发明授权
CN101381472B 一种以纳米气泡为模板制备纳米多孔聚吡咯薄膜的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种以纳米气泡为模板制备纳米多孔聚吡咯薄膜的方法
- 专利标题(英): Method for preparing nano porous polypyrrole film using nanobubbles as templates
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申请号: CN200810201271.8申请日: 2008-10-16
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公开(公告)号: CN101381472B公开(公告)日: 2011-06-29
- 发明人: 何品刚 , 惠飞 , 方禹之
- 申请人: 华东师范大学
- 申请人地址: 上海市东川路500号
- 专利权人: 华东师范大学
- 当前专利权人: 华东师范大学
- 当前专利权人地址: 上海市东川路500号
- 代理机构: 上海德昭知识产权代理有限公司
- 代理商 程宗德; 石昭
- 主分类号: C08J9/00
- IPC分类号: C08J9/00 ; C08L79/04 ; C08G73/06
摘要:
一种以纳米气泡为模板制备纳米多孔聚吡咯薄膜的方法,属于材料制备技术领域。该法利用电化学产生纳米氢气气泡作为模板和使吡咯聚合成聚吡咯薄膜,聚吡咯薄膜聚合成形后,只需将其从聚合溶液中取出,纳米氢气气泡自动逸出,便可将气泡模板去除,制得纳米多孔聚吡咯薄膜,简化了传统模板法制备过程中需用溶剂去除模板的步骤,并能避免溶剂对聚吡咯性质的影响。该法适于用来制备纳米多孔聚吡咯薄膜,这种薄膜可在制备电子器件、驱动器、传感器、超滤膜等方面得到应用。
公开/授权文献
- CN101381472A 一种以纳米气泡为模板制备纳米多孔聚吡咯薄膜的方法 公开/授权日:2009-03-11