制造集成电路装置的方法和用该方法制造的集成电路装置

Invention Grant

CN100499074C 制造集成电路装置的方法和用该方法制造的集成电路装置失效 - 权利终止

Patent Title: 制造集成电路装置的方法和用该方法制造的集成电路装置
Patent Title (English): Method for manufacturing integrated circuit device and integrated circuit device using same
Application No.: CN03136040.8

Application Date: 2003-05-15
Publication No.: CN100499074C

Publication Date: 2009-06-10
Inventor: 张世明 , 秦教英 , 吴容哲 , 金炫昌
Applicant: 三星电子株式会社
Applicant Address: 韩国京畿道水原市
Assignee: 三星电子株式会社
Current Assignee: 三星电子株式会社
Current Assignee Address: 韩国京畿道水原市
Agency: 中原信达知识产权代理有限责任公司
Agent 谢丽娜; 谷惠敏
Priority: 26785/2002 2002.05.15 KR
Main IPC: H01L21/82
IPC: H01L21/82 ; H01L21/336

Abstract:

具有侧壁的栅形成在集成电路衬底上。在栅的侧壁上形成阻挡层间隔。阻挡层间隔的一部分从栅的侧壁突出，露出面向集成电路衬底的阻挡层间隔的下表面。在从栅的侧壁突出的阻挡层间隔的所述部分上形成硅化物层。也提供了相关的装置。

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70	.由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77	..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78	...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82	....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路