发明授权
- 专利标题: 晶片传送装置
- 专利标题(英): Apparatus for transferring a wafer
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申请号: CN200880007932.1申请日: 2008-03-03
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公开(公告)号: CN101663745B公开(公告)日: 2011-09-07
- 发明人: 曹尚范 , 许康一 , 郑炳晋 , 安晟敦 , 张喜硕 , 崔珽晧
- 申请人: 高美科株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 高美科株式会社
- 当前专利权人: 美科陶瓷科技有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 上海金盛协力知识产权代理有限公司
- 代理商 段迎春
- 优先权: 10-2007-0023831 2007.03.12 KR
- 国际申请: PCT/KR2008/001205 2008.03.03
- 国际公布: WO2008/111752 EN 2008.09.18
- 进入国家日期: 2009-09-11
- 主分类号: H01L21/68
- IPC分类号: H01L21/68
摘要:
一种传送晶片的装置,包括陶瓷托片、电极、多个垫块、涂层以及自动臂。所述托片支撑所述晶片,并且所述电极设在所述托片内。电力施加至所述电极以生成用于保持所述晶片的静电力。所述垫块设在所述托片上,由此所述晶片与所述垫块之间具有摩擦力。所述涂层设在所述托片上。所述自动臂与所述托片连接以移动所述托片。
公开/授权文献
- CN101663745A 晶片传送装置 公开/授权日:2010-03-03
IPC分类: