公开(公告)号：WO2007142351A1

公开(公告)日：2007-12-13

申请号：PCT/JP2007/061714

申请日：2007-06-11

申请人： 株式会社ニコン ,  株式会社仙台ニコン ,  牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

发明人： 牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

IPC分类号： H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01D5/38 ,  G03F7/20

CPC分类号： G01D5/38 ,  G01D5/266 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775

摘要： 　ウエハステージ（ＷＳＴ）の側面に移動格子（３０Ｘ）が設けられ、該移動格子に対して、光源（２２）から光を照射し、光源との間の位置関係が固定の固定スケール（２４Ａ，２４Ｂ）及びインデックススケール（２６）により移動格子で発生する回折光が干渉され、検出器（２８）により該干渉された光が検出される。この場合、移動格子がウエハステージの側面に設けられているので、ウエハステージ全体の大型化を抑制することができる。また、干渉は非常に近接した光路を通る複数の回折光（例えば±１次回折光）の間で生じるので、従来の干渉計に比べて周辺雰囲気の揺らぎによる影響が少なくなり、これにより、高精度な移動体の位置情報の計測が可能となる。

摘要翻译： 在晶片载台（WST）的侧面配置移动格（30X），从光源（22）向移动的格子施加光，在移动格子处产生的衍射光被固定刻度（24A， 24B），其中与光源的位置关系是固定的，并且索引标尺（26），并且被检测器（28）检测到被干扰的光。 在这种情况下，由于移动晶格布置在晶片台的侧表面上，因此可以抑制晶片台整体的尺寸增加。 此外，由于在通过非常接近的光路的多个衍射光束（例如，±一次衍射光束）中产生干涉，所以与常规干涉仪相比，环境气氛的波动的影响较小，位置信息的高精度测量 使移动体成为可能。

公开(公告)号：WO2008056546A1

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：PCT/JP2007/070879

申请日：2007-10-26

申请人： 株式会社仙台ニコン ,  牧野内 進

发明人： 牧野内 進

IPC分类号： G01D5/249 ,  G01D5/36

CPC分类号： G01D5/34784

摘要： 　演算部（５０）が、第１のアブソリュートパターンを用いて第１の信号処理部（３０）から出力された絶対位置情報と、第１のアブソリュートパターンの周期の整数倍でない周期を有する第２のアブソリュートパターンを用いて第２の信号処理部（１３０）から出力された絶対位置情報とを用いて、新たな絶対位置情報を算出する。これにより、分解能を落とすことなく、それぞれの絶対位置情報の組み合わせの数だけ、計測範囲を拡げることが可能となる。

摘要翻译： 操作部（50）使用第一绝对图案从第一信号处理部（30）输出的绝对位置信息和从具有第二绝对图案的第二信号处理部（130）输出的绝对位置信息，计算新的绝对位置信息 具有不是第一绝对图案的周期的整数倍的周期。 这使得可以通过每个绝对位置信息的组合数来扩展测量范围而不降低分辨率。

公开(公告)号：WO2005041276A1

公开(公告)日：2005-05-06

申请号：PCT/JP2004/015796

申请日：2004-10-25

申请人： 株式会社ニコン ,  今井 基勝 ,  牧野内 進

发明人： 今井 基勝 ,  牧野内 進

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： 　基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介して前記基板上に所定のパターンを形成する露光装置において、前記液浸領域の外周に、前記基板上に液体の一部を保持可能な予備液浸領域が形成されることを特徴とする。投影光学系の下面と基板表面との間に配置される液体が、投影光学系と基板との相対移動に伴って投影光学系の下面から剥離することを防止することができる。

摘要翻译： 一种曝光装置，通过在基板上的部分上提供液体并通过液体在基板上形成预定图案而形成液浸区域。 该装置的特征在于，在液浸区域的外周上形成能够在基板上保持液体的一部分的预备液浸区域。 当投影光学系统和基板相对移动时，防止放置在投影光学系统的下表面和基板的表面之间的液体与投影光学系统的下表面分离。

公开(公告)号：WO2008059748A1

公开(公告)日：2008-05-22

申请号：PCT/JP2007/071701

申请日：2007-11-08

申请人： 株式会社仙台ニコン ,  牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

发明人： 牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

IPC分类号： G01D5/38

CPC分类号： G01D5/38

摘要： 　受光素子２６からの光電変換信号（Ｉ ａ ,Ｉ ｂ ,Ｉ ｃ ,Ｉ ｄ ）に、演算を施し、その結果として２つの信号（Ｉ Ａ ,Ｉ Ｂ ）とを算出する。そして、信号（Ｉ Ａ ,Ｉ Ｂ ）から信号（Ｉ ＡＢ ）を生成し、この信号（Ｉ ＡＢ ）をエンコーダ（１０）から出力する。この信号（Ｉ ＡＢ ）は、式（７）に示されるように、時間ｔに依存する項が４ｄ・ｓｉｎ（ωｔ）である。一方、信号（Ｉ Ａ ,Ｉ Ｂ ）の時間ｔに依存する項は式（５）及び（６）に示されるように、２ｄ・ｓｉｎ（ωｔ）であるから、信号（Ｉ ＡＢ ）は、信号（Ｉ Ａ ,Ｉ Ｂ ）に対して、変調度を実質的に２倍にしたとのと同様に変化する。したがって、信号（Ｉ ＡＢ ）に基づいて移動スケール（２４）の位置を検出した場合には、変調度を２倍にしたのと同程度に精度よく移動スケール（２４）の位置を検出することが可能となる。

摘要翻译： 来自光接收元件的光电转换信号（I SUB，I，B，I，C，D，D） 26）被进行运算处理以提供两个信号（I SUB，B B），信号（I SUB）是从该信号 生成并从编码器（10）输出。 如表达式（7）所示，该信号包括如时间（t）依赖项，其为4d * sin（ωt）。 另一方面，信号（I SUB，I B B）具有它们各自的时间（t）依赖项，其为2d * sin（ωt），如 表达式（5,6），使得信号（I SUB AB）相对于信号（I SUB，I B B）变化， 类似于调制因子大致加倍的情况。 因此，在基于信号（I SUB AB））确定移动标尺（24）的位置的情况下，可以精确地确定移动标尺（24）的位置为 与调制因子加倍的情况类似。

公开(公告)号：WO2005020299A1

公开(公告)日：2005-03-03

申请号：PCT/JP2004/012319

申请日：2004-08-20

申请人： 株式会社ニコン ,  長坂 博之 ,  石井 勇樹 ,  牧野内 進

发明人： 長坂 博之 ,  石井 勇樹 ,  牧野内 進

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/709

摘要： この露光装置は、投影光学系の像面側に配置された基板上に、前記投影光学系と液体とを介して露光光を照射することによって前記基板を露光する露光装置であって、前記基板上に液体を供給する液体供給機構と、前記基板上に供給された液体を回収する液体回収機構とを備え、前記露光光が前記投影光学系の像面側に照射されているとき、前記液体回収機構は、前記液体の回収を行わない。

摘要翻译： 曝光装置通过在投影光学系统的图像表面侧上放置的基板上照射曝光光来曝光基板，通过投影光学系统和液体进行照射。 曝光装置具有用于将液体供给到基板上的液体供给机构和用于回收在基板上供给的液体的液体回收机构。 当曝光光被照射在投影光学系统的图像表面侧时，液体回收机构不会回收液体。

公开(公告)号：WO2007111228A1

公开(公告)日：2007-10-04

申请号：PCT/JP2007/055948

申请日：2007-03-23

申请人： 株式会社ニコン ,  株式会社仙台ニコン ,  牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

发明人： 牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

IPC分类号： G02B26/10 ,  G01D5/38 ,  G02B26/08

CPC分类号： G01D5/38 ,  G01D5/34715

摘要： 　照明光（ＩＬ）は、振動子（２１）の反射面（２１ａ）によって反射され、レンズ（２４）に入射する。このとき、振動子（２１）は、所定の周期でその反射面に交差する矢印（Ａ、Ａ’）方向に往復移動しているので、その振動子（２１）の反射面（２１ａ）で反射された照明光（ＩＬ）は、往復移動しながらレンズ（２４）に入射する。このレンズ（２４）に入射した照明光（ＩＬ）は、レンズ（２４）によって、振動子（２１）の往復移動に応じて、その出射角度が変更される。この結果、レンズ（２１）から出射される照明光（ＩＬ）は、所定角度範囲で走査される。この場合、振動幅の小さな、小型の振動子を採用できる。

摘要翻译： 照明光（IL）被反射在振荡器（21）的反射面（21a）上并进入透镜（24）。 由于振荡器（21）以与预定周期相交的箭头（A，A'）的方向往复运动，所以在振荡器（21）的反射面（21a）上反射的照明光（IL）进入透镜 （24）。 根据振荡器（21）由透镜（24）的往复移动，改变进入透镜（24）的照明光（IL）的出射角度。 因此，离开透镜（21）的照明光（IL）在预定的角度范围内进行扫描。 在这方面，可以采用具有小振荡范围的小振荡器。

公开(公告)号：WO2007097350A1

公开(公告)日：2007-08-30

申请号：PCT/JP2007/053140

申请日：2007-02-21

申请人： 株式会社ニコン ,  株式会社仙台ニコン ,  牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

发明人： 牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

IPC分类号： H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70775

摘要： 　ウエハ（Ｗ）を取り囲んでウエハステージ（ＷＳＴ）に固定されている４つの移動スケール（４４Ａ～４４Ｄ）と、各移動スケールに対応し、その長手方向の長さのほうが、それに直交する方向の長さよりも実質的に長い光をそれぞれ射出するヘッドユニット（４６Ａ～４６Ｄ）とを有するリニアエンコーダ（５０Ａ～５０Ｄ）を備える。そして、各エンコーダの計測結果に基づいて、ウエハステージ（ＷＳＴ）のＸＹ面内の位置情報を算出する。これにより、大型化を招くことなく、移動体の位置を精度良く計測することができる。

摘要翻译： 位置测量装置包括线性编码器（50A至50D），其具有固定到晶片台（WST）并且围绕晶片（W）的四个可动标尺（44A至44D）; 和头部单元（46A〜46D），其与可动标尺相对应，并且发射长度方向的波长比垂直于纵向的方向长的光。 基于由编码器测量的结果来计算晶片载台（WST）在XY平面中的位置的信息。 因此，可以在不增加尺寸的情况下精确地测量移动体的位置。

公开(公告)号：WO2007077855A1

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：PCT/JP2006/326007

申请日：2006-12-27

申请人： 株式会社ニコン ,  株式会社仙台ニコン ,  牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

发明人： 牧野内 進 ,  今井 亨 ,  渡邉 昭宏

IPC分类号： G01D5/38 ,  G01D5/347 ,  G01D5/36

CPC分类号： G01D5/38 ,  G01D5/34784

摘要： 　第１、第２のインデックススケール（２０，２２）を経由した光をビームスプリッタ（ＢＳ）により分岐し、その一方の光を移動スケール（２４）を介して第１の受光素子（２６）で受光するとともに、他方の光を参照スケール（２８）を介して第２の受光素子（３０）で受光するので、第１の受光素子の出力（出力１）と第２の受光素子の出力（出力２）とを用いて移動スケールの位置情報を算出することにより、ビームの変調中心（振動中心）のドリフトの影響を受けることなく、移動スケールの移動情報を高精度に計測することが可能となる。

摘要翻译： 通过第一和第二指标（20,22）的光被分束器（BS）分开。 一个分裂光被第一光接收元件（26）通过移动标尺（24）接收，另一个分裂光被第二光接收元件（30）通过参考标尺（28）接收。 因此，通过使用输出（输出（1））计算移动规模的位置信息，可以高度精确地测量移动标尺的移动信息而不受波束调制中心（振荡中心）的漂移的影响。 第一光接收元件和第二光接收元件的输出（输出（2））。