发明授权
CN101755340B 光电转换装置及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 光电转换装置及其制造方法
- 专利标题(英): Photoelectric converting device and process for producing the photoelectric converting device
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申请号: CN200880025511.1申请日: 2008-12-05
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公开(公告)号: CN101755340B公开(公告)日: 2012-01-25
- 发明人: 鹤我薰典 , 山口贤刚 , 吴屋真之 , 坂井智嗣
- 申请人: 三菱重工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人: 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 高培培; 车文
- 优先权: 333912/2007 2007.12.26 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/072132 2008.12.05
- 国际公布: WO2009/081713 JA 2009.07.02
- 进入国家日期: 2010-01-20
- 主分类号: H01L31/04
- IPC分类号: H01L31/04
摘要:
本发明提供一种通过使开路电压增加而提高发电效率的光电转换装置。光电转换装置(100)具备层叠有p层(41)、i层(42)、n层(43)的光电转换层(3),其中,所述p层(41)为以1%以上25%以下的原子浓度含有氮原子且所述p层(41)的结晶率为0以上且不足3的含氮层。或者,所述n层(43)为以1%以上20%以下的原子浓度含有氮原子且所述n层(43)的结晶率为0以上且不足3的含氮层。或者,在所述p层(41)和所述i层(42)的界面上形成界面层,该界面层为以1%以上30%以下的原子浓度含有氮原子的含氮层。或者,在所述n层(43)和所述i层(42)的界面上形成界面层,该界面层为以1%以上20%以下的原子浓度含有氮原子的含氮层。
公开/授权文献
- CN101755340A 光电转换装置及其制造方法 公开/授权日:2010-06-23