发明公开
CN101405087A 光刻印刷系统
无效 - 撤回
- 专利标题： 光刻印刷系统
- 专利标题（英）： Lithography imprinting system
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申请号： CN200780009983.3申请日： 2007-04-02
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公开(公告)号： CN101405087A公开(公告)日： 2009-04-08
- 发明人: A·切罗拉 , P·B·拉德 , I·M·麦克麦基 , B·-J·乔伊
- 申请人： 分子制模股份有限公司
- 申请人地址： 美国得克萨斯州
- 专利权人： 分子制模股份有限公司
- 当前专利权人： 分子制模股份有限公司
- 当前专利权人地址： 美国得克萨斯州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 张宜红
- 优先权： 60/788,779 2006.04.03 US
- 国际申请： PCT/US2007/008075 2007.04.02
- 国际公布： WO2007/123805 EN 2007.11.01
- 进入国家日期： 2008-09-22
- 主分类号： B05D5/00
- IPC分类号： B05D5/00
摘要：
本发明涉及一种通过使用固定纳米印刷模具的模板中的凹槽或孔产生部分真空，在纳米印刷光刻模板附近产生和保持所需环境的方法和系统。
