发明授权
- 专利标题： 一种复合基质长余辉荧光材料及其制备方法
- 专利标题（英）： Composite substrate long-afterglow fluorescent material, and its preparing method
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申请号： CN200510079900.0申请日： 2005-07-01
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公开(公告)号： CN100485013C公开(公告)日： 2009-05-06
- 发明人: 张明 , 张立 , 张小磊 , 张强
- 申请人： 四川新力光源有限公司
- 申请人地址： 四川省成都市高新西区新达路2号
- 专利权人： 四川新力光源有限公司
- 当前专利权人： 四川新力光源股份有限公司
- 当前专利权人地址： 四川省成都市高新西区新达路2号
- 代理机构： 成都虹桥专利事务所
- 代理商 武森涛
- 主分类号： C09K11/81
- IPC分类号： C09K11/81
摘要：
本发明涉及一种新型的超长余辉荧光材料及其制备方法，所述材料包括由aMS·bM3(PO4)2·cMSiO2·aMO·fAl2O3·xRO·yTR2O3·zMnO构成的荧光体，M为钙，镁，钡，锶，锌或其组合；R为铕，钐，镱，镨，钕或其组合；TR为镧，钇，钕，镝，铒，铥，铈，钬或其组合；a、b、c、d、f、x、y、z是摩尔数。所述的荧光材料具有优越的耐水性和耐温性。
公开/授权文献
- CN1891783A 一种复合基质长余辉荧光材料及其制备方法 公开/授权日：2007-01-10
