发射调谐方法和利用方法制造的器件

    公开(公告)号:CN102047456A

    公开(公告)日:2011-05-04

    申请号:CN200980121201.4

    申请日:2009-03-31

    Applicant: 克里公司

    Abstract: 一种用于制造发光二极管(LED)芯片的方法,包括典型地在晶圆上提供多个发光二极管,并用转换材料涂敷所述发光二极管,以使至少一些来自所述发光二极管的光穿过所述转换材料并被转换。来自发光二极管芯片的光发射包括来自转换材料的光,典型性地与发光二极管的光相组合。至少一些发光二极管芯片的发射特性被测量,并且发光二极管上的至少一些转换材料被移除,以改变发光二极管芯片的发射特性。本发明特别地可应用于在晶圆上制造发光二极管芯片,其中发光二极管芯片具有在目标发射特性的范围内的光发射特性。该目标范围可落入CIE曲线上的发射区域内,以减少对来自晶圆的发光二极管的装仓的需求。通过对发光二极管上的转换材料微加工,晶圆中的发光二极管芯片的发射特性可被调谐至期望的范围。

    在SiC衬底上形成的GaN基LED

    公开(公告)号:CN1505843B

    公开(公告)日:2010-05-05

    申请号:CN02809205.8

    申请日:2002-06-12

    Applicant: 克里公司

    CPC classification number: H01L33/04 H01L33/007 H01L33/12 H01L33/32 Y10S438/93

    Abstract: 本申请公开了一种发光二极管。该二极管包括:具有第一导电类型的碳化硅衬底(21);位于SiC衬底之上的、导电类型与衬底相同的第一氮化镓层(25);在GaN层(27)上的、由选自GaN、InGaN和AlInGaN的多个交替层重复系列形成的超晶格;位于超晶格上、导电类型与第一GaN层相同的第GaN层(30);第二GaN层上的多量子阱(31);多量子阱上的第三GaN层;位于第三GaN层(32)上、导电类型与衬底和第一GaN层相反的接触结构;对SiC衬底的欧姆接触;和对接触结构的欧姆接触。

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