中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

9 records (took 0.016 seconds)

    ガスバリア性フィルムおよびその製造方法
    1.
    发明申请
    ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 审中-公开
    气体阻隔膜及其制造方法

    公开(公告)号：WO2014163009A1

    公开(公告)日：2014-10-09

    申请号：PCT/JP2014/059178

    申请日：2014-03-28

    Applicant: 東レ株式会社

    Inventor： 徳永幸大 ,  上林浩行 ,  佐竹光 ,  鈴木基之

    IPC: C23C14/08 ,  B32B9/00

    CPC classification number: C23C14/08 ,  B32B9/00 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/7244 ,  B32B2439/70 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/10 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/562

    Abstract: 　屈曲に対してもガスバリア性が低下しにくく、高透明かつ高度なガスバリア性を発現するガスバリア性フィルムを提供することを課題とする。　高分子フィルム基材の少なくとも片側に、少なくとも酸化亜鉛と二酸化ケイ素とを含有するガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、該ガスバリア層が、所定範囲の（９６６４．０ｅＶのスペクトル強度）／（９６６８．０ｅＶのスペクトル強度）の値、所定範囲の構造密度指数、所定範囲の９２０ｃｍ －１ にピークを持つスペクトルの面積強度（Ａ）と１，０８０ｃｍ －１ にピークを持つスペクトルの面積強度（Ｂ）との比（Ａ／Ｂ）の値のいずれかを満たす構成とする。

    Abstract translation: 本发明解决了即使在阻气膜弯曲时也难以发生气体阻隔性劣化的阻气膜，具有高透明性和高阻气性的问题。 一种阻气膜，其包含聚合物膜基材和布置在所述聚合物膜基材的至少一个表面上并且至少含有氧化锌和二氧化硅的阻气层，所述阻气膜适于使阻气层 满足从（9664.0eV的光谱强度）/（9668.0eV的光谱强度）值落在规定范围内的要求中选择的至少一个要求，结构密度指数落在规定范围内的要求，以及要求 在920cm -1处具有峰值的光谱的面积强度（A）与在1080c -1处具有峰值的光谱的面积强度（B）的比率的值，即（A / B ）在一定范围内。

    凹凸形状付積層体の製造方法および転写フィルム
    2.
    发明申请
    凹凸形状付積層体の製造方法および転写フィルム 审中-公开
    用于制造具有未形成形状的层压板和转印膜的方法

    公开(公告)号：WO2014041904A1

    公开(公告)日：2014-03-20

    申请号：PCT/JP2013/070291

    申请日：2013-07-26

    Applicant: 東レ株式会社

    Inventor： 倉世古絵美 ,  高田進 ,  鈴木基之 ,  田中正太郎

    IPC: B32B3/30 ,  B32B27/00 ,  C09J7/02 ,  C09J201/00

    CPC classification number: B32B3/30 ,  B32B3/28 ,  B32B7/12 ,  B32B27/00 ,  B32B37/025 ,  B32B38/10 ,  B32B2307/536 ,  B32B2311/005 ,  B32B2457/00 ,  B32B2457/12 ,  B32B2457/20 ,  B32B2551/00 ,  C09J201/00 ,  Y10T428/24983 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/2848

    Abstract: 　被転写体に凹凸形状を有する転写層が積層された積層体を製造する方法であって、凹凸形状を有する支持フィルムの上に転写層が積層された転写フィルムであって、該転写層が形状保持層と接着層を含み、該形状保持層および該接着層が共に金属アルコキシドの重縮合生成物を含み、かつ、支持フィルムと形状保持層と接着層とがこの順で積層された転写フィルムを得る第１の工程、および、前記第１の工程で作製した転写フィルムの接着層表面と被転写体を対向および接触させて被転写体と転写フィルムを含む積層体を得る第２の工程、前記第２の工程で得られた積層体から、前記支持フィルムを除去する第３の工程、を含む、凹凸形状付積層体の製造方法。煩雑な工程を経ることなく、耐熱性の高い凹凸形状付積層体を製造する方法を提供する。

    Abstract translation: 一种制造层叠体的方法，其中具有不平坦形状的转印层被层压在被转印物体上，所述制造具有不平坦形状的层压体的方法包括：第一步骤，用于获得其中转印层被层压的转印膜 在具有不平坦形状的支撑膜上，转印层包括形状保持层和粘合剂层，形状保持层和粘合剂层都包含金属醇盐缩聚产物，并且支撑膜，形状保持层和 粘合剂层按此顺序层压; 第二步骤，用于使在第一步骤中制造的转印膜和粘合剂层的表面面对或接触，并获得包含转印体和转印膜的层压体; 以及第三步骤，用于从第二步骤中获得的层压体中除去支撑膜。 提供一种制造具有不规则形状的高耐热性层压体的方法，而不涉及复杂的工艺。

    凹凸構造を有する結晶基板の製造方法
    3.
    发明申请
    凹凸構造を有する結晶基板の製造方法 审中-公开
    用于制造具有未结构结构的晶体衬底的方法

    公开(公告)号：WO2013161095A1

    公开(公告)日：2013-10-31

    申请号：PCT/JP2012/070362

    申请日：2012-08-09

    Applicant: 東レ株式会社 ,  高田進 ,  倉世古絵美 ,  鈴木基之

    Inventor： 高田進 ,  倉世古絵美 ,  鈴木基之

    IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/306 ,  H01L33/22

    CPC classification number: H01L33/58 ,  B32B37/025 ,  B32B38/10 ,  B32B2310/0831 ,  B32B2323/00 ,  B32B2333/00 ,  B32B2361/00 ,  B32B2379/08 ,  B32B2457/20 ,  C30B33/08 ,  H01L33/005 ,  H01L33/22 ,  H01L2933/0058

    Abstract: 　本発明の目的は、簡易な製造プロセスで、結晶基板の表面のパターン加工の微細化や、結晶基板の大径化に優れた、凹凸構造を有する結晶基板の製造方法を提供することにある。　工程（Ａ）～（Ｃ）を含む凹凸構造を有する結晶基板の製造方法。 （Ａ）凹部の幅ｗが０．０５～１００μｍ、凹部の深さｄが０．０５～１０μｍ、前記凹部の深さｄと前記凹部の幅ｗとの比ｄ／ｗが１．５以下である凹凸形状を表面に有する支持体フィルムの凹凸形状を有する面に、残膜厚みｈが０．０１～１μｍとなるように凹凸膜を形成する転写フィルム形成工程 （Ｂ）前記転写フィルムを結晶基板の上に積層した後、前記凹凸膜を結晶基板上に転写して凹凸膜付き結晶基板とする転写工程 （Ｃ）前記凹凸膜付き結晶基板をエッチングして結晶基板の表面に凹凸構造を形成するエッチング工程

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种具有不平坦结构的晶体基板的制造方法，其需要简单的制造工艺，并且能够在晶体基板的表面上精炼图案处理和晶体基板的直径的增加 ，其包括步骤（A）至（C）：（A）形成凹凸宽度（w）在0.05以下的不平坦形状的支撑膜的表面上形成有凹凸膜的转印膜的工序 凹陷深度（d）为0.05μm〜10μm，凹部深度（d）与凹部宽度（w）的比（d / w）为1.5以下，凹凸膜 在表面上形成残留膜厚度（h）在0.01μm和1μm之间; （B）转印步骤，其中在将转印膜层压到晶体基板上以形成不均匀的膜涂覆的晶体基板之后，将不平坦膜转印到晶体基板上; 和（C）蚀刻步骤，其中蚀刻不均匀的膜涂覆的晶体衬底以在晶体衬底的表面上形成不均匀结构。

    ルーバーシートおよびルーバーシートの製造方法
    4.
    发明申请
    ルーバーシートおよびルーバーシートの製造方法 审中-公开
    图表和生产手册的方法

    公开(公告)号：WO2011055657A1

    公开(公告)日：2011-05-12

    申请号：PCT/JP2010/068938

    申请日：2010-10-26

    Applicant: 東レ株式会社 ,  河田融司 ,  辻内直樹 ,  箕浦潔 ,  鈴木基之

    Inventor： 河田融司 ,  辻内直樹 ,  箕浦潔 ,  鈴木基之

    IPC: G02B5/00

    CPC classification number: G02B27/0018 ,  G02B2207/123

    Abstract: 　本発明は、第１の面に複数の平行な溝が形成された樹脂シートと、前記溝の少なくとも底部を埋めるように充填された、ルーバー材料で構成されたルーバー部とを有し、樹脂シートの第１の面に対して垂直な方向から見た開口率が８０％以上であり、溝の長手方向に対して垂直な切断面において、ルーバー部の最も太い幅Ｗが０．１μｍ以上５μｍ以下であり、ルーバー部の最も太い幅Ｗと高さＨとの比Ｗ／Ｈが０．０１以上０．２以下の、ルーバーシートである。　本発明により、外光によるコントラストの低下を有効に抑制し、かつ全光線透過率の高いルーバーシートが提供される。

    Abstract translation: 公开了一种百叶窗片，其包括：在第一表面中设置有多个平行凹槽的树脂片; 以及由至少填充凹槽底部的百叶窗材料构成的百叶窗部分。 当从垂直于树脂片的第一表面的方向观察时，孔径比不小于80％; 在与槽的长度方向垂直的截面中，百叶窗部的最大宽度（W）为0.1〜5μm（以下）。 并且百叶窗部分的最大宽度（W）与高度（H）的比率即W / H为0.01-0.2（含）。 因此，百叶窗片有效地抑制由于外部光而造成的对比度的降低，同时具有高的总透光率。

    面発光体および前面フィルム
    5.
    发明申请
    面発光体および前面フィルム 审中-公开
    表面发光体和正面表面膜

    公开(公告)号：WO2013088997A1

    公开(公告)日：2013-06-20

    申请号：PCT/JP2012/081451

    申请日：2012-12-05

    Applicant: 東レ株式会社

    Inventor： 若原隆一 ,  鈴木基之 ,  河田融司

    IPC: H05B33/02 ,  H01L51/50 ,  H05B33/14

    CPC classification number: H05B33/12 ,  G02B5/0226 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/0278 ,  H01L51/5268 ,  H01L51/5284 ,  H05B33/02

    Abstract: 　本発明の目的は、光取り出し効率が高く、且つ色ずれの小さいことに加え、透光性基板が割れた時に飛散しにくい面発光体を提供せんとするものである。　片面に透光性基板を有する発光素子の該透光性基板の側に、基材フィルムの両面に粒子を含む樹脂層を有する少なくとも３層構成の前面フィルムが配置された面発光体であって、前記前面フィルムの入光側に位置する樹脂層（第１粒子含有層）が粒子を１～５０質量％含有し、前記前面フィルムの出光側に位置する樹脂層（第２粒子含有層）が粒子を２０～８０質量％含有することを特徴とする面発光体。

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种具有高光提取效率和较小色移的表面发光体，并且当透光性基板裂纹时不容易散射。 在基材薄膜的两面设置有具有至少三层结构的表面膜的表面发光体，所述表面膜在基材薄膜的两侧设置有至少三层结构，在该透光基板侧 在一个表面上具有透光性基板的发光元件; 其特征在于，位于前表面膜（第一含颗粒层）的光入射侧的树脂层含有1-50质量％的颗粒，并且位于前表面的光出射侧的树脂层 膜（第二粒子层）含有20〜80质量％的粒子。

    転写フィルムおよび凹凸構造付基板
    9.
    发明申请
    転写フィルムおよび凹凸構造付基板 审中-公开
    传输薄膜和基板具有缓冲结构

    公开(公告)号：WO2014163041A1

    公开(公告)日：2014-10-09

    申请号：PCT/JP2014/059465

    申请日：2014-03-31

    Applicant: 東レ株式会社

    Inventor： 山田絵美 ,  田中正太郎 ,  鈴木基之

    IPC: B32B27/00 ,  B32B3/30 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18

    CPC classification number: B32B3/30 ,  B32B27/08 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 ,  B32B2457/12

    Abstract: 表面に凹凸形状を有する支持体フィルムとシロキサン組成物を含む転写層で構成され、該シロキサン組成物が光酸発生剤または光塩基発生剤を含む転写フィルム。大面積の基板に、表面の凹凸形状が崩れにくいシロキサン層を簡便に形成するための転写フィルムまたは架橋転写フィルムを提供すること。また、架橋転写層を有する凹凸構造付基板を提供する。

    Abstract translation: 由在表面上具有浮雕图案的支撑膜和含有硅氧烷组合物的转印层构成的转印膜，所述硅氧烷组合物含有光酸产生剂或光碱产生剂。 本发明的目的是提供一种转印膜或交联转移膜，用于在具有大面积的基材上容易地形成其表面浮雕图案不容易塌陷的硅氧烷层。 本发明还提供具有具有交联转移层的浮雕结构的衬底。

Patent Agency Ranking