发明公开
CN101384962A 辐射敏感性组合物和可成像材料
无效 - 撤回
- 专利标题: 辐射敏感性组合物和可成像材料
- 专利标题(英): Radiation-sensitive compositions and imageable materials
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申请号: CN200780005613.2申请日: 2007-02-06
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公开(公告)号: CN101384962A公开(公告)日: 2009-03-11
- 发明人: T·陶 , P·R·维斯特 , S·A·贝克利 , N·R·米勒
- 申请人: 伊斯曼柯达公司
- 申请人地址: 美国纽约州
- 专利权人: 伊斯曼柯达公司
- 当前专利权人: 伊斯曼柯达公司
- 当前专利权人地址: 美国纽约州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 赵苏林; 韦欣华
- 优先权: 11/356,518 2006.02.17 US
- 国际申请: PCT/US2007/003077 2007.02.06
- 国际公布: WO2007/097907 EN 2007.08.30
- 进入国家日期: 2008-08-15
- 主分类号: G03F7/029
- IPC分类号: G03F7/029 ; G03F7/031 ; G03F7/033
摘要:
负性工作辐射敏感性组合物包括聚合物粘结剂,该聚合物粘结剂包括聚合物主链和与该聚合物主链连接的由结构(I)表示的咔唑衍生物,其中Y是直接键或连接基,R1-R8独立地是氢,或烷基、烯基、芳基、卤素、氰基、烷氧基、酰基、酰氧基或羧酸酯基,或任何相邻的R1至R8基团可以一同形成碳环或杂环基团或稠合芳族环。该组合物能对最大波长为150-1500nm的辐射敏感,并且可以用来制备负性工作可成像元件,该可成像元件成像和显影为平版印刷板。
IPC分类: