发明授权
CN101251721B 显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法
- 专利标题(英): Developing spray nozzle structure and method for spraying developing solution
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申请号: CN200810091401.7申请日: 2008-04-14
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公开(公告)号: CN101251721B公开(公告)日: 2010-09-01
- 发明人: 何松勋 , 张耿志
- 申请人: 友达光电股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹市
- 专利权人: 友达光电股份有限公司
- 当前专利权人: 友达光电股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市
- 代理机构: 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 任默闻
- 主分类号: G03F7/30
- IPC分类号: G03F7/30 ; H01L21/00 ; H01L21/84
摘要:
本发明提供一种显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法,该显影喷嘴结构包括一喷嘴腔体,具有一第一室、位于其下的一第二室、一注入管供应显影液注入所述第二室内,以及与所述第二室连通且位于所述第二室下方的一喷涂管;以及一闸门装置,设置于所述第一室与所述第二室之间,在所述闸门装置开启时,显影液中的气泡进入并集中于所述第一室,在所述闸门装置关闭时,所述第一室的气泡与第二室的显影液隔离,且第二室的显影液经由所述喷涂管向外喷涂。藉此,可大幅减少气泡随着显影液被带出至面板,故能提升工艺效率。
公开/授权文献
- CN101251721A 显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法 公开/授权日:2008-08-27
IPC分类: