Abstract:
Es wird ein Bauelement (1) angegeben. Das Bauelement (1) umfasst einen Anschlussträger (2) mit einer Chipanschlussstelle (3), einen Reflektor rahmen (4), wobei der Reflektor rahmen (4) die Chipanschlussstelle (3) lateral umschließt, und einen Halbleiterchip (5), wobei der Halbleiterchip (5) auf zumindest einem Teil des Reflektorrahmens (4) angeordnet ist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines Bauelements (1) angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von zumindest einem optoelektronischen Bauelement (100) aufweisend die Schritte: A) Bereitstellen eines Substrats (1), das zumindest einen Durchbruch (11) aufweist, B) Aufbringen von zumindest einem Halbleiterchip (2) mit einer Hauptstrahlungsaustrittsflache (21) auf das Substrat (1), C) Anordnen von Begrenzungsstrukturen (3), wobei der Halbleiterchip (2) im Seitenquerschnitt gesehen zwischen den Begrenzungsstrukturen (3) beabstandet angeordnet ist, D) Aufbringen eines Hilfsträgers (4) zumindest auf die Hauptstrahlungsaustrittsfläche (21) und auf die Begrenzungsstrukturen (3), E) Einbringen eines Vergussmaterials (5) über den zumindest einen Durchbruch (11) des Substrats (1), so dass das Vergussmaterial (5) zumindest zwischen den Begrenzungsstrukturen (3) und dem Halbleiterchip (2) angeordnet wird, wobei die Hauptstrahlungsaustrittsfläche (21) frei von dem Vergussmaterial (5) ist, F) Aushärten des Vergussmaterials (5), und gegebenenfalls G) Entfernen des Hilfsträgers (4), so dass das Vergussmaterial (5) und die Hauptstrahlungsaustrittsfläche (21) im Seitenquerschnitt gesehen in einer Ebene angeordnet sind.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Wellenlängenkonversionselements (10) angegeben, bei dem eine Wellenlangenkonversionsschicht (100) bereitgestellt, ihre Oberfläche mit einem Plasma (50) behandelt und die Wellenlängenkonversionsschicht gestanzt wird. Weiterhin werden eine Wellenlängenkonversionsschicht und ein optoelektronische Bauelement mit einer Wellenlängenkonversionsschicht angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine optoelektronische Leuchtvorrichtung (1) umfassend wenigstens eine im Betrieb der optoelektronischen Leuchtvorrichtung lichtemittierende Oberfläche (2) und eine auf der wenigstens einen lichtemittierenden Oberfläche angeordnete Konversionsschicht (3). Die Konversionsschicht (3) umfasst ein im wesentlichen transparentes Matrixmaterial (4) mit einem ersten Brechungsindex, in die eingebettet sind: eine Vielzahl von Lichtkonversionspartikeln (5) zur Konvertierung eines von der lichtemittierenden Oberfläche (2) emittierten Lichts einer ersten Wellenlänge in Licht einer zweiten Wellenlänge; und eine Vielzahl von Homogenisierungspartikeln (6) bestehend aus einem Material mit einem zweiten Brechungsindex. Der erste und der zweite Brechungsindex unterscheiden sich dabei höchstens um einen Wert von 0,1.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Weißlichtquelle mit einer Anord- nung von Leuchtdioden. Die Leuchtdioden sind in erste Leuchtdioden und zweite Leuchtdioden unterteilt. Ferner weist die Weißlichtquelle ein Konversionselement auf, das ausgebildet ist, um von den Leuchtdioden emittiertes Licht zu absorbieren und konvertiertes Licht mit einer größeren Wellenlänge als das emittierte Licht zu erzeugen. Dieses Konversionselement weist einen ersten Konversionsleuchtstoff in einem ersten Matrixmaterial auf, wobei das erste Matrixmaterial mit dem ersten Konversionsleuchtstoff flächig in einer durchgehenden Schicht oberhalb der ersten und der zweiten Leuchtdioden angeordnet ist. Außerdem weist das Konversionselement einen zweiten Konversionsleuchtstoff in einem zweiten Matrixmaterial auf, wobei das zweite Matrixmaterial mit dem zweiten Konversionsleuchtstoff nur oberhalb der zweiten Leuchtdioden angeordnet ist.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines Abdeckelements (10, 20) für ein optoelektronisches Bauelement (100, 200) umfasst Schritte zum Herstellen eines Rahmens (300) mit einer Mehrzahl von Durchbrüchen (310), zum Einbringen eines Konvertermaterials (400) in eine Mehrzahl der Durchbrüche (310) und zum Zerteilen des Rahmens (300).
Abstract:
Das Verfahren ist zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen eingerichtet und umfasst die Schritt: A) Bereitstellen eines Chipträgers (2) mit elektrischen Leiterstrukturen (22) an einer Trägeroberseite (20), B) Anbringen mindestens eines Halbleiterchips (3), der zur Lichterzeugung eingerichtet ist, auf zumindest einer der elektrischen Leiterstrukturen (22), C) Aufbringen zumindest einer Abdichtstruktur (4) auf zumindest einer der elektrischen Leiterstrukturen (22), sodass die Abdichtstruktur (4) mindestens einen Kontaktbereich (24) in Draufsicht gesehen ringsum vollständig umschließt, D) Erzeugen eines Vergusskörpers (5) direkt an dem mindestens einen Halbleiterchip (3) und direkt an der zumindest einen Abdichtstruktur (4) mittels Spritzgießen oder Spritzpressen, wobei die zumindest eine Abdichtstruktur (4) in einem Spritzwerkzeug (61, 62) den mindestens einen Kontaktbereich (24) gegenüber einem Material des Vergusskörpers (5) abdichtet, sodass der mindestens eine Kontaktbereich (24) frei von dem Vergusskörper (5) bleibt.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Schichtelements für einen optoelektronischen Halbleiterchip. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer Ausgangsschicht. Die Ausgangsschicht weist eine Ausnehmung auf. Das Verfahren umfasst des Weiteren ein Strukturieren der Ausgangsschicht zum Bilden des Schichtelements. Das Schichtelementweist eine Aussparung auf, welche wenigstens zum Teil aus der Ausnehmung der Ausgangsschicht gebildet ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements.
Abstract:
Ein wellenlängenkonvertierendes Element ist als flaches Plättchen ausgebildet, das eine Grundform mit einer Außenkontur aufweist. Das wellenlängenkonvertierende Element weist gegenüber der Grundform eine Aussparung auf, die durch eine Begrenzungskante begrenzt wird. An jedem Zusammentreffen der Begrenzungskante mit der Außenkontur ist jeweils ein Winkel von weniger als 90° eingeschlossen.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements mit den folgenden Schritten angegeben: - Bereitstellen eines strahlungsemittierenden Halbleiterchips (1) auf einem Träger (2), - Aufbringen mehrerer Einzelkonversionsschichten (4, 4`, 4``) aufeinander über eine Strahlungsaustrittsfläche (3) des Halbleiterchips (1) mittels Sprühbeschichten, wobei - die Einzelkonversionsschichten (4, 4`, 4``) ein Harz (5) mit Leuchtstoffpartikeln (6) aufweisen, - die jeweilige Einzelkonversionsschicht (4, 4`, 4``) vor dem Aufbringen der nächsten Einzelkonversionsschicht (4, 4`, 4``) nicht ausgehärtet wird. Außerdem wirdein optoelektronisches Bauelement angegeben.