发明公开
- 专利标题： 在基底上沉积材料的系统和方法
- 专利标题（英）： System and method for depositing a material on a substrate
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申请号： CN200980100069.9申请日： 2009-01-13
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公开(公告)号： CN101861639A公开(公告)日： 2010-10-13
- 发明人: 瑞克·C·鲍威尔
- 申请人： 第一太阳能有限公司
- 申请人地址： 美国俄亥俄州
- 专利权人： 第一太阳能有限公司
- 当前专利权人： 第一太阳能有限公司
- 当前专利权人地址： 美国俄亥俄州
- 代理机构： 北京铭硕知识产权代理有限公司
- 代理商 韩明星; 薛义丹
- 优先权： 61/021,148 2008.01.15 US
- 国际申请： PCT/US2009/030807 2009.01.13
- 国际公布： WO2009/091713 EN 2009.07.23
- 进入国家日期： 2010-02-01
- 主分类号： H01L21/263
- IPC分类号： H01L21/263
摘要：
一种在基底上沉积膜的方法和设备包括紧邻分配器设置的等离子体源，分配器被构造为在基底上提供半导体涂层。
公开/授权文献
- CN101861639B 在基底上沉积材料的系统和方法 公开/授权日：2013-07-17
IPC分类:
