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公开(公告)号:WO2009128327A1
公开(公告)日:2009-10-22
申请号:PCT/JP2009/055902
申请日:2009-03-25
IPC: H01L21/304 , B08B3/08 , C11D7/02 , C11D17/08 , G02F1/13 , G02F1/1333 , G03F1/08
CPC classification number: C11D7/02 , C11D3/02 , C11D11/0047 , H01L21/02052
Abstract: 従来のガス溶解水に比べて格段に高い洗浄効果を発揮する電子材料用洗浄水を提供する。溶存ガスとして酸素とアルゴンとを含むガス溶解水よりなる電子材料用洗浄水であって、溶存酸素濃度が8mg/L以上であり、溶存酸素ガス量と溶存アルゴンガス量との合計に対して2体積%以上の溶存アルゴンガスを含む電子材料用洗浄水。この電子材料用洗浄水を用いて電子材料を洗浄する方法。酸素/アルゴンガス溶解水よりなる本発明の電子材料用洗浄水は、溶存ガス量が少なく、また、使用する薬品量も少ないものであっても高い洗浄効果を得ることができることから、安全に容易かつ安価に製造することができる。
Abstract translation: 提供用于电子材料的清洁水,其比具有溶解气体的常规水产生更高的清洁效果。 清洁水包含含有氧气和氩气作为溶解气体的水。 清洗水的溶解氧浓度为8mg / L以上,溶解的氩气的含量为溶解氧气量和溶解氩气的总和的2vol%以上 量。 还提供了用该清洁水清洁电子材料的方法。 即使当溶解气体的量少且化学品少量使用时,包含溶解有氧气和氩气的水的电子材料清洗水也能产生高的清洗效果。 因此,清洁水可以安全,容易和廉价地生产。