HAIR TREATMENT METHOD
    17.
    发明申请
    HAIR TREATMENT METHOD 审中-公开
    头发处理方法

    公开(公告)号:WO2011141882A1

    公开(公告)日:2011-11-17

    申请号:PCT/IB2011/052074

    申请日:2011-05-11

    Abstract: The present invention relates to a cosmetic hair treatment method comprising at least the steps consisting of: a) applying a mechanical tension to said hair, b) exposing said hair under mechanical tension to microwaves, in the presence of a solvent in vapour form in contact with said hair, without complete drying of the hair during microwave exposure, the solvent in vapour form being entirely generated by the evaporation of a compound which is present, before emission of the microwaves, in contact with the treated hair.

    Abstract translation: 本发明涉及一种化妆品头发处理方法,其至少包括以下步骤:a)对所述头发施加机械张力,b)在机械张力下将所述毛发暴露于微波中,在存在蒸气形式的溶剂的存在下接触 与所述头发,在微波暴露期间没有完全干燥毛发,蒸气形式的溶剂完全通过在发射微波之前与经处理的毛发接触而存在的化合物的蒸发完全产生。

    COMPOSITIONS COSMETIQUES COMPRENANT DES POLYAMINES MODIFIEES ET UTILISATIONS DESDITES COMPOSITIONS
    18.
    发明申请
    COMPOSITIONS COSMETIQUES COMPRENANT DES POLYAMINES MODIFIEES ET UTILISATIONS DESDITES COMPOSITIONS 审中-公开
    含有改性聚氨酯的化妆品组合物及其用途

    公开(公告)号:WO2005092274A1

    公开(公告)日:2005-10-06

    申请号:PCT/FR2005/050169

    申请日:2005-03-16

    Abstract: L’invention concerne une composition cosmétique aqueuse comprenant, dans un milieu cosmétiquement acceptable, au moins un composé polymère dont la chaîne comprend au moins deux motifs aminés -NH- et/ou formule (I) et ne contient pas d’unité vinylamine ou vinylamide, ledit composé polymère étant modifié par un ou plusieurs segments hydrocarbonés hydrophiles et/ou hydrophobes, le ou lesdits segments étant différents d’un sucre et ne contenant pas de groupement soufré, siliconé ou amidino, la modification par un segment hydrocarboné hydrophobe n’étant pas réalisée par l’intermédiaire d’un groupe espaceur bifonctionnel.

    Abstract translation: 本发明涉及在化妆品可接受的介质中含有至少一种类型的聚合物化合物的水性化妆品组合物,其链包含至少两种类型的胺单元-NH-和/或式(I),并且不含乙烯胺或 乙烯基酰胺单元,其中所述聚合物化合物被一个或几个与糖不同的亲水和/或疏水烃链段改性,并且没有硫,硅氧烷或脒基,并且其中疏水性烃链段的修饰不是通过 的双功能间隔基。

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