： Satoshi Watanabe ,  Katsuyuki Oikawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Akinobu Tanaka ,  Tadahito Matsuda ,  Yoshio Kawai

发明人： Satoshi Watanabe ,  Katsuyuki Oikawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Akinobu Tanaka ,  Tadahito Matsuda ,  Yoshio Kawai

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

摘要： A chemically amplified, positive resist composition contains a trifluoromethanesulfonic or p-toluenesulfonic acid bis- or tris(p-tert-butoxyphenyl)sulfonium salt and a nitrogenous compound. The composition is highly sensitive to high energy radiation, especially KrF excimer laser and has high sensitivity, resolution and plasma etching resistance while the resulting resist pattern is heat resistant.

摘要翻译： 化学增幅阳性抗蚀剂组合物含有三氟甲磺酸或对甲苯磺酸双或三（对叔丁氧基苯基）锍盐和含氮化合物。 该组合物对高能辐射高度敏感，特别是KrF准分子激光器，并且具有高灵敏度，分辨率和等离子体耐蚀刻性，同时产生的抗蚀剂图案是耐热的。

公开(公告)号：US06818148B1

公开(公告)日：2004-11-16

申请号：US09401490

申请日：1999-09-22

申请人： Satoshi Watanabe ,  Toyohisa Sakurada ,  Yoshitaka Yanagi ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara

发明人： Satoshi Watanabe ,  Toyohisa Sakurada ,  Yoshitaka Yanagi ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara

IPC分类号： C09K1300

CPC分类号： G03F7/0048

摘要： A resist composition is provided comprising a fluorochemical surfactant which functions to reduce the contact angle of a coating of the resist composition with water or an aqueous base developer as the amount of the fluorochemical surfactant increases. The resist composition forms a coating having a thickness uniformity, free of defects, and wettable with an aqueous base developer when applied onto a substrate, and has a good storage stability in that particles do not increase during storage in solution form.

摘要翻译： 提供了一种抗蚀剂组合物，其包括含氟化学表面活性剂，其功能是随着含氟表面活性剂的量的增加，抗蚀剂组合物的涂层与水或碱性显影剂水溶液的接触角降低。 抗蚀剂组合物形成具有厚度均匀性，无缺陷的涂层，并且当涂覆在基材上时可用基础显影剂水溶液润湿，并且具有良好的储存稳定性，因为在溶液形式储存期间颗粒不增加。