发明公开
CN101772590A 原料气体的供给系统以及成膜装置
无效 - 撤回
- 专利标题: 原料气体的供给系统以及成膜装置
- 专利标题(英): Raw gas supply system, and filming apparatus
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申请号: CN200880100433.7申请日: 2008-09-22
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公开(公告)号: CN101772590A公开(公告)日: 2010-07-07
- 发明人: 原正道 , 五味淳 , 前川伸次 , 山本薰 , 多贺敏
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 李伟; 舒艳君
- 优先权: 2007-255059 2007.09.28 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/067118 2008.09.22
- 国际公布: WO2009/041397 JA 2009.04.02
- 进入国家日期: 2010-01-25
- 主分类号: C23C16/448
- IPC分类号: C23C16/448 ; H01L21/31
摘要:
原料气体供给系统(6),对成为减压环境的气体使用系统(2)供给原料气体。系统具有:存留液体原料或者固体原料的原料罐(40)、一端与原料罐连接而另一端与气体使用系统连接的原料通路(46)、向原料罐内供给运载气体的运载气体供给机构(54)、在原料通路的中途设置的开闭阀(48,50)、加热原料通路以及开闭阀的加热器(64)、控制加热器的温度控制部(92)。原料通路以及上述开闭阀使用具有良好导热性的金属材料形成。
IPC分类: