发明授权
CN101398633B 光刻设备和器件制造方法以及测量系统
失效 - 权利终止
- 专利标题： 光刻设备和器件制造方法以及测量系统
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申请号： CN200810166155.7申请日： 2004-10-21
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公开(公告)号： CN101398633B公开(公告)日： 2011-12-21
- 发明人: M·H·M·比姆斯 , E·A·F·范德帕斯奇
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 03078338.5 2003.10.22 EP
- 分案原申请号： 2004100877310 2004.10.21
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
本发明涉及光刻设备，它包括：辐射系统，用以提供投影辐射线束；投影系统，用以把投影线束投影在衬底的目标部分上；运动物体；位移装置，用以使运动物体在第一方向和不同于第一方向的第二方向上相对于投影系统运动；和测量装置，用以测量运动物体在基本上垂直于第一方向和第二方向的第三方向上的位移。按照本发明的光刻设备的特征在于包括编码器系统。
公开/授权文献
- CN101398633A 光刻设备和器件制造方法以及测量系统 公开/授权日：2009-04-01
IPC分类:
