公开(公告)号：US09293306B2

公开(公告)日：2016-03-22

申请号：US14793931

申请日：2015-07-08

申请人： Scott Jeffrey Volchko ,  William Loewenthal ,  Stefan Zimmermann ,  Mark Gaydos ,  Steven Alfred Miller

发明人： Scott Jeffrey Volchko ,  William Loewenthal ,  Stefan Zimmermann ,  Mark Gaydos ,  Steven Alfred Miller

IPC分类号： B05D1/02 ,  H01J37/34 ,  C23C14/34 ,  B23K31/02 ,  C23C24/04

CPC分类号： H01J37/3429 ,  B05D1/02 ,  B23K31/02 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3414 ,  C23C24/04 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3426 ,  H01J2237/081 ,  H01J2237/332 ,  Y10T156/10

摘要： In various embodiments, joined sputtering targets are formed at least in part by spray deposition of the sputtering material and/or welding.

公开(公告)号：US09564299B2

公开(公告)日：2017-02-07

申请号：US15042987

申请日：2016-02-12

申请人： Scott Jeffrey Volchko ,  William Loewenthal ,  Stefan Zimmermann ,  Mark Gaydos ,  Steven Alfred Miller

发明人： Scott Jeffrey Volchko ,  William Loewenthal ,  Stefan Zimmermann ,  Mark Gaydos ,  Steven Alfred Miller

IPC分类号： B23K31/02 ,  H01J37/34 ,  B05D1/02 ,  C23C14/34 ,  C23C24/04

CPC分类号： H01J37/3429 ,  B05D1/02 ,  B23K31/02 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3414 ,  C23C24/04 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3426 ,  H01J2237/081 ,  H01J2237/332 ,  Y10T156/10

摘要： In various embodiments, joined sputtering targets are formed at least in part by spray deposition of the sputtering material and/or welding.

摘要翻译： 在各种实施例中，至少部分地通过溅射材料的喷涂和/或焊接形成连接的溅射靶。

公开(公告)号：US20150311047A1

公开(公告)日：2015-10-29

申请号：US14793931

申请日：2015-07-08

申请人： Scott Jeffrey Volchko ,  William Loewenthal ,  Stefan Zimmermann ,  Mark Gaydos ,  Steven Alfred Miller

发明人： Scott Jeffrey Volchko ,  William Loewenthal ,  Stefan Zimmermann ,  Mark Gaydos ,  Steven Alfred Miller

IPC分类号： H01J37/34

CPC分类号： H01J37/3429 ,  B05D1/02 ,  B23K31/02 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3414 ,  C23C24/04 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3426 ,  H01J2237/081 ,  H01J2237/332 ,  Y10T156/10

摘要： In various embodiments, joined sputtering targets are formed at least in part by spray deposition of the sputtering material and/or welding.

摘要翻译： 在各种实施例中，至少部分地通过溅射材料的喷涂和/或焊接形成连接的溅射靶。

公开(公告)号：US20160163520A1

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：US15042987

申请日：2016-02-12

申请人： Scott Jeffrey Volchko ,  William Loewenthal ,  Stefan Zimmermann ,  Mark Gaydos ,  Steven Alfred Miller

发明人： Scott Jeffrey Volchko ,  William Loewenthal ,  Stefan Zimmermann ,  Mark Gaydos ,  Steven Alfred Miller

IPC分类号： H01J37/34 ,  C23C14/34

CPC分类号： H01J37/3429 ,  B05D1/02 ,  B23K31/02 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3414 ,  C23C24/04 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3426 ,  H01J2237/081 ,  H01J2237/332 ,  Y10T156/10

摘要： In various embodiments, joined sputtering targets are formed at least in part by spray deposition of the sputtering material and/or welding.

公开(公告)号：US07910051B2

公开(公告)日：2011-03-22

申请号：US11935099

申请日：2007-11-05

申请人： Stefan Zimmermann ,  Steve A. Miller ,  Prabhat Kumar ,  Mark Gaydos

发明人： Stefan Zimmermann ,  Steve A. Miller ,  Prabhat Kumar ,  Mark Gaydos

IPC分类号： C22F3/02 ,  C23C14/00 ,  B05D1/12

CPC分类号： H01J35/108 ,  B22F7/08 ,  C23C14/3414 ,  C23C24/04 ,  H01J35/08 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/083 ,  H01J2235/085 ,  Y10T29/4902

摘要： In various embodiments, large-area sputtering targets are formed by providing a plurality of sputtering targets each comprising a backing plate and a refractory metal layer disposed thereon, and spray depositing a refractory metal powder on an interface between the sputtering targets, the refractory metal powder consisting essentially of the same metal as each refractory metal layer, thereby joining the refractory metal layers of the sputtering targets.

摘要翻译： 在各种实施例中，通过提供多个溅射靶来形成大面积溅射靶，每个溅射靶包括背板和设置在其上的难熔金属层，并且在溅射靶之间的界面上喷射沉积难熔金属粉末，难熔金属粉末 基本上由与每个难熔金属层相同的金属组成，由此连接溅射靶的难熔金属层。

公开(公告)号：US20080216602A1

公开(公告)日：2008-09-11

申请号：US11935099

申请日：2007-11-05

申请人： Stefan Zimmermann ,  Uwe Papp ,  Hans Keller ,  Steven A. Miller ,  Prabhat Kumar ,  Mark Gaydos ,  Rong-Chen Richard Wu

发明人： Stefan Zimmermann ,  Uwe Papp ,  Hans Keller ,  Steven A. Miller ,  Prabhat Kumar ,  Mark Gaydos ,  Rong-Chen Richard Wu

IPC分类号： C23C14/34 ,  C22C5/00 ,  C22C27/04 ,  C22C27/00 ,  C22C14/00 ,  C22C9/00 ,  C23C24/04 ,  H01J35/00

CPC分类号： H01J35/108 ,  B22F7/08 ,  C23C14/3414 ,  C23C24/04 ,  H01J35/08 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/083 ,  H01J2235/085 ,  Y10T29/4902

摘要： Disclosed is a process for the reprocessing or production of a sputter target or an X-ray anode wherein a gas flow forms a gas/powder mixture with a powder of a material chosen from the group consisting of niobium, tantalum, tungsten, molybdenum, titanium, zirconium, mixtures of two or more thereof and alloys thereof with at least two thereof or with other metals, the powder has a particle size of 0.5 to 150 μm, wherein a supersonic speed is imparted to the gas flow and the jet of supersonic speed is directed on to the surface of the object to be reprocessed or produced.

摘要翻译： 公开了一种用于再处理或生产溅射靶或X射线阳极的方法，其中气流与选自铌，钽，钨，钼，钛的材料的粉末形成气体/粉末混合物 锆，其两种或多种的混合物及其至少两种或其中的金属或其它金属的混合物，所述粉末的粒度为0.5-150μm，其中超音速被赋予气流和超音速射流 被引导到待再处理或生产的物体的表面上。

公开(公告)号：US06527309B1

公开(公告)日：2003-03-04

申请号：US09957431

申请日：2001-09-19

申请人： Mark Gaydos ,  James Hardigg

发明人： Mark Gaydos ,  James Hardigg

IPC分类号： E05C1910

CPC分类号： E05B65/5276 ,  E05B15/0093 ,  E05B17/208 ,  E05C19/10 ,  Y10S292/22 ,  Y10T292/0934

摘要： A latch apparatus includes a release mechanism having a depending locking arm for selectively arresting the release mechanism in a locking position. The release mechanism further includes a center of gravity and an axis of rotation about which the release mechanism pivots between a release position and the locking position. The center of gravity of the release mechanism is located along the axis of rotation.

摘要翻译： 闩锁装置包括具有悬挂锁定臂的释放机构，用于将释放机构选择性地阻止在锁定位置。 释放机构还包括重心和旋转轴线，释放机构绕释放机构在释放位置和锁定位置之间枢转。 释放机构的重心位于旋转轴上。

公开(公告)号：USD462519S1

公开(公告)日：2002-09-10

申请号：US29146810

申请日：2001-08-16

申请人： Mark Gaydos ,  Stanley Lewandowski

设计人： Mark Gaydos ,  Stanley Lewandowski

公开(公告)号：US20120315387A1

公开(公告)日：2012-12-13

申请号：US13551747

申请日：2012-07-18

申请人： Steven A. Miller ,  Mark Gaydos ,  Leonid N. Shekhter ,  Gokce Gulsoy

发明人： Steven A. Miller ,  Mark Gaydos ,  Leonid N. Shekhter ,  Gokce Gulsoy

IPC分类号： B05D1/12 ,  B05D3/10

CPC分类号： B05D1/12 ,  B22F3/003 ,  B22F7/04 ,  B22F9/20 ,  B22F2999/00 ,  C23C24/04 ,  B22F1/0088 ,  B22F2201/10

摘要： Refractory metal powders are dehydrided in a device which includes a preheat chamber for retaining the metal powder fully heated in a hot zone to allow diffusion of hydrogen out of the powder. The powder is cooled in a cooling chamber for a residence time sufficiently short to prevent re-absorbtion of the hydrogen by the powder. The powder is consolidated by impact on a substrate at the exit of the cooling chamber to build a deposit in solid dense form on the substrate.

摘要翻译： 耐火金属粉末在包括用于保持在热区域中完全加热的金属粉末的预热室的装置中脱水以允许氢从粉末中扩散出来。 粉末在冷却室中冷却，停留时间足够短以防止粉末再吸收氢气。 粉末通过在冷却室的出口处的基底上冲击而固结，以在基体上以固体致密形式沉积。

公开(公告)号：US07837929B2

公开(公告)日：2010-11-23

申请号：US11255018

申请日：2005-10-20

申请人： Mark Gaydos ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Norman C. Mills ,  Gary Rozak ,  Rong-Chein Richard Wu

发明人： Mark Gaydos ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Norman C. Mills ,  Gary Rozak ,  Rong-Chein Richard Wu

IPC分类号： B22F3/02

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F3/15 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/045 ,  B22F5/006 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/02 ,  B22F3/1208 ,  B22F3/04

摘要： Molybdenum titanium sputter targets are provided. In one aspect, the targets are substantially free of the β(Ti, Mo) alloy phase. In another aspect, the targets are substantially comprised of single phase β(Ti, Mo) alloy. In both aspects, particulate emission during sputtering is reduced. Methods of preparing the targets, methods of bonding targets together to produce large area sputter targets, and films produced by the targets, are also provided.

摘要翻译： 提供钼钛溅射靶。 在一个方面，目标基本上不含（Ti，Mo）合金相。 另一方面，靶基本上由单相（Ti，Mo）合金构成。 在这两个方面，溅射中的颗粒发射减少。 还提供了制备目标的方法，将靶标结合在一起以产生大面积溅射靶的方法，以及由靶产生的膜。