发明公开
CN101055867A 半导体器件及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 半导体器件及其制造方法
- 专利标题(英): Semiconductor device and method for fabricating the same
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申请号: CN200710096315.0申请日: 2007-04-10
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公开(公告)号: CN101055867A公开(公告)日: 2007-10-17
- 发明人: 关口正博 , 高桥健司 , 沼田英夫 , 白河达彦 , 佐藤二尚
- 申请人: 株式会社东芝
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 李峥; 杨晓光
- 优先权: 107249/2006 2006.04.10 JP; 268342/2006 2006.09.29 JP
- 主分类号: H01L25/00
- IPC分类号: H01L25/00 ; H01L25/065 ; H01L25/10 ; H01L23/48 ; H01L21/60
摘要:
一种半导体器件,具备:表面侧形成有电极焊盘的半导体基板;贯通电极,其具有:形成为从所述半导体基板的背面侧到达形成于所述电极焊盘上的金属凸块的贯通孔,以覆盖所述贯通孔的内壁的方式形成的绝缘树脂,以及在利用所述绝缘树脂与所述半导体基板绝缘的状态下形成于所述贯通孔内,并将所述电极焊盘与所述半导体基板的背面侧电连接的导体;半导体芯片,其以背面彼此相对的方式安装在所述半导体基板的背面侧;以及布线,其将所述贯通电极和形成于所述半导体芯片的电极电连接。
公开/授权文献
- CN100563000C 半导体器件及其制造方法 公开/授权日:2009-11-25
IPC分类: