Invention Grant
- Patent Title: 在SiC衬底上形成的GaN基LED
- Patent Title (English): GaN based LED formed on a SiC substrate
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Application No.: CN201010156574.XApplication Date: 2002-06-12
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Publication No.: CN101834245BPublication Date: 2013-05-22
- Inventor: D·T·埃默森 , A·C·阿贝尔 , M·J·伯格曼
- Applicant: 克里公司
- Applicant Address: 美国北卡罗莱纳
- Assignee: 克里公司
- Current Assignee: 科锐LED公司
- Current Assignee Address: 美国北卡罗莱纳
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 蔡胜有
- Priority: 60/298,835 2001.06.15 US
- The original application number of the division: 028092058 2002.06.12
- Main IPC: H01L33/04
- IPC: H01L33/04 ; H01L27/15 ; G09F9/33 ; F21S2/00 ; F21Y101/02

Abstract:
本申请公开了一种发光二极管。该二极管包括:具有第一导电类型的碳化硅衬底(21);位于SiC衬底之上的、导电类型与衬底相同的第一氮化镓层(25);在GaN层(27)上的、由选自GaN、InGaN和AlInGaN的多个交替层重复系列形成的超晶格;位于超晶格上、导电类型与第一GaN层相同的第二GaN层(30);第二GaN层上的多量子阱(31);多量子阱上的第三GaN层;位于第三GaN层(32)上、导电类型与衬底和第一GaN层相反的接触结构;对SiC衬底的欧姆接触;和对接触结构的欧姆接触。
Public/Granted literature
- CN101834245A 在SiC衬底上形成的GaN基LED Public/Granted day:2010-09-15
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