一种铁基纳米晶薄带及其制造方法
摘要:
本发明公开了一种铁基纳米晶薄带,其中,铁基纳米晶薄带成分按照原子个数百分比计,其化学成分表达式为:FeaSibZrcNbdBeMx,其中,76≤a≤85,0≤b+c+d≤10,3≤e≤15,0<x≤4,且a+b+c+d+e+x=100。M为Cu、Cr、V、Al中的任意一种或几种。铁基纳米晶薄带成分优选为FebalSi3.5B9Zr1.5Nb3V0.5或FebalSi3.5B9Zr1.5Nb1.5Cr1或FebalSi3B9Zr1Nb3Al2或FebalSi13.5B9Nb3Cu1。铁基纳米晶薄带的高饱和磁感应强度Bs不小于1.3T。铁基纳米晶薄带厚度为20~30微米,宽度为5~12毫米。本发明具有综合磁性能优异且温度稳定性好的特点,此外,经本发明制造方法造出的铁基纳米晶薄带,晶化效果好。
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