나노 패턴의 형성방법
    1.
    发明申请
    나노 패턴의 형성방법 审中-公开
    形成纳米图案的方法

    公开(公告)号:WO2013162174A1

    公开(公告)日:2013-10-31

    申请号:PCT/KR2013/002176

    申请日:2013-03-18

    Abstract: 마스크층을 식각 보호층으로 이용하는 나노 패턴의 형성방법 및 이로부터 제조된 나노 구조물이 제공된다. 일 실시예에 따르면, 기판 상에 나노 응집 입자들을 포함하는 마스크층을 형성한다. 상기 마스크층은 상기 나노 응집 입자들 사이로 상기 기판을 노출하는 개구를 갖는다. 상기 마스크층을 식각 보호층으로 이용하여 상기 개구로부터 노출된 상기 기판의 표면을 선택적으로 식각하여, 상기 기판 상에 나노 패턴을 형성한다.

    Abstract translation: 提供了使用掩模层作为蚀刻保护层和由其制备的纳米结构形成纳米图案的方法。 根据一个实施方案,在基材上形成包含聚集的纳米颗粒的掩模层。 掩模层具有在聚集的纳米颗粒中暴露基底的孔。 通过使用掩模层作为蚀刻保护层选择性地蚀刻从孔暴露的基板的表面,在基板上形成纳米图案。

    반사 방지 기판 및 그 제조 방법
    4.
    发明申请
    반사 방지 기판 및 그 제조 방법 审中-公开
    抗反射基板及其制造方法

    公开(公告)号:WO2013141442A1

    公开(公告)日:2013-09-26

    申请号:PCT/KR2012/003495

    申请日:2012-05-03

    CPC classification number: G02B1/113

    Abstract: 반사 방지 기판 및 그 제조 방법이 개시된다. 본 발명에 의하면, 빛의 투과가 가능한 베이스 기판을 준비하고, 건식 에칭 방법을 이용하여 상기 베이스 기판의 표면에 복수의 돌기형 구조체를 형성하며, 무기물 입자의 증착에 의해 상기 복수의 돌기형 구조체 각각에 빛의 반사를 방지할 수 있는 반사 방지 구조체를 형성한다.

    Abstract translation: 公开了一种抗反射基板及其制造方法。 根据本发明,制备能够透过光的基底基板,利用干蚀刻方法在基底基板的表面上形成多个突出结构,并且形成能够防止光的反射的抗反射结构 通过沉积无机颗粒在多个突出结构中的每一个上。

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