发明授权
- 专利标题: 一种半导体集成线路制造中磷酸液交换方法
- 专利标题(英): Phosphoric acid solution exchanging method in semiconductor integrated circuit production
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申请号: CN200610118863.4申请日: 2006-11-29
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公开(公告)号: CN101192507B公开(公告)日: 2011-07-20
- 发明人: 王明琪 , 荣毅 , 王珏
- 申请人: 上海华虹NEC电子有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区川桥路1188号
- 专利权人: 上海华虹NEC电子有限公司
- 当前专利权人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区川桥路1188号
- 代理机构: 上海浦一知识产权代理有限公司
- 代理商 王素萍
- 主分类号: H01L21/00
- IPC分类号: H01L21/00 ; H01L21/311 ; G05B19/02
摘要:
本发明揭示了一种半导体集成线路制造中的磷酸液交换方法和控制程序。在作业制品若干批次后,内槽(21)和外槽(22)的相应液位传感器在控制程序,进行部分量的磷酸药液交换,确保了槽内的磷酸药液始终维持对硅离子一定的溶解能力,而又在每个作业制品批次数和整个药液寿命期间内的磷酸药液对氧化硅膜蚀刻速率既可以达到工艺要求,又有效地改善氧化硅颗粒析出问题,提高了产品的质量和合格率。
公开/授权文献
- CN101192507A 一种半导体集成线路制造中磷酸液交换方法及控制程序 公开/授权日:2008-06-04
IPC分类: