辐射敏感性组合物和可成像材料
摘要:
负性工作辐射敏感性组合物包括聚合物粘结剂,该聚合物粘结剂包括聚合物主链和与该聚合物主链连接的由结构(I)表示的咔唑衍生物,其中Y是直接键或连接基,R1-R8独立地是氢,或烷基、烯基、芳基、卤素、氰基、烷氧基、酰基、酰氧基或羧酸酯基,或任何相邻的R1至R8基团可以一同形成碳环或杂环基团或稠合芳族环。该组合物能对最大波长为150-1500nm的辐射敏感,并且可以用来制备负性工作可成像元件,该可成像元件成像和显影为平版印刷板。
0/0