-
1.모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법 审中-公开
Title translation: 单体,包括单体的HARDMASK组合物和使用HARDMASK组合物形成图案的方法公开(公告)号:WO2014104496A1
公开(公告)日:2014-07-03
申请号:PCT/KR2013/004903
申请日:2013-06-04
Applicant: 제일모직 주식회사
CPC classification number: C07C39/12
Abstract: 화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 상기 화학식 1에서, A 1 내지 A 3 , X 1 내지 X 3 , L 1 , L 2 , n 및 m의 정의는 명세서에 기재된 바와 같다.
Abstract translation: 本发明涉及用化学式1表示的硬掩模组合物单体,包含单体的硬掩模组合物,以及通过使用硬掩模组合物形成图案的方法。 在化学式1中,A1-A3,X1-X3,L1,L2,n和m的定义与说明书中所述相同。
-
2.포토레지스트 하부막 형성용 조성물, 이를 이용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스 审中-公开
Title translation: 用于形成光电隔离层的组合物,使用其形成图案的方法,以及包含图案的半导体集成电路装置公开(公告)号:WO2013100374A1
公开(公告)日:2013-07-04
申请号:PCT/KR2012/009980
申请日:2012-11-23
Applicant: 제일모직 주식회사
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/095
Abstract: 화학식 1 내지 4로 표시되는 반복단위를 포함하는 공중합체 및 용매를 포함하는 포토레지스트 하부막 형성용 조성물, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 그리고 상기 방법으로 형성된 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于形成光致抗蚀剂底层的组合物,其中该组合物包含溶剂和共聚物,该共聚物包括重复单元并且由式1至4表示,涉及使用其形成图案的方法,并且还涉及 涉及包括通过该方法形成的图案的半导体集成电路器件。
-
公开(公告)号:WO2014065500A1
公开(公告)日:2014-05-01
申请号:PCT/KR2013/007873
申请日:2013-09-02
Applicant: 제일모직 주식회사
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0035 , G03F7/094
Abstract: 화학식 1로 표현되는 중합체, 화학식 2로 표현되는 모노머, 그리고 용매를 포함하고, 상기 모노머는 상기 중합체보다 높은 함량으로 포함되어 있는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种硬掩模组合物及使用其形成图案的方法。 所述硬掩模组合物包括由式1表示的聚合物,由式2表示的单体和溶剂,其中所述单体具有比聚合物更高的含量。
-
4.하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법 审中-公开
Title translation: 用于HARDMASK组合物的单体,包含单体的HARDMASK组合物和使用HARDMASK组合物形成图案的方法公开(公告)号:WO2013100409A1
公开(公告)日:2013-07-04
申请号:PCT/KR2012/010203
申请日:2012-11-29
Applicant: 제일모직 주식회사
IPC: G03F7/11 , G03F1/38 , G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: C07C39/21 , C07C39/225 , C08G65/38 , G03F1/00 , G03F7/094 , G03F7/20 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/0332 , H01L21/31144
Abstract: 화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种由式1表示的硬掩模组合物单体,涉及包含该单体的硬掩模组合物以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法。
-
5.하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법 审中-公开
Title translation: HARDMASK组合物的单体,包括单体的HARDMASK组合物和使用HARDMASK组合物的图案形成方法公开(公告)号:WO2013100365A1
公开(公告)日:2013-07-04
申请号:PCT/KR2012/009870
申请日:2012-11-21
Applicant: 제일모직 주식회사
CPC classification number: C07C39/14 , B05D1/005 , B05D3/007 , B05D3/0254 , B05D3/06 , C07C39/12 , C07C2603/50 , C07C2603/54 , C09D173/00 , G03F7/004 , G03F7/0752 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/30 , G03F7/36
Abstract: 하기 화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及由化学式1表示的硬掩模组合物单体,包含该单体的硬掩模组合物和使用其的图案形成方法。