Invention Publication
- Patent Title: 集成电路结构
- Patent Title (English): Integrated circuit structure
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Application No.: CN200910150333.1Application Date: 2009-06-23
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Publication No.: CN101752343APublication Date: 2010-06-23
- Inventor: 卓秀英
- Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
- Applicant Address: 中国台湾新竹市
- Assignee: 台湾积体电路制造股份有限公司
- Current Assignee: 台湾积体电路制造股份有限公司
- Current Assignee Address: 中国台湾新竹市
- Agency: 隆天国际知识产权代理有限公司
- Agent 姜燕; 陈晨
- Priority: 12/331,090 2008.12.09 US
- Main IPC: H01L23/522
- IPC: H01L23/522 ; H01L23/58

Abstract:
本发明提供一种集成电路结构,包括位于一半导体衬底上方的一内连线结构以及一同轴传输线。上述同轴传输线包括一信号线;一顶薄板,位于上述同轴传输线上方,且与上述同轴传输线电性绝缘;一底薄板,位于上述同轴传输线下方,且与上述同轴传输线电性绝缘。上述顶薄板和上述底薄板的至少一个包括多个金属条状遮蔽物;多个介电质条状物,每一个上述介电质条状物介于两个上述金属条状遮蔽物之间。上述集成电路结构还包括一接地导电物,电性连接至上述顶薄板和上述底薄板。上述接地导电物通过一介电材料与上述信号线绝缘。本发明可利用调整接地导电物之间的距离来调整特征阻抗和特征波长,并使同轴传输线的制造工艺与CMOS电路的制造工艺完全相容。
Public/Granted literature
- CN101752343B 集成电路结构 Public/Granted day:2011-05-11
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IPC分类: