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公开(公告)号：CN104221127B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201280062807.7
申请日：2012-12-19
申请人： 佳能纳米技术公司 , 分子制模股份有限公司
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B29D11/0074 , B29C33/3842 , B29C43/003 , B29C43/021 , B29C59/022 , B29C2033/426 , B29C2043/025 , B29C2059/023 , B29D11/00 , B29D11/00769 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0017 , Y10S977/887 , Y10S977/888
摘要： 描述了形成可用于图案化包括例如线栅偏振器(WGP)的大面积光学装置的大面积模板的方法。这些方法提供这种大面积装置的无缝图案化。
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公开(公告)号：CN101990470B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN200980112481.2
申请日：2009-04-01
申请人： 分子制模股份有限公司 , 得克萨斯州大学系统董事会
IPC分类号： B05D1/32
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： 可使可聚合材料的液滴在膜片上形成图形。可将可聚合材料的液滴分配在膜片上。可对刻印平版印刷模板施加预定的力，使得膜片上可聚合材料液滴的局部捕集最少，且液滴合并形成连续层。可聚合材料可固化以形成具有残留层和至少一个结构的图形层。
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公开(公告)号：CN104303104A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201380015762.2
申请日：2013-02-22
申请人： 佳能纳米技术公司 , 分子制模股份有限公司
发明人： 崔炳镇 , S·H·安 , M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , M·N·米勒 , S·V·斯里尼瓦桑
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： B29C59/026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： 提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
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公开(公告)号：CN1914265B
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN200580003312.7
申请日：2005-02-14
申请人： 分子制模股份有限公司 , 得克萨斯州大学系统董事会
CPC分类号： C09D11/101 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： 本发明涉及用于刻印平板印刷术的材料，其特征为，它是一种组合物，该组合物具有与之相关的粘度并包括表面活性剂、可聚合的组分和引发剂，所述引发剂对刺激有响应，并改变粘度来响应所述刺激，所述组合物在液态时粘度低于约100厘泊，蒸气压小于约20托，在固体固化态时拉伸模量大于约100MPa，断裂应力大于约3MPa，断裂伸长率大于约2％。
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公开(公告)号：CN101772733B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN200880025065.4
申请日：2008-07-18
申请人： 分子制模股份有限公司
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7049 , G03F9/7088
摘要： 一种透明的压印模板模具配置有包围有效压印区的光栅。光栅与有效区同时制造，从而相对于光栅准确限定有效区。在工具坐标中，衬底被定位于模板模具之下。传感器系统产生光能束并仅在特定的角窗处接收反射能量，而且它用于定位模板模具。扫描传感器系统以在工具坐标中定位衬底和光栅。以此方式，在工具坐标中相对于衬底确定模板模具的相对位置。然后相对于模板模具准确定位衬底。该系统可用于跟踪相对于衬底的压印图案位置，并确定图案与衬底的同心性。
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公开(公告)号：CN101868760B
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN200880117465.8
申请日：2008-11-21
申请人： 分子制模股份有限公司
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10T428/249978
摘要： 一种刻印光刻模板或刻印层叠物包含多孔材料，所述多孔材料限定出大量平均孔径至少约为0.4纳米的孔。所述多孔材料的孔隙率至少约为10％。所述多孔模板、所述多孔刻印层叠物、或者两者可以用于刻印光刻工艺，以促进夹在模板和刻印层叠物之间的气体扩散到模板、刻印层叠物、或者两者中，使得所述刻印层叠物和模板之间的可聚合材料在所述刻印层叠物和模板之间迅速地形成基本连续层。
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公开(公告)号：CN102203672A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980142766.0
申请日：2009-10-21
申请人： 分子制模股份有限公司
发明人： M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , 崔炳镇 , M·J·美斯尔
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： 使用可控的基底和/或模板的变形来压印基底的系统、方法和过程。在压印平版印刷术过程中，基底和/或模板可定位成单波形态或双波形态。
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公开(公告)号：CN102171611A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN200980139749.1
申请日：2009-09-23
申请人： 分子制模股份有限公司
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70925
摘要： 压印平版印刷术系统可提供用于固化定位在模板和基底之间的材料的能量源。此外，能量源和/或附加的能量源可用于从模板和/或基底中清除污染物。
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公开(公告)号：CN101932754A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200980104462.5
申请日：2009-02-05
申请人： 分子制模股份有限公司
IPC分类号： C23F1/12
CPC分类号： B01D19/0005 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： 本发明涉及一种通过减少存在于设置在基片上的粘性液体层的气泡，减少在印刻层中的图象失真。为此，该方法包括改变靠近粘性液体的气体的输送。具体地说，使靠近将记录图案的基片的气氛被相对于粘性液体、基片、模板或它们的组合是高溶解度或高扩散度或既是高溶解度又是高扩散度的气体充满。此外，或取代使气氛被一定气体充满，可以减小气氛的压力。
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公开(公告)号：CN101868760A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200880117465.8
申请日：2008-11-21
申请人： 分子制模股份有限公司
IPC分类号： G03C5/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10T428/249978
摘要： 一种刻印光刻模板或刻印层叠物包含多孔材料，所述多孔材料限定出大量平均孔径至少约为0.4纳米的孔。所述多孔材料的孔隙率至少约为10％。所述多孔模板、所述多孔刻印层叠物、或者两者可以用于刻印光刻工艺，以促进夹在模板和刻印层叠物之间的气体扩散到模板、刻印层叠物、或者两者中，使得所述刻印层叠物和模板之间的可聚合材料在所述刻印层叠物和模板之间迅速地形成基本连续层。
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