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发明授权
CN101796648B 用于生长垂直排列的线阵列的晶片的再利用方法 失效 - 权利终止

用于生长垂直排列的线阵列的晶片的再利用方法
摘要：
通过将线阵列转移到聚合物基体、再利用用于几个阵列生长的图案化的氧化物以及最后抛光和再氧化晶片表面并再应用图案化的氧化物，来再利用用于线阵列的形成的硅晶片。
摘要（英）：

Reusing a Si wafer for the formation of wire arrays by transferring the wire arrays to a polymer matrix, reusing a patterned oxide for several array growths, and finally polishing and reoxidizing the wafer surface and reapplying the patterned oxide.

公开/授权文献
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