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    Positive-Working Photoimageable Bottom Antireflective Coating
    3.
    发明申请
    Positive-Working Photoimageable Bottom Antireflective Coating 有权
    正面照相底部防反射涂层

    公开(公告)号：US20080038666A1

    公开(公告)日：2008-02-14

    申请号：US11876332

    申请日：2007-10-22

    申请人： Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Shuji Ding-Lee ,  Aritaka Hishida ,  Joseph Oberlander ,  Medhat Toukhy

    发明人： Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Shuji Ding-Lee ,  Aritaka Hishida ,  Joseph Oberlander ,  Medhat Toukhy

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/115 ,  Y10S438/952

    摘要： The present invention relates to a positive bottom photoimageable antireflective coating composition which is capable of being developed in an aqueous alkaline developer, wherein the antireflective coating composition comprises a polymer comprising at least one recurring unit with a chromophore group and one recurring unit with a hydroxyl and/or a carboxyl group, a vinyl ether terminated crosslinking agent, and optionally, a photoacid generator and/or an acid and/or a thermal acid generator. The invention further relates to a process for using such a composition.

    摘要翻译： 本发明涉及能够在含水碱性显影剂中显影的正底部可光成像抗反射涂料组合物，其中抗反射涂料组合物包含含有至少一个具有发色团的重复单元的聚合物和一个具有羟基的重复单元， /或羧基，乙烯基醚封端的交联剂，以及任选的光酸产生剂和/或酸和/或热酸发生剂。 本发明还涉及使用这种组合物的方法。

    Process for producing an image using a first minimum bottom antireflective coating composition
    4.
    发明申请
    Process for producing an image using a first minimum bottom antireflective coating composition 审中-公开
    使用第一最小底部抗反射涂料组合物制造图像的方法

    公开(公告)号：US20060199103A1

    公开(公告)日：2006-09-07

    申请号：US11416240

    申请日：2006-05-02

    申请人： Mark Neisser ,  Joseph Oberlander ,  Medhat Toukhy ,  Raj Sakamuri ,  Shuji Ding-Lee

    发明人： Mark Neisser ,  Joseph Oberlander ,  Medhat Toukhy ,  Raj Sakamuri ,  Shuji Ding-Lee

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/095 ,  Y10S430/151

    摘要： Disclosed is a process for forming an image on a substrate, comprising the steps of: (a) coating on the substrate a first layer of a radiation sensitive, antireflective composition; (b) coating a second layer of a photoresist composition onto the first layer of the antireflective composition; (c) selectively exposing the coated substrate from step (b) to actinic radiation; and (d) developing the exposed coated substrate from step (c) to form an image; wherein both the photoresist composition and the antireflective composition are exposed in step (c); both are developed in step (d) using a single developer; wherein the antireflective composition of step (a) is a first minimum bottom antireflective coating (B.A.R.C.) composition, having a solids content of up to about 8% solids, and a maximum coating thickness of the coated substrate of λ/2n wherein λ is the wavelength of the actinic radiation of step (c) and n is the refractive index of the B.A.R.C. composition.

    摘要翻译： 公开了一种在衬底上形成图像的方法，包括以下步骤：（a）在衬底上涂覆第一层辐射敏感的抗反射组合物; （b）将第二层光致抗蚀剂组合物涂覆到抗反射组合物的第一层上; （c）将涂覆的基材从步骤（b）选择性暴露于光化辐射; 和（d）将来自步骤（c）的曝光的涂覆的基底显影以形成图像; 其中在步骤（c）中曝光光致抗蚀剂组合物和抗反射组合物; 在步骤（d）中使用单个显影剂开发两者; 其中步骤（a）的抗反射组合物是第一最小底部抗反射涂层（BARC）组合物，其固体含量高达约8％固体，并且涂覆的基底的最大涂层厚度为λ/ 2n，其中λ为 步骤（c）的光化辐射的波长，n是BARC的折射率 组成。

    Antireflective coating compositions
    8.
    发明授权
    Antireflective coating compositions 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US07666575B2

    公开(公告)日：2010-02-23

    申请号：US11550459

    申请日：2006-10-18

    申请人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    发明人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含至少一个结构单元（6）的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6）烷基和芳族基团，R 14和R 15独立地为（C 1 -C 10）烷基 。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。

    Antireflective Coating Compositions
    9.
    发明申请
    Antireflective Coating Compositions 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US20080096125A1

    公开(公告)日：2008-04-24

    申请号：US11550459

    申请日：2006-10-18

    申请人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    发明人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含结构（6）的至少一个单元的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6） C 1 -C 6烷基和芳基，R 14和R 15独立地是（C 1 -C 6）烷基和芳基， C 1 -C 10烷基。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。