Invention Publication
- Patent Title: 最优控制方法、最优控制系统、总控制装置以及局部控制装置
- Patent Title (English): Optimizing control method and system, overall control apparatus and local control apparatus
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Application No.: CN200710096659.1Application Date: 2007-04-19
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Publication No.: CN101059687APublication Date: 2007-10-24
- Inventor: 有田裕 , 中塚康弘
- Applicant: 株式会社日立制作所
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 株式会社日立制作所
- Current Assignee: 株式会社日立制作所
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 李贵亮
- Priority: 2006-116305 2006.04.20 JP
- Main IPC: G05B13/02
- IPC: G05B13/02

Abstract:
本发明提供一种最优控制系统(10),包括对局部装置(4)进行控制的局部控制部(31)、对多个局部控制部(31)进行综合控制的总控制装置(2)、位于局部控制部(31)和总控制装置(2)之间并对在它们之间收发的控制信息进行标准化的控制信息标准化接口(1)。并且,控制信息标准化接口(1)具备控制条件信息存储部(12)和物理量变换部(11),其中该控制条件信息存储部(12)存储对于局部装置(4)的控制由规定的标准物理量表示的制约条件和评价函数、以及属性信息,该物理量变换部(11)将从局部装置(4)取得的局部物理状态量变换为标准物理状态量,并且将通过总控制装置(2)算出的最优控制目标值变换为局部控制目标值。从而可进行多个控制参数的最优化并且减少该控制系统的建立所需要的时间和步骤。
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