发明授权
CN100371826C 磺酸盐和光刻胶组合物
失效 - 权利终止
- 专利标题: 磺酸盐和光刻胶组合物
- 专利标题(英): Sulfonate and photoresist composition
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申请号: CN03155804.6申请日: 2003-08-22
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公开(公告)号: CN100371826C公开(公告)日: 2008-02-27
- 发明人: 山口训史 , 上谷保则 , 森马洋
- 申请人: 住友化学工业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪市
- 专利权人: 住友化学工业株式会社
- 当前专利权人: 住友化学工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪市
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 王学强
- 优先权: 2002-244971 2002.08.26 JP; 2002-319504 2002.11.01 JP
- 主分类号: G03F7/039
- IPC分类号: G03F7/039 ; G03F7/004
摘要:
本发明提供一种分子式(I)的磺酸盐:其中Q1,Q2,Q3,Q4和Q5各自独立地代表H、具有1-16个碳原子的烷基、具有1-16个碳原子的烷氧基、卤素、具有6-12个碳原子的芳基、具有7-12个碳原子的芳烷基、氰基、硫化物、羟基、硝基或分子式(I`)的基团-COO-X-Cy1(I`),其中X代表亚烷基,和该亚烷基中的至少一个-CH2-可被 -O-或 -S-取代且至少一个 -CH2-不被取代,和Cy1代表具有3-20个碳原子的酯环烃。
公开/授权文献
- CN1495526A 磺酸盐和光刻胶组合物 公开/授权日:2004-05-12
IPC分类: