发明公开
CN101478020A 半导体发光元件的制造方法
失效 - 放弃专利权
- 专利标题: 半导体发光元件的制造方法
- 专利标题(英): Method for manufacturing semiconductor light emitting device
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申请号: CN200810190645.0申请日: 2008-12-26
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公开(公告)号: CN101478020A公开(公告)日: 2009-07-08
- 发明人: 冈贵郁 , 楠政谕 , 川崎和重 , 阿部真司 , 佐久间仁
- 申请人: 三菱电机株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 闫小龙; 刘春元
- 优先权: 2007-338679 2007.12.28 JP; 2008-310062 2008.12.04 JP
- 主分类号: H01L33/00
- IPC分类号: H01L33/00 ; H01S5/042
摘要:
本发明涉及具有Pd电极的半导体发光元件的制造方法,其目的在于提供一种半导体发光元件的制造方法,能够以简易方法回避剥落的绝缘膜上Pd电极向半导体发光元件表面上的附着所引起的成品率降低、焊盘电极未形成部分的发生、p型接触层与焊盘电极接触的问题。该方法具备:在半导体上形成具有开口部的绝缘膜的工序;在该开口部和该绝缘膜上形成Pd电极的工序;对该绝缘膜上的该Pd电极施加物理的力,在残留该开口部的该Pd电极的状态下,将该绝缘膜上的该Pd电极剥离并除去的剥离工序。
IPC分类: