发明公开
- 专利标题: 粉体状物质源供给系统的清洗方法、存储介质、基板处理系统和基板处理方法
- 专利标题(英): Method of cleaning powdery source supply system, storage medium, substrate treating system and method of substrate treatment
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申请号: CN200880011161.3申请日: 2008-03-26
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公开(公告)号: CN101657888A公开(公告)日: 2010-02-24
- 发明人: 守屋刚 , 长谷川俊夫 , 山﨑英亮
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳
- 优先权: 092379/2007 2007.03.30 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/056509 2008.03.26
- 国际公布: WO2008/120794 JA 2008.10.09
- 进入国家日期: 2009-09-30
- 主分类号: H01L21/31
- IPC分类号: H01L21/31 ; C23C16/44
摘要:
本发明提供一种粉体状物质源供给系统的清洗方法,能够防止在成膜处理时从容器内或导入管内流出颗粒。基板处理系统(10)具有粉体状物质源供给系统(12)和成膜处理装置(11)。粉体状物质源供给系统包括:收容粉体状物质源(13)(羰基钨)的安瓿容器(14);向安瓿容器内供给载体气体的载体气体供给装置(16);连接安瓿容器和成膜处理装置的粉体状物质源导入管(17);从粉体状物质源导入管分支的吹扫管(19);和开闭粉体状物质源导入管的开闭阀(22)。在成膜处理前,在关闭开闭阀且对吹扫管内排气时,载体气体供给装置供给载体气体使得由载体气体作用在颗粒上的粘性力比成膜处理时由载体气体作用在颗粒上的粘性力大。
公开/授权文献
- CN101657888B 粉体状物质源供给系统的清洗方法、基板处理系统和方法 公开/授权日:2011-03-16
IPC分类: