公开(公告)号：US20130251902A1

公开(公告)日：2013-09-26

申请号：US13572420

申请日：2012-08-10

申请人： Sung-Yong Lee ,  Myung-Soo Huh ,  Choel-Min Jang ,  Cheol-Rae Jo ,  In-Kyo Kim ,  Yong-Suk Lee ,  Mi-Ra An ,  Sang-Joon Seo

发明人： Sung-Yong Lee ,  Myung-Soo Huh ,  Choel-Min Jang ,  Cheol-Rae Jo ,  In-Kyo Kim ,  Yong-Suk Lee ,  Mi-Ra An ,  Sang-Joon Seo

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C16/45551 ,  C23C16/4583

摘要： A thin film depositing apparatus and a thin film depositing method used by the thin film depositing apparatus. The thin film depositing apparatus includes a deposition chamber through which a process gas outlet of a deposition source is arranged; a transfer shuttle disposed in the deposition chamber, the transfer shuttle comprising a mounting plate for loading a substrate, the transfer shuttle being reciprocal with respect to the process gas outlet; and at least one bendable auxiliary plate installed at one side of the transfer shuttle, the bendable auxiliary plate closing the process gas outlet when opposite the process gas outlet, the bendable auxiliary plate comprising a folding member for placing the bendable auxiliary plate in each of an unbent state and bent state dependent upon the position of the transfer shuttle.

摘要翻译： 薄膜沉积设备使用的薄膜沉积设备和薄膜沉积方法。 薄膜沉积设备包括沉积室，沉积源的处理气体出口通过其沉积; 设置在所述沉积室中的传送梭，所述传送梭包括用于装载基底的安装板，所述传送梭相对于所述处理气体出口是往复的; 以及安装在所述传送梭的一侧的至少一个可弯曲辅助板，所述可弯曲辅助板在与所述工艺气体出口相对的位置处关闭所述工艺气体出口，所述可弯曲辅助板包括折叠构件，用于将所述可弯曲辅助板放置在 取决于转移梭的位置的弯曲状态和弯曲状态。

公开(公告)号：US08900662B2

公开(公告)日：2014-12-02

申请号：US13572420

申请日：2012-08-10

申请人： Sung-Yong Lee ,  Myung-Soo Huh ,  Choel-Min Jang ,  Cheol-Rae Jo ,  In-Kyo Kim ,  Yong-Suk Lee ,  Mi-Ra An ,  Sang-Joon Seo

发明人： Sung-Yong Lee ,  Myung-Soo Huh ,  Choel-Min Jang ,  Cheol-Rae Jo ,  In-Kyo Kim ,  Yong-Suk Lee ,  Mi-Ra An ,  Sang-Joon Seo

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/44

CPC分类号： C23C16/45551 ,  C23C16/4583

摘要： A thin film depositing apparatus and a thin film depositing method used by the thin film depositing apparatus. The thin film depositing apparatus includes a deposition chamber through which a process gas outlet of a deposition source is arranged; a transfer shuttle disposed in the deposition chamber, the transfer shuttle comprising a mounting plate for loading a substrate, the transfer shuttle being reciprocal with respect to the process gas outlet; and at least one bendable auxiliary plate installed at one side of the transfer shuttle, the bendable auxiliary plate closing the process gas outlet when opposite the process gas outlet, the bendable auxiliary plate comprising a folding member for placing the bendable auxiliary plate in each of an unbent state and bent state dependent upon the position of the transfer shuttle.

摘要翻译： 薄膜沉积设备使用的薄膜沉积设备和薄膜沉积方法。 薄膜沉积设备包括沉积室，沉积源的处理气体出口通过其沉积; 设置在所述沉积室中的传送梭，所述传送梭包括用于装载基底的安装板，所述传送梭相对于所述处理气体出口是往复的; 以及安装在所述传送梭的一侧的至少一个可弯曲辅助板，所述可弯曲辅助板在与所述工艺气体出口相对的位置处关闭所述工艺气体出口，所述可弯曲辅助板包括折叠构件，用于将所述可弯曲辅助板放置在 取决于转移梭的位置的弯曲状态和弯曲状态。

公开(公告)号：US20130171335A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：US13535268

申请日：2012-06-27

申请人： Yong-Suk Lee ,  Myung-Soo Huh ,  Cheol-Rae Jo ,  Sang-Hyuk Hong ,  Jeong-Ho Yi ,  Suk-Won Jung ,  Sun-Ho Kim ,  Mi-Ra An

发明人： Yong-Suk Lee ,  Myung-Soo Huh ,  Cheol-Rae Jo ,  Sang-Hyuk Hong ,  Jeong-Ho Yi ,  Suk-Won Jung ,  Sun-Ho Kim ,  Mi-Ra An

IPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/52 ,  C23C16/50 ,  C23C16/448

CPC分类号： C23C14/12 ,  C23C14/228 ,  C23C14/246 ,  C23C14/58 ,  C23C14/584

摘要： A thin film depositing apparatus and a thin film deposition method using the apparatus. The thin film depositing apparatus includes a chamber configured to have a substrate mounted therein, an ejection unit configured to move in the chamber and to eject a deposition vapor to the substrate, and a source supply unit configured to supply a source of the deposition vapor to the ejection unit.

摘要翻译： 一种薄膜沉积设备和使用该设备的薄膜沉积方法。 该薄膜沉积设备包括：一个被配置为具有安装在其中的基板的腔室;喷射单元，被配置为在腔室中移动并将沉积蒸气喷射到基底;以及源供应单元，其构造成将沉积蒸气源供应到 喷射单元。