- 专利标题: 改进的电化学沉积工艺制备单一c轴取向氧化锌薄膜方法
- 专利标题(英): Modified method for preparing single c-axle oriented zinc oxide film by electrochemical deposition process
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申请号: CN200710044966.5申请日: 2007-08-17
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公开(公告)号: CN101113533A公开(公告)日: 2008-01-30
- 发明人: 高相东 , 彭芳 , 李效民 , 于伟东
- 申请人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
- 申请人地址: 上海市长宁区定西路1295号
- 专利权人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海硅酸盐研究所苏州研究院
- 当前专利权人地址: 上海市长宁区定西路1295号
- 代理机构: 上海智信专利代理有限公司
- 代理商 潘振甦
- 主分类号: C30B30/02
- IPC分类号: C30B30/02
摘要:
本发明涉及一种改进的电化学沉积工艺制备单一c轴取向ZnO薄膜方法,其特征在于采用电化学预处理过程与恒电流沉积相结合的方法,在经预处理的衬底表面形成一晶柱尺寸小的ZnO籽晶层,使后续沉积ZnO薄膜具有单一c轴生长特性。具体包括电沉积前驱液的制备、衬底清洗处理以及薄膜生长三大步,最后薄膜生长采用电化学沉积系统。所制备的ZnO膜层具有单一c轴取向,结晶程度高,而且在可见光区具有很高的透过率,可用作薄膜太阳电池的窗口层、以及压电、光电、气敏等多种领域。本方法成本低廉,无需真空环境或使用有机物和高温加热设备,适合于大面积、规模化薄膜材料制备。
公开/授权文献
- CN100552099C 改进的电化学沉积工艺制备单一c轴取向氧化锌薄膜方法 公开/授权日:2009-10-21
IPC分类: