公开(公告)号：US06743529B2

公开(公告)日：2004-06-01

申请号：US10015683

申请日：2001-12-17

申请人： Yasuhiro Saito ,  Hiroshi Ikeda ,  Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani

发明人： Yasuhiro Saito ,  Hiroshi Ikeda ,  Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani

IPC分类号： G11B566

CPC分类号： C03C3/083 ,  C03C3/085 ,  C03C3/087 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  G11B5/7315 ,  G11B5/8404 ,  Y10S428/90

摘要： A process for producing a glass substrate for a magnetic recording medium by forming a surface roughness in a main surface of a glass plate that has been formed into a disk shape, includes: imparting a processing mark having a permanent strain to the main surface of the glass plate in a circumferential direction thereof; and chemically etching the whole main surface of the glass plate, so as to form the surface roughness.

摘要翻译： 通过在已经形成为盘状的玻璃板的主表面中形成表面粗糙度来制造用于磁记录介质的玻璃基板的方法包括：将具有永久应变的加工标记赋予至 玻璃板的圆周方向; 并化学蚀刻玻璃板的整个主表面，以形成表面粗糙度。

公开(公告)号：US06576353B1

公开(公告)日：2003-06-10

申请号：US09526583

申请日：2000-03-16

申请人： Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Koichi Ataka ,  Akihiro Koyama ,  Junji Kurachi ,  Nobuyuki Yamamoto ,  Yoshihiro Matsuno

发明人： Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Koichi Ataka ,  Akihiro Koyama ,  Junji Kurachi ,  Nobuyuki Yamamoto ,  Yoshihiro Matsuno

IPC分类号： B32B1706

CPC分类号： G11B5/7315 ,  C03C3/083 ,  C03C15/00 ,  C03C21/002 ,  G11B5/8404 ,  Y10T428/315

摘要： A glass substrate for use as an information recording medium has an average surface roughness (Ra) in the range of 0.3 nm≦Ra

摘要翻译： 用作信息记录介质的玻璃基板的平均表面粗糙度（Ra）在0.3nm <= Ra <3.0nm的范围内，并且包括各向同性地分布成形并分布大致连续布置的表面凹凸。 在50mum×50μm的面积内，表面凹凸包括高度至少为3nm的5〜50,000个凸部，高度为15nm以下的凸部。 如果用碱性溶液过度蚀刻，则通过在玻璃基板中的酸处理工艺制造的多孔区域将被完全去除。 然而，通过控制酸碱处理工艺的条件，可以在多孔区域中的孔扩大的阶段停止使用碱性溶液的蚀刻工艺。

公开(公告)号：US07727407B2

公开(公告)日：2010-06-01

申请号：US11131816

申请日：2005-05-17

申请人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Hiroyuki Inomata

发明人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Hiroyuki Inomata

IPC分类号： C03C25/66

CPC分类号： C03C19/00 ,  B24B7/24 ,  B24B37/042 ,  C03C3/087 ,  C03C3/091 ,  C03C3/095 ,  C03C15/00 ,  C03C2204/08 ,  Y10S977/856

摘要： There are provided a method of processing an amorphous material which is capable of forming surface projections of uniform height in desired positions on the amorphous material, and a magnetic disk substrate using the amorphous material. A predetermined pressure is applied to selected parts of a surface of an amorphous material using fine particles having a hardness higher than that of the amorphous material to form high-density compressed layers, and a surface layer of the amorphous material is removed using a treatment agent that has a different removal capacity in the compressed layers and a remaining uncompressed layer, thus making the compressed layers project out. For example, the treatment agent may be an etching solution having a different etching rate in the compressed layers and the uncompressed layer.

摘要翻译： 提供了一种处理非晶材料的方法，该非晶材料能够在非晶材料上的期望位置形成均匀高度的表面突起，以及使用该非晶材料的磁盘基板。 使用硬度高于无定形材料的细小颗粒将预定压力施加到非晶材料表面的选定部分，以形成高密度压缩层，并使用处理剂除去非晶材料的表面层 其在压缩层和剩余的未压缩层中具有不同的去除能力，从而使压缩层突出。 例如，处理剂可以是在压缩层和未压缩层中具有不同蚀刻速率的蚀刻溶液。

公开(公告)号：US06913702B2

公开(公告)日：2005-07-05

申请号：US09949692

申请日：2001-09-10

申请人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Hiroyuki Inomata

发明人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Hiroyuki Inomata

IPC分类号： B24B7/24 ,  C03C3/085 ,  C03C15/00 ,  B44C1/22

CPC分类号： C03C19/00 ,  B24B7/24 ,  B24B37/042 ,  C03C3/087 ,  C03C3/091 ,  C03C3/095 ,  C03C15/00 ,  C03C2204/08 ,  Y10S977/856

摘要： There are provided a method of processing an amorphous material which is capable of forming surface projections of uniform height in desired positions on the amorphous material, and a magnetic disk substrate using the amorphous material. A predetermined pressure is applied to parts of a surface of an amorphous material to form high-density compressed layers, and a surface layer of the amorphous material is removed using a treatment agent that has a different removal capacity in the compressed layers and a remaining uncompressed layer, thus making the compressed layers project out. For example, the treatment agent may be an etching solution having a different etching rate in the compressed layers and the uncompressed layer.

摘要翻译： 提供了一种处理非晶材料的方法，该非晶材料能够在非晶材料上的期望位置形成均匀高度的表面突起，以及使用该非晶材料的磁盘基板。 将预定的压力施加到非晶材料的表面的部分以形成高密度压缩层，并且使用在压缩层中具有不同去除能力的处理剂去除非晶材料的表面层，并且剩余的未压缩 层，从而使压缩层投射出来。 例如，处理剂可以是在压缩层和未压缩层中具有不同蚀刻速率的蚀刻溶液。

公开(公告)号：US20050211673A1

公开(公告)日：2005-09-29

申请号：US11131816

申请日：2005-05-17

申请人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Hiroyuki Inomata

发明人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Hiroyuki Inomata

IPC分类号： B24B7/24 ,  C03C3/085 ,  C03C15/00 ,  B44C1/22 ,  H01L21/00

CPC分类号： C03C19/00 ,  B24B7/24 ,  B24B37/042 ,  C03C3/087 ,  C03C3/091 ,  C03C3/095 ,  C03C15/00 ,  C03C2204/08 ,  Y10S977/856

摘要： There are provided a method of processing an amorphous material which is capable of forming surface projections of uniform height in desired positions on the amorphous material, and a magnetic disk substrate using the amorphous material. A predetermined pressure is applied to selected parts of a surface of an amorphous material using fine particles having a hardness higher than that of the amorphous material to form high-density compressed layers, and a surface layer of the amorphous material is removed using a treatment agent that has a different removal capacity in the compressed layers and a remaining uncompressed layer, thus making the compressed layers project out. For example, the treatment agent may be an etching solution having a different etching rate in the compressed layers and the uncompressed layer.

摘要翻译： 提供了一种处理非晶材料的方法，该非晶材料能够在非晶材料上的期望位置形成均匀高度的表面突起，以及使用该非晶材料的磁盘基板。 使用硬度高于无定形材料的细小颗粒将预定压力施加到非晶材料表面的选定部分，以形成高密度压缩层，并使用处理剂除去非晶材料的表面层 其在压缩层和剩余的未压缩层中具有不同的去除能力，从而使压缩层突出。 例如，处理剂可以是在压缩层和未压缩层中具有不同蚀刻速率的蚀刻溶液。

公开(公告)号：US06440531B1

公开(公告)日：2002-08-27

申请号：US09569754

申请日：2000-05-12

申请人： Junji Kurachi ,  Akihiro Koyama ,  Nobuyuki Yamamoto ,  Yasuhiro Saito ,  Kazuishi Mitani ,  Koichi Ataka ,  Yoshihiro Matsuno

发明人： Junji Kurachi ,  Akihiro Koyama ,  Nobuyuki Yamamoto ,  Yasuhiro Saito ,  Kazuishi Mitani ,  Koichi Ataka ,  Yoshihiro Matsuno

IPC分类号： G11B582

CPC分类号： G11B5/7315 ,  C03C3/087 ,  C03C15/00 ,  C03C15/02 ,  C03C21/002 ,  C03C2204/08 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/8305

摘要： A glass substrate for an information recording medium has an acid resistance represented by an etching rate of at most 45 nm/min. upon contact with a hydrofluoric acid having a temperature of 50° C. and a concentration of 0.1 weight %. The glass substrate has a recording surface having an average surface roughness Ra smaller than 0.3 nm.

摘要翻译： 用于信息记录介质的玻璃基板具有由蚀刻速率至多为45nm / min表示的耐酸性。 与温度为50℃，浓度为0.1重量％的氢氟酸接触。 玻璃基板具有平均表面粗糙度Ra小于0.3nm的记录表面。

公开(公告)号：US06821893B2

公开(公告)日：2004-11-23

申请号：US10105853

申请日：2002-03-25

申请人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito

发明人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito

IPC分类号： H01L21302

CPC分类号： G11B5/8404 ,  C03C10/0027 ,  C03C19/00 ,  C03C21/002 ,  G11B5/7315

摘要： There is provided a substrate for information recording media and a manufacturing method thereof, which allow an information recording medium to be driven reliably and stably even when the flying height is made lower than conventionally to cope with increased recording density of the data zone. Precision polishing is carried out on a glass substrate using a polishing agent. After the precision polishing, surface treatment is carried out using an etching liquid containing both hydrofluoric acid and a fluoride salt.

摘要翻译： 提供了一种用于信息记录介质的基板及其制造方法，即使当飞行高度低于常规以适应数据区域的增加的记录密度时，也能够可靠且稳定地驱动信息记录介质。 使用研磨剂在玻璃基板上进行精密抛光。 在精密抛光之后，使用含有氢氟酸和氟化物盐的蚀刻液进行表面处理。

公开(公告)号：US06550278B2

公开(公告)日：2003-04-22

申请号：US10213554

申请日：2002-08-06

申请人： Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Koichi Ataka ,  Akihiro Koyama ,  Junji Kurachi ,  Nobuyuki Yamamoto ,  Yoshihiro Matsuno

发明人： Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Koichi Ataka ,  Akihiro Koyama ,  Junji Kurachi ,  Nobuyuki Yamamoto ,  Yoshihiro Matsuno

IPC分类号： C03C2100

CPC分类号： G11B5/7315 ,  C03C3/083 ,  C03C15/00 ,  C03C21/002 ,  G11B5/8404 ,  Y10T428/315

摘要： A glass substrate for use as an information recording medium has an average surface roughness (Ra) in the range of 0.3 nm≦Ra

摘要翻译： 用作信息记录介质的玻璃基板的平均表面粗糙度（Ra）在0.3nm <= Ra <3.0nm的范围内，并且包括各向同性地分布成形并分布大致连续布置的表面凹凸。 在50mum×50μm的面积内，表面凹凸包括高度至少为3nm的5〜50,000个凸部，高度为15nm以下的凸部。 如果用碱性溶液过度蚀刻，则通过在玻璃基板中的酸处理工艺制造的多孔区域将被完全去除。 然而，通过控制酸碱处理工艺的条件，可以在多孔区域中的孔扩大的阶段停止使用碱性溶液的蚀刻工艺。

公开(公告)号：US06547980B1

公开(公告)日：2003-04-15

申请号：US10194787

申请日：2002-07-12

申请人： Junji Kurachi ,  Akihiro Koyama ,  Nobuyuki Yamamoto ,  Yasuhiro Saito ,  Kazuishi Mitani ,  Koichi Ataka ,  Yoshihiro Matsuno

发明人： Junji Kurachi ,  Akihiro Koyama ,  Nobuyuki Yamamoto ,  Yasuhiro Saito ,  Kazuishi Mitani ,  Koichi Ataka ,  Yoshihiro Matsuno

IPC分类号： G11B582

CPC分类号： G11B5/7315 ,  C03C3/087 ,  C03C15/00 ,  C03C15/02 ,  C03C21/002 ,  C03C2204/08 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/8305

摘要： A glass substrate for an information recording medium has an acid resistance represented by an etching rate of at most 45 nm/min. upon contact with a hydrofluoric acid having a temperature of 50° C. and a concentration of 0.1 weight %. The glass substrate has a recording surface having an average surface roughness Ra smaller than 0.3 nm.

摘要翻译： 用于信息记录介质的玻璃基板具有由蚀刻速率至多为45nm / min表示的耐酸性。 与温度为50℃，浓度为0.1重量％的氢氟酸接触。 玻璃基板具有平均表面粗糙度Ra小于0.3nm的记录表面。

公开(公告)号：US07415841B2

公开(公告)日：2008-08-26

申请号：US10397196

申请日：2003-03-27

申请人： Yuriko Kudoh ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito

发明人： Yuriko Kudoh ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito

IPC分类号： C03C21/00

CPC分类号： C03C21/002 ,  C03C17/006 ,  C03C17/06 ,  C03C2217/261 ,  C03C2217/42 ,  C03C2218/31 ,  C03C2218/322 ,  G11B5/7315 ,  G11B5/8404 ,  G11B7/2531 ,  G11B7/26 ,  G11B11/10582 ,  G11B23/0021

摘要： Prior to conducting chemical strengthening treatment by contacting a glass with a potassium-containing chemical strengthening treating solution, oxidation treatment is conducted to iron-containing particles adhered to a surface of the glass as a pre-step, and the glass is then chemically strengthened. The oxidation treatment is a heat treatment conducted at 80-400° C. in the air. A glass substrate for an information recording medium is obtained by the method.

摘要翻译： 在通过使玻璃与含钾化学强化处理溶液接触进行化学强化处理之前，对作为前期步骤的玻璃表面附着的含铁粒子进行氧化处理，然后进行化学强化。 氧化处理是在空气中在80-400℃进行的热处理。 通过该方法获得用于信息记录介质的玻璃基板。