公开(公告)号：WO2021259633A1

公开(公告)日：2021-12-30

申请号：PCT/EP2021/065326

申请日：2021-06-08

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  GOLDE, Daniel ,  STIEPAN, Hans Michael ,  SHKLOVER, Vitaliy

Inventor： HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  GOLDE, Daniel ,  STIEPAN, Hans Michael ,  SHKLOVER, Vitaliy

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08 ,  G02B7/185 ,  G02B27/00 ,  G21K1/06 ,  H01L41/08 ,  G02B26/0825 ,  G02B26/0858 ,  G02B27/0068 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70316 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067 ,  H01L41/047 ,  H01L41/0805 ,  H01L41/0986

Abstract: The invention relates to a mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, comprising an optical effective surface, a mirror substrate (10, 21, 31, 41, 50, 70, 80), a reflection layer stack (28, 38, 48, 75, 85) for reflecting electromagnetic radiation that is incident on the optical effective sur¬ face, at least one first electrode arrangement (24, 34, 44), at least one second electrode arrangement (23, 33, 43), and an actuator layer system situated between the first electrode arrangement and the second electrode arrangement, wherein said actuator layer system is arranged between the mirror substrate (10, 21, 31, 41, 50, 70, 80) and the reflection layer stack (28, 38, 48, 75, 85), said actuator layer system comprising a piezoelectric layer (25, 35, 45) and, in reaction to an electrical voltage being applied between the first electrode arrangement and the second electrode arrangement, exhibiting a deformation response (11, 51) characterizing the linear deformation of the actuator layer system in a direction perpendicular to the optical effective surface for a pre¬ defined value of the electrical voltage, wherein said deformation response varies locally by at least 20% in the PV value for a predefined electrical voltage that is spatially constant across the piezoelectric layer.

公开(公告)号：WO2021259634A1

公开(公告)日：2021-12-30

申请号：PCT/EP2021/065352

申请日：2021-06-08

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： ENKISCH, Hartmut ,  HOFFMANN, Sandro ,  WEBER, Jörn ,  STROBEL, Sebastian ,  RIBOW, Mirko ,  NOTTBOHM, Christoph ,  STURM, Matthias ,  KRAUSE, Michael

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  G02B5/18 ,  G02B27/425 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1857 ,  G02B5/203 ,  G02B5/208 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: Bei einem Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage wird eine formgebende Schicht (221) derart auf ein Substrat (20) aufgebracht, dass sie direkt nach dem Aufbringen auf das Substrat (20) eine Oberflächenrauheit von maximal 0,5 nm rms aufweist.

公开(公告)号：WO2023284915A2

公开(公告)日：2023-01-19

申请号：PCT/DE2022/100499

申请日：2022-07-13

Applicant: HELMHOLTZ-ZENTRUM BERLIN FÜR MATERIALIEN UND ENERGIE GMBH

Inventor： EGGENSTEIN, Frank ,  SCHWARZ, Lisa ,  ZESCHKE, Thomas ,  VIEFAAUS, Jens

IPC: G21K1/06 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/067

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Energiekalibration eines Plangittermonochromators (PGM) welcher ein Plangitter und einen Planspiegel, beide ausgestattet mit einem Antrieb mit einem Winkeldekodierer mit absoluter Skale, aufweist. Das Verfahren umfasst folgende Schritte: 1. Bereitstellung des PGM sowie kollimierter Röntgenstrahlung und einer Ionisationskammer im Strahlengang hinter dem PGM und eines Detektors zur Detektion von in der Ionisationskammer entstehender Strahlung. 2. Aufsuchen eines ersten Extremwertes (EW) des Photoionisationsspektrums des Gases in der Ionisationskammer durch Variation des Gesamtablenkwinkels 2Θ am PGM und Beugungswinkel β des Plangitters und rechnerische, anhand der Energie des ersten EW, oder geodätische Bestimmung eines zugehörigen Ablenkwinkel Θ des Planspiegels und Berechnung des zugehörigen Winkelwertes β des Plangitters und Zuweisung der Winkelwerte zu den aktuellen Teilstrichen der Dekodierer als Startpunkt. Anschließend wird in einem 3. Schritt (i) das Plangitter oder der Planspiegel bis zum Erreichen eines zweiten, zum ersten EW benachbarten EW des loinsationsspektrums rotiert und (ii) der jeweils zu (i) anderen von Planspiegel bzw. Plangitter zum ersten EW des lonisationsspektrums zurück rotiert und dabei (iii) jeweils Paare der Teilstriche der Dekodierer für jeden Teilschritt (i) und (ii) der Rotationen aus ausgelesenem anfänglichem Teilstrich und Teilstrich bei Erreichen des jeweils als nächstes anzufahrenden EW gebildet und jeweils zugehörige nominellen Winkeldifferenzen zwischen den Energien der zwei EWs des lonisationsspektrums zu den Paaren der Teilstriche zugewiesen. 4. Mindestens zweimaliges wiederholen von 3.