发明授权
- 专利标题: 半导体装置及其制造方法
- 专利标题(英): Semiconductor device and method for manufacturing the same
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申请号: CN200710199082.7申请日: 2007-12-12
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公开(公告)号: CN101202262B公开(公告)日: 2011-06-15
- 发明人: 春日孝广
- 申请人: 新光电气工业株式会社
- 申请人地址: 日本长野县
- 专利权人: 新光电气工业株式会社
- 当前专利权人: 新光电气工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本长野县
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 陈源; 张天舒
- 优先权: 2006-333998 2006.12.12 JP
- 主分类号: H01L23/488
- IPC分类号: H01L23/488 ; H01L23/544 ; H01L21/60
摘要:
本发明涉及一种半导体装置,其包含:多个焊球,其提供在上层封装上;以及多个焊盘,其提供在下层封装上并且直接连接到所述多个焊球,其中所述多个焊盘中至少有一个用作基准标记。此外,多个焊盘中至少有一个的形状与其它焊盘的形状不同并且焊盘中至少有一个的面积大体上等于其它焊盘的面积。
公开/授权文献
- CN101202262A 半导体装置及其制造方法 公开/授权日:2008-06-18
IPC分类: