- 专利标题: 晶体管结构、动态随机存取存储器结构及其制造方法
- 专利标题(英): Transistor structure, dynamic random access memory structure and manufacturing method thereof
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申请号: CN200810149419.8申请日: 2008-09-12
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公开(公告)号: CN101673744B公开(公告)日: 2011-05-18
- 发明人: 黄文魁
- 申请人: 南亚科技股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾桃园县
- 专利权人: 南亚科技股份有限公司
- 当前专利权人: 南亚科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾桃园县
- 代理机构: 北京市浩天知识产权代理事务所
- 代理商 刘云贵
- 主分类号: H01L27/108
- IPC分类号: H01L27/108 ; H01L29/78 ; H01L23/522 ; H01L21/8242 ; H01L21/336 ; H01L21/768
摘要:
本发明揭示一种晶体管结构、动态随机存取存储器结构及其制造方法。该动态随机存取存储器结构,其有源区域为环形柱体状,具有新颖的垂直式晶体管结构,其栅极填充于环形柱体的中空内部,上下源/漏极分别位于环形柱体的上下部。其埋入式位线位于晶体管结构下方的基底内,其字线是水平配置于栅极上方,其电容结构位于字线及栅极上方,经由一节点接触与上源/漏极电性连接。节点接触具有ㄇ形盖体状,并以ㄇ形盖体状的顶面与电容结构电性连接,及以ㄇ形盖体状的侧边底部与上源/漏极电性连接,字线通过节点接触ㄇ形盖体状的中空处。
公开/授权文献
- CN101673744A 晶体管结构、动态随机存取存储器结构及其制造方法 公开/授权日:2010-03-17
IPC分类: