一种设备，包括：集成检查、材料去除和材料沉积功能。该设备沿着相同光轴执行检查、材料去除和材料沉积的操作。该设备部分地包括：一个照相机、一组透镜，以及一个或多个激光器。第一透镜用于经历检查时在目标基板上形成的结构上使照相机沿着光轴聚焦。如果确认为被检查结构为需要去除材料，则第一透镜还用于将激光束聚焦到该结构上以便去除其上出现的材料。如果确认被检查结构为需要材料沉积，则第二透镜用于将激光束聚焦到色带上以便从色带中形成的凹陷阱中将流变化合物转移到该结构。