Invention Publication
- Patent Title: LiCoO2的沉积
- Patent Title (English): Deposition of licoo2
-
Application No.: CN200580042305.8Application Date: 2005-12-07
-
Publication No.: CN101073171APublication Date: 2007-11-14
- Inventor: 张红梅 , 理查德·E·德马雷 , 邵梅
- Applicant: 希莫菲克斯公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚
- Assignee: 希莫菲克斯公司
- Current Assignee: R.,恩内斯特.德玛雷
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 王旭
- Priority: 60/634,818 2004.12.08 US; 60/651,363 2005.02.08 US
- International Application: PCT/US2005/044781 2005.12.07
- International Announcement: WO2006/063308 EN 2006.06.15
- Date entered country: 2007-06-08
- Main IPC: H01M6/40
- IPC: H01M6/40 ; H01M6/12 ; H01M4/48

Abstract:
根据本发明,描述了用脉冲调制的dc物理气相沉积方法沉积LiCoO2层。这种沉积可以提供LiCoO2结晶层的低温、高沉积速率的沉积,所述LiCoO2结晶层具有理想的 或 取向。所述沉积的一些实施方案解决了LiCoO2膜的高速率沉积的需要,所述LiCoO2膜可以用作固态可再充电Li电池中的阴极层。根据本发明的方法的实施方案可以消除常规上使所述LiCoO2层结晶所需的高温(>700℃)退火步骤。所述方法的一些实施方案通过使用具有小的匀变速率的快速热退火处理可以改进使用所述LiCoO2层的电池。
Public/Granted literature
- CN101073171B LiCoO2的沉积 Public/Granted day:2010-09-22
Information query