发明公开
CN101416121A 显影方法和显影组件
无效 - 撤回
- 专利标题: 显影方法和显影组件
- 专利标题(英): Method of development and development components
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申请号: CN200680054171.6申请日: 2006-06-28
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公开(公告)号: CN101416121A公开(公告)日: 2009-04-22
- 发明人: 大竹智 , 岛村正良 , 明石恭尚 , 齐木一纪 , 道上宁子 , 伊藤稔 , 马笼道久 , 柳濑惠理子 , 中村达哉
- 申请人: 佳能株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 优先权: 108856/2006 2006.04.11 JP
- 国际申请: PCT/JP2006/313358 2006.06.28
- 国际公布: WO2007/116537 JA 2007.10.18
- 进入国家日期: 2008-10-09
- 主分类号: G03G15/08
- IPC分类号: G03G15/08 ; G03G9/083 ; G03G9/08
摘要:
提供一种显影方法,其中将显影剂承载于显影剂承载构件上,在其上形成显影剂薄层,并使用显影剂在潜像承载构件上显影潜像。所述显影剂由含有粘合剂树脂和磁性粉末的磁性调色剂颗粒构成。所述磁性粉末在79.6kA/m(1,000奥斯特)磁场中具有67.0Am2/kg-75.0Am2/kg的饱和磁化强度并具有4.5Am2/kg以下的残余磁化强度。在显影剂承载构件的导电性树脂涂层表面形状中,当S为被其中排除超出基准面0.5×r(r:使用的调色剂的重均粒径(μm))以上的部分的精细凹凸区域面积A划分的区域的表面积时,满足1.00≤S/A≤1.65。