電子部品モジュール
    1.
    发明申请
    電子部品モジュール 审中-公开
    电子元件模块

    公开(公告)号:WO2013190925A1

    公开(公告)日:2013-12-27

    申请号:PCT/JP2013/062811

    申请日:2013-05-07

    Abstract:  配線基板上の導電ランドと柱状の接続端子部材とが接合部を介して接合され、かつ接続端子部材を封止する樹脂層が配線基板上に形成された、電子部品モジュールにおいて、これを実装用基板に実装する際に実施されるリフロー工程で接合部を構成する接合材料が流れ出すことを抑制する。 接続端子部材(6)の露出側の端面(9)に、接合部(10)を構成する接合材料に含まれるSn系低融点金属との間で金属間化合物を生成し得るものであって、この金属間化合物との格子定数差が50%以上である、Cu-M系合金(MはNiおよび/またはMn)からなるめっき層(15)を形成しておく。リフロー工程で、接合材料が再溶融して、外部へ流れ出ようとしても、Cu-M系めっき層(15)と接触し、金属間化合物からなる高融点合金体(27)が、接続端子部材(6)と樹脂層(11)との界面を塞ぐように形成される。

    Abstract translation: 公开了一种电子部件模块,其中布线板上的导电焊盘和柱状连接端子部件之间的接合部彼此接合,并且在所述布线板上形成密封所述连接端子部件的树脂层,所述 电子部件模块,在将电子部件模块安装在安装基板上时进行的回流工序中,抑制构成接合部的接合材料的流出。 连接端子部件(6)的端面(9)在所述连接端子部件的露出侧上形成有由Cu-M系合金构成的镀层(15) 和/或Mn),其能够产生包含在构成接合部分(10)的接合材料中的Sn基低熔点金属的金属间化合物,并且在晶格常数之间具有50%以上的差异 合金和金属间化合物的合金。 即使接合材料在回流工序中再熔融流出到外部,接合材料与Cu-M系镀层(15)接触,高熔点合金体(27)构成 形成金属间化合物以覆盖连接端子构件(6)和树脂层(11)之间的界面。

    立体プリント配線板およびその製造方法ならびに電子部品モジュール
    3.
    发明申请
    立体プリント配線板およびその製造方法ならびに電子部品モジュール 审中-公开
    固体印刷电路板,制造固体印刷电路板的方法和电子元件模块

    公开(公告)号:WO2009037833A1

    公开(公告)日:2009-03-26

    申请号:PCT/JP2008/002564

    申请日:2008-09-18

    Abstract: 開口部(18)を有する第1のプリント配線板(22)と、開口部(18)の下に、導電ペースト部(19)を有する接着層(17)を介して第1のプリント配線板(22)に固定した第2のプリント配線板(26)とからなる立体プリント配線板(13)の、開口部(18)内の第2のプリント配線板(26)の第2の配線部(14b)に背の高い電子部品(11b)を設けることにより、第1のプリント配線板(22)の第1配線部(14a)に設けられた背の低い電子部品(11a)と高さを揃えて、実装部品の低背化を図ることができる。

    Abstract translation: 固体印刷电路板(13)具有:第一印刷电路板(22),具有开口部分(18);第二印刷电路板(26),固定在第一印刷电路板(22)上; 在开口部(18)的下方,通过具有导电性浆料部(19)的接合层(17)。 在开口部(18)中的第二印刷布线板(26)上的第二布线部(14b)上布置有高高度的电子部件(11b)。 因此,通过使高度等同于布置在第一印刷电路板(22)的第一布线部分(14a)上的小高度电子部件(11a)的高度,安装部件的高度被降低。

    DEVICE FOR DETERMINING AND/OR MONITORING A PROCESS VARIABLE AND METHOD FOR CONTACTING
    4.
    发明申请
    DEVICE FOR DETERMINING AND/OR MONITORING A PROCESS VARIABLE AND METHOD FOR CONTACTING 审中-公开
    一种用于确定和/或监视一个进程的大小和方法,用于接触

    公开(公告)号:WO2008065093A2

    公开(公告)日:2008-06-05

    申请号:PCT/EP2007062842

    申请日:2007-11-27

    Abstract: The invention relates to a device for determining and/or monitoring at least one process variable. The invention is characterized in that at least one sensor unit (1) is provided, that the sensor unit (1) is applied with a lower side thereof to an upper side of a substrate (2), that the sensor unit (1) is connected to at least one contact pad (3) for electrical contact, that at least one contact plate (5) is provided, that a lower side of said contact plate (5) is provided with a conductor structure (6), said conductor structure (6) being designed so as to correspond to the arrangement of the contact pad (3). The invention is further characterized in that the conductor structure (6) and the contact pad (3) are contacted with each other in an electrically conducting manner, and that the contact plate (5) has at least one contacting unit (7) on an upper side, said contacting unit (7) and the conductor structure (6) being contacted with each other in an electrically conducting manner. The invention also relates to a method for contacting the sensor unit (1).

    Abstract translation: 本发明涉及一种设备,用于确定和/或监视至少一个工艺变量。 本发明包括至少一个传感器单元(1)被提供,即(1)具有在基板的顶部上的底部的传感器单元(2)被施加,使得传感器单元(1)用于制造电接触的至少一个接触垫(3) 被连接到至少一个接触板(5)设置,所述接触板(5)被设置在底侧具有导向结构(6),其中,所述导体图案(6)被设计成对应于所述接触垫(3),所述的布置 导体结构(6)和所述接触垫(3)彼此电接触,并且在其上的至少一个接触单元的上表面上的接触板(5)(7),其中所述接触单元(7)和导体图案(6)彼此导电接触 是。 此外,本发明涉及一种用于接触的传感器单元(1)。

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